Mechanism for Ohmic contact formation of oxidized Ni/Au on p-type GaN

Journal of Applied Physics

Volumn 94, Issue 3, 2003, Pages 1748-1752

  Jang, Ho Won ^a   Kim, Soo Young ^a   Lee, Jong Lam ^a  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; DIFFUSION; FERMI LEVEL; GALLIUM NITRIDE; GOLD; OHMIC CONTACTS; OXIDATION; PHOTOEMISSION; SPECTROSCOPIC ANALYSIS;

HOLE CONCENTRATION;

NICKEL;

EID: 0043013153     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1586983     Document Type: Article

References (30)

1. J.-K. Ho, C.-S. Jong, C. C. Chiu, C.-N. Huang, C.-Y. Chen, and K.-K. Shih, Appl. Phys. Lett. 74, 1275 (1999).
2. J.-K. Ho, C.-S. Jong, C. C. Chiu, C.-N. Huang, K.-K. Shih, L.-C. Chen, F.-R. Chen, and J.-J. Kai, J. Appl. Phys. 86, 4491 (1999).
3. L.-C. Chen, J.-K. Ho, C.-S. Jong, C. C. Chiu, K.-K. Shih, R.-F. Chen, J.-J. Kai, and L. Chang, Appl. Phys. Lett. 76, 3703 (2000).
4. Y. Koide, T. Maeda, T. Kawakami, S. Fujita, T. Uemura, N. Shibata, and M. Murakami, J. Electron. Mater. 28, 341 (1999).
5. T. Maeda, Y. Koide, and M. Murakami, Appl. Phys. Lett. 75, 4145 (1999).
6. D. Qiao, L. S. Yu, S. S. Lau, J. Y. Lin, H. X. Jiang, and T. E. Haynes, J. Appl. Phys. 88, 4196 (2000).
7. J. K. Sheu, Y. K. Su, G. C. Chi, P. L. Koh, M. J. Jou, C. M. Chang, C. C. Liu, and W. C. Hung, Appl. Phys. Lett. 74, 2340 (1999).
8. J. S. Kwak, J. Cho, S. Chae, O. H. Nam, C. Sone, and Y. Park, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 40, 6221 (2001).
9. C. C. Kim, J. K. Kim, J.-L. Lee, J. H. Je, M. S. Yi, D. Y. Non, Y. Hwu, and P. Ruterana, Appl. Phys. Lett. 78, 3773 (2001).
10. S. H. Wang, S. E. Mohney, and R. Birkhahn, J. Appl. Phys. 91, 3711 (2002).
11. J.-L. Lee, M. Weber, J. K. Kim, J. W. Lee, Y. J. Park, T. Kim, and K. Lynn, Appl. Phys. Lett. 74, 2289 (1999).
12. J.-L. Lee, J. K. Kim, J. W. Lee, Y. J. Park, and T. Kim, Electrochem. Solid-State Lett. 3, 53 (2000).
13. C.-S. Lee, Y.-J. Lin, and C.-T. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, 3815 (2001).
14. J. K. Sheu, Y. K. Su, G. C. Chi, W. C. Chen, C. Y. Chen, C. N. Hung, J. M. Hong, Y. C. Yu, C. W. Wang, and E. K. Lin, J. Appl. Phys. 83, 3172 (1998).
15. J. K. Kim, J. H. Je, Y. J. Park, B. T. Lee, and J.-L. Lee, J. Electrochem. Soc. 147, 4645 (2000).
16. H. W. Jang, K. H. Kim, J. K. Kim, S.-W. Hwang, J. J. Yang, K. J. Lee, S.-J. Son, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 79, 1822 (2001).
17. P. J. Hartlieb, A. Roskowski, R. F. Davis, W. Platow, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 91, 732 (2002).
18. J. K. Kim and J.-L. Lee, J. Electrochem. Soc. 149, G266 (2002).
19. H. Okamoto and T. B. Massalski, Phase Diagrams of Binary Gold Alloys (ASTM International, Materials Park, OH, 1987).
20. B. Liu, M. H. Ahonen, and P. H. Holloway, MRS Internet J. Nitride Semicond. Res. 5S1, W11.78 (2000).
21. J. K. Kim, J. L. Lee, J. W. Lee, H. E. Shin, Y. J. Park, and T. Kim, Appl. Phys. Lett. 73, 2953 (1998).
22. H. W. Jang, J.-H. Lee, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 3955 (2002).
23. Y. Hagio, H. Sugahara, T. Maruyama, Y. Nanishi, K. Akimoto, T. Miyajima, and S. Kijima, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 41, 2493 (2002).
24. I. Waki, H. Fujioka, M. Oshima, H. Miki, and M. Okuyama, J. Cryst. Growth 234, 459 (2002).
25. F. R. de Boer, R. Boom, W. C. M. Mattens, A. R. Miedema, and A. K. Nielsen, Cohesion in Metals (North-Holland, Amsterdam, 1989).
26. J. F. Mouder, W. F. Strickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben, Handbook of X-Ray Photoelectron Spectroscopy (Perkin-Elmer, Eden Prairie, MN, 1992).
27. D. A. Porter and K. E. Easterling, Phase Transformations in Metals and Alloys (Chapman & Hall, London, 1992).
28. H. W. Jang, W. Urbanek, M. C. Yoo, and J.-L. Lee, Appl. Phys. Lett. 80, 2937 (2002).
29. H. W. Jang, H. K. Cho, J. Y. Lee, and J.-L. Lee, J. Electrochem. Soc. 150, G212 (2003).
30. H. W. Jang and J.-L. Lee, J. Appl. Phys. 93, 5416 (2003).