Attenuating Negative Differential Resistance in an Electroactive Self-Assembled Monolayer-Based Junction

Journal of the American Chemical Society

Volumn 126, Issue 1, 2004, Pages 295-300

  Wassel, Ronald A ^a   Credo, Grace M ^a   Fuierer, Ryan R ^a   Feldheim, Daniel L ^a   Gorman, Christopher B ^a  

^a NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATTENUATION; MONOLAYERS; REDOX REACTIONS; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY;

MOLECULAR JUNCTION; NEGATIVE DIFFERENTIAL RESISTANCES (NDR);

SELF ASSEMBLY;

ALKANE; BETA CYCLODEXTRIN; FERROCENE DERIVATIVE; THIOL DERIVATIVE;

ARTICLE; CHEMICAL COMPOSITION; CHEMICAL MODIFICATION; COMPLEX FORMATION; ELECTRIC RESISTANCE; NEGATIVE DIFFERENTIAL RESISTANCE; OXIDATION REDUCTION STATE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY;

EID: 0346499265     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja037651q     Document Type: Article

References (62)

1. Sze, S. M. Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed.; John Wiley & Sons: New York, 1981.
2. Chen, J.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M. Science 1999, 286, 1550-1552.
3. Selzer, Y.; Salomon, A.; Ghabboun, J.; Cahen, D. Angew. Chem., Int. Ed. 2002, 41, 827-830.
4. Gorman, C. B.; Carroll, R. L.; Fuierer, R. R. Langmuir 2001, 17, 6923-6930.
5. Sun, J. P.; Haddad, G. I.; Mazumder, P.; Schulman, J. N. Proc. IEEE 1998. 86, 641-661.
6. Zhao, P.; Cui, H. L.; Woolard, D.; Jensen, K. L.; Buot, F. A. J. Appl. Phys. 2000, 87, 1337-1349.
7. Huang, C. Y.; Morris, J. E.; Su, Y. K.; Kuo, T. H. Electron. Lett. 1994, 30, 1012-1013.
8. Zhao, P.; Cui, H. L.; Woolard, D. L.; Jensen, K. L.; Buot, F. A. IEEE Trans. Electron Devices 2001, 48, 614-627.
9. Schulman, J. N.; Santos, H. J. D. L.; Chow, D. H. IEEE Electron Device Lett. 1996, 17, 220-222.
10. Xue, Y.; Datta, S.; Ratner, M. A. J. Chem. Phys. 2001, 115, 4292-4299.
11. Lu, X.; Hipps, K. W. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 5391-5396.
12. Song, I. K.; Kaba, M. S.; Barteau, M. A. Langmuir 2002, 18, 2358-2362.
13. Leonard, F.; Tersoff, J. Phys. Rev. Lett. 2000, 85, 4767-4770.
14. Karzazi, Y.; Cornil, J.; Brédas, J. L. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 10076-10084.
15. Paulsson, M.; Stafstrom, S. Phys. Rev. B 2001, 64, 035416.
16. Han, J. E.; Crespi, V. H. Appl. Phys. Lett. 2001, 79, 2829.
17. Seminario, J. M.; Zacarias, A. G.; Tour, J. M. J. Phys. Chem. A 1999, 103, 7883-7887.
18. Tao, N. J. Phys. Rev. Lett. 1996, 76, 4066-4069.
19. Hipps, K. W.; Barlow, D. E.; Mazur, U. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 2444-2447.
20. Scudiero, L.; Barlow, D. E.; Hipps, K. W. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 11899-11905.
21. Chen, J.; Wang, W.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Price, D. W.; Tour, J. M. Appl. Phys. Lett. 2000, 77, 1224-1226.
22. Kinne, M.; Barteau, M. A. Surf. Sci. 2000, 447, 105-111.
23. Kaba, M. S.; Song, I. K.; Barteau, M. A. J. Vac. Sci. Technol., A 1997, 15, 1299-1304.
24. Boulas, C.; Davidovits, J. V.; Rondelez, F.; Vuillaume, D. Phys. Rev. Lett. 1996, 76, 4797-4800.
25. Holmlin, E. E.; Haag, R.; Chabinye, M. L.; Ismagilov, R. F.; Cohen, A. E.; Rampi, M. A.; Terfort, A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2001. 123, 5075-5085.
26. Holmlin, R. E.; Ismagilov, R. F.; Haag, R.; Mujica, V.; Ratner, M. A.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. Angew. Chem., Int. Ed. 2001, 2316-2320.
27. Wold, D. J.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 2970-2971.
28. Wold, D. J.; Frisbie, C. D. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 5549-5556.
29. Cui, X. D.; Primak, A.; Zarate, X.; Tomfohr, J.; Sankey, O. F.; Moore, A. L.; Moore, T. A.; Gust, D.; Harris, G.; Lindsay, S. M. Science 2001, 294, 571-574.
30. Cui, X. D.; Zarate, X.; Tomfohr, J.; Sankey, O. F.; Primak, A.; Moore, A. L.; Moore, T. A.; Gust, D.; Harris, G.; Lindsay, S. M. Nanotechnology 2002, 13, 5-14.
31. Collier, C. P.; Jeppesen, J. O.; Luo, Y.; Perkins, J.; Wong, E. W.; Heath, J. R.; Stoddart, J. F. J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 12632-12641.
32. Bhatt, J.; Fung, B. M.; Nicholas, K. M. J. Organomet. Chem. 1991, 413, 263-268.
33. Ju, H.; Leech, D. Langmuir 1998, 14, 300-306.
34. Isnin, R.; Salem, C.; Kaifer, A. E. J. Org. Chem. 1991, 56, 35-41.
35. McCormack, S.; Russell, N. R.; Cassidy, J. F. Electrochim. Acta 1992, 37, 1939-1944.
36. Suzuki, I.; Chen, Q.; Ueno, A.; Osa, T. Bull. Chem. Soc. Jpn. 1993, 66, 1472-1481.
37. Matsue, T.; Evans, D. H.; Osa, T.; Kobayashi, N. J. Am. Chem. Soc. 1985, 107, 3411-3417.
38. Szejtli, J. Chem. Rev. 1998, 98, 1743-1753.
39. Schönherr, H.; Beulen, M. W. J.; Bugler, J.; Huskens, J.; van Veggel, F.; Reinhoudt, D. N.; Vancso, G. J. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 4963-4967.
40. Borgstrom, M.; Bryilert, T.; Sass, T.; Gustafson, B.; Wernersson, L.-E.; Seifert, W.; Samuelson, L. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 3232-3234.
41. Wiesendanger, R. Scanning Probe Microscopy and Spectroscopy: Methods and Applications; Cambridge University Press; Cambridge, England; New York, 1994.
42. Besenbacher, F. Rep. Prog. Phys. 1996, 59, 1737-1802.
43. Altfeder, I. B.; Golovchenko, J. A.; Narayanamurti, V. Phys. Rev. Lett. 2001, 8705, art. no.-056801.
44. Meepagala, S. C.; Real, F. Phys. Rev. B 1994, 49, 10761-10763.
45. Grandidier, B.; Nys, J. P.; Stievenard, D.; de la Broise, X.; Delerue, C.; Lannoo, M. Appl. Phys. A-Mater. Sci. Process. 1998, 66, S977-S980.
46. Stievenard, D.; Grandidier, B.; Nys, J. P.; de la Broise, X.; Delerue, C.; Lannoo, M. Appl. Phys. Lett. 1998, 72, 569-571.
47. Song, M. B.; Jang, J. M.; Bae, S. E.; Lee, C. W. Langmuir 2002, 18, 2780-2784.
48. Hahn, J. R.; Hong, Y. A.; Kang, H. Appl. Phys. A-Mater. Sci. Process. 1998, 66, S467-S472.
49. Gittins, D. I.; Bethell, D.; Schiffrin, D. J.; Nichols, R. J. Nature 2000, 408, 67-69.
50. Fan, F. R. F.; Yang, J. P.; Cai, L. T.; Price, D. W.; Dirk, S. M.; Kosynkin, D. V.; Yao, Y. X.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M.; Bard, A. J. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 5550-5560.
51. o exp(-βd) and d is the length of the molecule.
52. Olesen, L.; Brandbyge, M.; Sorensen. M. R.; Jacobsen, K. W.; Laegsgaard, E.; Stensgaard, I.; Besenbacher, F. Phys. Rev. Lett. 1996, 76, 1485-1488.
53. Olesen, L.; Laegsgaard, E.; Stensgaard, I.; Besenbacher, F. Appl. Phys. A-Mater. Sci. Process. 1998, 66, S157-S160.
54. Popenoe, D. D.; Deinhammer, R. S.; Porter, M. D. Langmuir 1992, 8, 2521-2530.
55. Ohshiro, T.; Ito, T.; Bühlmann, P.; Umezawa, Y. Anal. Chem. 2001, 73, 878-883.
56. Go, E. P.; Theuermer, K.; Reutt-Robey, J. E. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 8507-8511.
57. Jiang, P.; Liu, Z. F.; Wang, Y. C.; Cai, S. M. Mol. Cryst. Liq. Cryst. Sci. Technol., Sect. A 2001, 3337, 317-320.
58. Ito, T.; Bühlmann, P.; Umezawa, Y. Anal. Chem. 1998, 70, 255-259.
59. Ito, T.; Bühlmann, P.; Umezawa, Y. Anal. Chem. 1999, 71, 1699-1705.
60. Wong, E. W.; Collier, C. P.; Behloradsky, M.; Raymo, F. M.; Stoddart, J. F.; Heath, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 5831-5840.
61. Gorman, C. B.; Miller, R. L.; Chen, K.-Y.; Bishop, A. R.; Haasch, R. T.; Nuzzo, R. G. Langmuir 1998, 14, 3312-3319.
62. Uosaki, K.; Sato, Y.; Kita, H. Langmuir 1991, 7, 1510-1514.