Constructive Nanolithography and Nanochemistry: Local Probe Oxidation and Chemical Modification

Langmuir

Volumn 19, Issue 21, 2003, Pages 9033-9038

  Wouters, Daan ^a   Schubert, Ulrich S ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

LOCAL PROBE OXIDATION;

AMMONIUM COMPOUNDS; CHEMICAL MODIFICATION; GRAFT COPOLYMERS; LITHOGRAPHY; OXIDATION; SCANNING TUNNELING MICROSCOPY; SILANES; SILICON WAFERS;

NANOTECHNOLOGY;

EID: 0142216178     PISSN: 07437463     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/la034711x     Document Type: Article

References (27)

1. Schmidt, O. G.; Deneke, Ch.; Nakamura, Y.; Zapf-Gottwick, R.; Mueller, C.; Jin-Phillipp, N. Y. Adv. Solid State Phys. 2002, 42, 231.
2. Service, R. F. Science 2002, 298, 2322.
3. Service, R. F. Science 2001, 293, 782.
4. Ito, T.; Okazaki, S. Nature 2000, 406, 1027.
5. Langford, R. M.; Petford-Long, A. K.; Rommeswinkle, M.; Egelkamp, S. Mater. Sci. Technol. 2002, 18, 743.
6. Horstmann, J. T.; Goser, K. F. Microelectron. Eng. 2002, 61-62, 601.
7. Binnig, G.; Rohrer, H.; Gerber, Ch.; Weibel, E. Phys. Rev. Lett. 1982, 49, 57.
8. Demir, U.; Balasubramanian, K. K.; Cammarata, V.; Shannon, C. J. Vac. Sci. Technol., B 1096, 13, 1294.
9. Schoer, J. K.; Zamborini, F. P.; Crooks, R. M. J. Phys. Chem. 1996, 100, 11086.
10. Heinrich, A. J.; Lutz, C. P.; Gupta, J. A.; Eigler, D. M. Science 2002, 298, 1381.
11. Klehn, B.; Kunze, U. J. Appl. Phys. 1999, 85, 3897.
12. Heyde, M.; Rademann, K.; Cappella, B.; Geuss, M.; Sturm, H.; Spangenberg, T.; Niehus, H. Rev. Sci. Instrum. 2001, 72, 136.
13. Vettiger, P.; Brugger, J.; Despont, M.; Drechsler, U.; Durig, U.; Haberle, W.; Lutwyche, M.; Rothuizen, H.; Stutz, R.; Widmer, R.; Binnig, G. Microelectron. Eng. 1999, 46, 11.
14. Vettiger, P.; Despont, M.; Drechsler, U.; Durig, U.; Haberle, W.; Lutwyche, M. I.; Rothuizen, H. E.; Stutz, R.; Widmer, R.; Sinnig, G. K. IBM J. Res. Dev. 2000, 44, 323.
15. Durig, U.; Cross, G.; Despont, M.; Drechsler, U.; Haberle, W.; Lutwyche, M. I.; Rothuizen, H.; Stutz, R.; Widmer, R.; Vettiger, P.; Binnig, G. K.; King, W. P.; Goodson, K. E. Tribol. Lett. 2000, 9, 25.
16. Hong, S.; Mirkin, C. A. Science 2000, 288, 1808.
17. Hong, S.; Zhu, J.; Mirkin, C. A. Science 1999, 286, 523.
18. Lemeshko, S.; Gavrilov, S.; Shevyakov, V.; Roschin, V.; Solomatenko, R. Nanotechnology 2001, 12, 273.
19. Campbell, P. M.; Snow, E. S.; McMarr, P. J. Appl. Phys. Lett. 1993, 63, 749.
20. Kramer, N.; Birk, H.; Jorritsma, J.; Schönenberger, C. Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1325.
21. Sugimura, H.; Nakagiri, N. Jpn. J. Appl. Phys. 1995, 34, 3406.
22. Chien, F. S.-S.; Hsieh, W.-F.; Gwo, S.; Vladar, A. E.; Dagata, J. A. J. Appl. Phys. 2002, 91, 10044.
23. Maoz, R.; Cohen, S. R.; Sagiv, J. Adv. Mater. 1999, 11, 55.
24. Maoz, R.; Frydman, E.; Cohen, S. R.; Sagiv, J.Adv. Mater. 2000, 12, 424.
25. Fadeev, A. Y.; McCarthy, T. J. Langmuir 2000, 16, 7268.
26. Kitaev, V.; Seo, M.; McGovern, M. E.; Huang, Y.-J.; Kumacheva, E. Langmuir 2001, 17, 4274.
27. Ahn, S. J.; Jang, Y. K.; Lee, H.; Lee, H. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2592.