Time-resolved luminescence and photoconductivity of polycrystalline ZnO films

Journal of Applied Physics

Volumn 91, Issue 8, 2002, Pages 5060-5065

  Studenikin, S A ^a   Cocivera, Michael ^a  

^a UNIVERSITY OF GUELPH   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACTIVATED COMPLEX; BLUE LUMINESCENCE; DECAY COMPONENTS; DEPLETION LAYER; DONOR-ACCEPTOR COMPLEX; ELECTRON-HOLE RECOMBINATION; EXCITATION PULSE; EXCITATION REGIME; EXCITON RECOMBINATION; GREEN LIGHT; INTERBAND; IONIZED STATE; POLYCRYSTALLINE ZNO; POWER-LAW DEPENDENCES; PULSE INTENSITY; RELATIVE INTENSITY; ROOM TEMPERATURE; SLOW COMPONENT; STEADY-STATE LUMINESCENCE; SUBLINEAR; TIME-RESOLVED; TIME-RESOLVED LUMINESCENCE; UNDER PULSED EXCITATIONS; ZINC VACANCY; ZNO FILMS;

LUMINESCENCE; METALLIC FILMS; OXYGEN VACANCIES; PHOTOCONDUCTIVITY; ZINC;

LIGHT;

EID: 0037091482     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1461890     Document Type: Article

References (43)

1. P. H. Holloway, T. A. Trottier, B. Abrams, C. Kondoleon, S. L. Jones, J. S. Sebastian, W. J. Thomas, and H. Swart, J. Vac. Sci. Technol. B 17, 758 (1999). jvb JVTBD9 0734-211X
2. H. Cao, J. Y. Xu, D. Z. Zhang, S. H. Chang, S. T. Ho, E. W. Seelig, X. Liu, and R. P. H. Xu, Phys. Rev. Lett. 84, 5584 (2000). prl PRLTAO 0031-9007
3. D. Wiersma, Nature (London) 406, 132 (2000). nat NATUAS 0028-0836
4. W. Li et al., J. Vac. Sci. Technol. A 18, 2295 (2000). jva JVTAD6 0734-2101
5. K. K. Kim, J. H. Song, H. J. Jung, and S. J. Park, J. Appl. Phys. 87, 3573 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
6. H. Z. Wu, K. M. He, D. J. Qui, and D. M. Huang, J. Cryst. Growth 217, 131 (2000). jcr JCRGAE 0022-0248
7. S. H. Bae, S. Y. Lee, B. J. Jin, and S. Im, Appl. Surf. Sci. 154, 458 (2000). asu ASUSEE 0169-4332
8. Y. R. Ryu, S. Zhu, J. D. Budai, H. R. Chandrasekhar, P. F. Miceli, and H. W. White, J. Appl. Phys. 88, 201 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
9. B. J. Jin, S. Im, and S. Y. Lee, Thin Solid Films 366, 107 (2000). tsf THSFAP 0040-6090
10. X. W. Sun and H. S. Kwok, J. Appl. Phys. 86, 408 (1999). jap JAPIAU 0021-8979
11. K. N. Yoon and J. Y. Cho, Mater. Res. Bull. 35, 39 (2000). mrb MRBUAC 0025-5408
12. F. Paraguay, W. Estrada, D. R. Acosta, E. Andrade, and M. Miki-Yoshida, Thin Solid Films 350, 192 (1999). tsf THSFAP 0040-6090
13. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 84, 2287 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
14. A. Gulino, F. Castelli, P. Rossi, and I. Fragala, Chem. Mater. 12, 548 (2000). cma CMATEX 0897-4756
15. B. M. Ataev, I. K. Kamilov, A. M. Bagamadova, V. V. Mamedov, A. K. Omaev, and M. K. Rabadanov, Mater. Sci. Eng., B 68, 56 (1999). msb MSBTEK 0921-5107
16. Y. Liu, C. R. Gorla, S. Liang, N. Emanetoglu, Y. Lu, H. Shen, and M. Wraback, J. Electron. Mater. 29, 69 (2000). jem JECMA5 0361-5235
17. S. L. Cho, J. Ma, Y. K. Kim, Y. Sun, G. K. L. Wong, and J. B. Ketterson, Appl. Phys. Lett. 75, 2761 (1999). apl APPLAB 0003-6951
18. W. Li et al., Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 169, 59 (2000). nib NIMBEU 0168-583X
19. W. Li et al., Surf. Coat. Technol. 128, 346 (2000). sct SCTEEJ 0257-8972
20. T. Nagase, T. Ooie, Y. Nakatsuka, K. Shinozaki, and N. Mizutani, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 39, L713 (2000). jjc JAPLD8 0021-4922
21. A. Yamada and M. Konagai, Solid State Phenom. 67-8, 237 (1999). ssq DDBPE8 1012-0394
22. Y. F. Chen, D. Bagnall, and T. F. Yao, Mater. Sci. Eng., B 75, 190 (2000). msb MSBTEK 0921-5107
23. K. Iwata, P. Fons, S. Niki, A. Yamada, K. Matsubara, K. Nakahara, and H. Takasu, Phys. Status Solidi A 180, 287 (2000). psa PSSABA 0031-8965
24. T. Makino et al., J. Cryst. Growth 214, 289 (2000). jcr JCRGAE 0022-0248
25. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 83, 2104 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
26. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, J. Caruso, M. J. Hampdensmith, and T. T. Kodas, J. Lumin. 75, 11 (1977). jlu JLUMA8 0022-2313
27. Y. Chen, D. M. Bagnall, H. Koh, K. Park, K. Hiraga, and Z. Zhu, J. Appl. Phys. 84, 3912 (1998). jap JAPIAU 0021-8979
28. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, and J. A. Voit, J. Appl. Phys. 79, 7983 (1996). jap JAPIAU 0021-8979
29. H. Cao, Y. G. Zhao, H. C. Ong, S. T. Ho, J. Y. Dai, J. Y. Wu, and R. P. H. Chang, Appl. Phys. Lett. 73, 3656 (1998). apl APPLAB 0003-6951
30. H. Cao, Y. G. Zhao, S. T. Ho, E. W. Seelig, Q. H. Wang, and R. P. H. Chang, Phys. Rev. Lett. 82, 2278 (1999). prl PRLTAO 0031-9007
31. A. Mitra and R. K. Thareja, Mod. Phys. Lett. B 13, 1075 (1999). mlb MPLBET 0217-9849
32. S. A. Studenikin, N. Golego, and M. Cocivera, J. Appl. Phys. 87, 2413 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
33. S. A. Studenikin and M. Cocivera, Thin Solid Films 394, 264 (2001). tsf THSFAP 0040-6090
34. S. A. Studenikin, M. Cocivera, W. Kellner, and H. Pascher, J. Lumin. 91, 223 (2000). jlu JLUMA8 0022-2313
35. T. Sekiguchi, N. Ohashi, and Y. Terada, Mater. Sci. Forum 258-263, 1371 (1997). msf MSFOEP 0255-5476
36. F. W. Billmeyer and M. Saltzman, in Principles of Color Technology, 3rd ed., edited by R. S. Berns (Wiley, New York, 2000), p. 247.
37. D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jogai, J. E. Hoelscher, R. E. Sherriff, M. T. Harris, and M. J. Callahan, J. Appl. Phys. 88, 2152 (2000). jap JAPIAU 0021-8979
38. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, J. Phys. Chem. 104, 1715 (2000). jch JPCHAX 0022-3654
39. H. J. Egelhaaf and Oelkrug, J. Cryst. Growth 161, 190 (1996). jcr JCRGAE 0022-0248
40. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, J. Lumin. 87-9, 454 (2000). jlu JLUMA8 0022-2313
41. D. C. Reynolds, D. C. Look, B. Jogai, J. E. V. Nostrand, and J. Jones, Solid State Commun. 106, 701 (1998). ssc SSCOA4 0038-1098
42. S. B. Zhang, S. H. Wei, and A. Zunger, Phys. Rev. B 63, 075205 (2001). prb PRBMDO 0163-1829
43. C. Falcony, A. Ortiz, M. Garcia, and J. S. Helman, J. Appl. Phys. 63, 2378 (1988). jap JAPIAU 0021-8979