Amino-terminated self-assembled monolayer on a [formula omitted] surface formed by chemical vapor deposition

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 19, Issue 4, 2001, Pages 1812-1816

  Hozumi, Atsushi ^a   Yokogawa, Yoshiyuki ^a   Kameyama, Tetsuya ^a   Sugimura, Hiroyuki ^b   Hayashi, Kazuyuki ^b   Shirayama, Haruyuki ^b   Takai, Osamu ^b  

^a NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE AND TECHNOLOGY AIST   (Japan)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

SiO2

Indexed keywords

EID: 85024811287     PISSN: 07342101     EISSN: 15208559     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1336833     Document Type: Conference Paper

References (47)

1. P. C. Rieke, B. J. Tarasevich, L. L. Wood, M. H. Engelhard, D. R. Baer, G. E. Fryxell, C. M. John, D. A. Laken, and M. C. Jaehning, Langmuir LANGD5 10, 619 (1994).LANGD5
2. R. J. Collins, H. Shin, M. R. DeGuire, A. H. Heuer, and C. N. Sukenik, Appl. Phys. Lett. APPLAB 69, 860 (1996).APPLAB
3. K. Koumoto, S. Seo, T. Sugiyama, W. S. Seo, and W. J. Dressick, Chem. Mater. CMATEX 11, 2305 (1999).CMATEX
4. J. Zhang, J. Kirkham, M. L. Wallwork, D. A. Smith, S. J. Brookes, R. C. Shore, S. R. Wood, and C. Robinson, Langmuir LANGD5 15, 8178 (1999).LANGD5
5. D. Kleinfeld, K. H. Kahler, and P. E. J. Hockberger, J. Neurosci. JNRSDS 8, 4098 (1988).JNRSDS
6. C. S. Dulcey, J. H. Georger, V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare, and J. M. Calvert, Science SCIEAS 252, 551 (1991).SCIEAS
7. D. A. Stenger, J. H. Georger, C. S. Dulcey, J. J. Hickman, A. S. Rudolph, T. B. Nielsen, S. M. McCort, and J. M. Calvert, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 114, 8435 (1992).JACSAT
8. M. J. Wirth, R. W. Peter Fairbank, and H. O. Fatunmbi, Science SCIEAS 275, 44 (1997).SCIEAS
9. W. J. Dressick and J. M. Calvert, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 JAPNDE 32, 5829 (1993).JAPNDE
10. N. Ichinose, H. Sugimura, T. Uchida, N. Shimo, and H. Masuhara, Chem. Lett. CMLTAG 1993, 1961. CMLTAG
11. T. M. Bloomstein, M. W. Horn, M. Rothschild, R. R. Kunz, S. T. Palmassi, and R. B. Goodman, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 15, 2112 (1997).JVTBD9
12. B. Lee and N. A. Clark, Langmuir LANGD5 14, 5498 (1998).LANGD5
13. H. Sugimura, K. Ushiyama, A. Hozumi, and O. Takai, Langmuir LANGD5 16, 885 (2000).LANGD5
14. Z.-Q. Ouyang, J. Hu, S.-F. Chen, J.-L. Sun, and M.-Q. Li, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 15, 1385 (1997).JVTBD9
15. H. Sugimura and N. Nakagiri, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 119, 9226 (1997).JACSAT
16. M. Matsuzawa, S. Tokumitsu, W. Knoll, and H. Sasabe, Langmuir LANGD5 14, 5133 (1998).LANGD5
17. S. R. Culler, H. Ishida, and J. L. Koening, J. Colloid Interface Sci. JCISA5 106, 334 (1985).JCISA5
18. N. Balachander and C. N. Sukenik, Langmuir LANGD5 6, 1621 (1990).LANGD5
19. K. Sano, S. Machida, H. Sasaki, M. Yoshiki, and Y. Mori, Chem. Lett. CMLTAG 1992, 1477. CMLTAG
20. D. N. Durfor, D. C. Turner, J. H. Georger, B. M. Peek, and D. A. Stenger, Langmuir LANGD5 10, 148 (1994).LANGD5
21. M. Bezanilla, S. Manne, D. E. Laney, Y. L. Lyubchenco, and H. G. Hansma, Langmuir LANGD5 11, 655 (1995).LANGD5
22. T. M. Cooper, A. L. Campbell, and R. L. Crane, Langmuir LANGD5 11, 2713 (1995).LANGD5
23. K. Bierbaum, M. Grunze, A. A. Baski, L. F. Chi, W. Schrepp, and H. Fuchs, Langmuir LANGD5 11, 2143 (1995).LANGD5
24. C. P. Tripp and M. L. Hair, Langmuir LANGD5 11, 1215 (1995).LANGD5
25. V. V. Tsukruk and D. H. Reneker, Polymer POLMAG 36, 1791 (1995).POLMAG
26. K. Bierbaum, M. Kinzler, Ch. Wöll, M. Grunze, G. Hähner, S. Heid, and F. Effenberger, Langmuir LANGD5 11, 512 (1995).LANGD5
27. K. C. Vrancken, K. Possemiers, P. Van Der Voort, and E. F. Vansant, Colloids Surf., A CPEAEH 98, 235 (1995).CPEAEH
28. J. Hu, M. Wang, H.-U.G. Weier, P. Frantz, W. Kolbe, D. F. Ogletree, and M. Salmeron, Langmuir LANGD5 12, 1697 (1996).LANGD5
29. Y.-C. Chang and C. W. Frank, Langmuir LANGD5 12, 5824 (1996).LANGD5
30. S. Heid, F. Effenberger, K. Bierbaum, and M. Grunze, Langmuir LANGD5 12, 2118 (1996).LANGD5
31. J. H. Moon, J. W. Shin, S. Y. Kim, and J. W. Park, Langmuir LANGD5 12, 4621 (1996).LANGD5
32. A. L. Vinson, L. M. Lander, M. D. Foster, W. J. Brittain, E. A. Vogler, C. F. Majkrzak, and S. Satija, Langmuir LANGD5 12, 2256 (1996).LANGD5
33. V. V. Tsukruk, V. N. Bliznyuk, D. Visser, A. L. Campbell, T. J. Bunning, and W. W. Adams, Macromolecules MAMOBX 30, 6615 (1997).MAMOBX
34. O. S. Rodriguez-Fernandez and M. Gilbert, J. Appl. Polym. Sci. JAPNAB 66, 2121 (1997).JAPNAB
35. A. Heise, H. Menzel, H. Yim, M. D. Foster, R. H. Wieringa, A. J. Schouten, V. Erb, and M. Stamm, Langmuir LANGD5 13, 723 (1997).LANGD5
36. Y.-C. Chang and C. W. Frank, Langmuir LANGD5 14, 326 (1998).LANGD5
37. V. V. Tsukruk and V. N. Bliznyuk, Langmuir LANGD5 14, 446 (1998).LANGD5
38. R. Hild, C. David, H. U. Müller, B. Völkel, D. R. Kayser, and M. Grunze, Langmuir LANGD5 14, 342 (1998).LANGD5
39. D. F. Siqueira Petri, G. Wenz, P. Schunk, and T. Schimmel, Langmuir LANGD5 15, 4520 (1999).LANGD5
40. I. Haller, J. Am. Chem. Soc. JACSAT 100, 8050 (1978).JACSAT
41. D. G. Kurth and T. Bein, Langmuir LANGD5 9, 2965 (1993).LANGD5
42. R. H. Wieringa and A. J. Schouten, Macromolecules MAMOBX 29, 3032 (1996).MAMOBX
43. A. Holländer, J. E. Klemberg-Sapieha, and M. R. Wertheimer, Macromolecules MAMOBX 27, 2893 (1994).MAMOBX
44. A. Hozumi, K. Ushiyama, H. Sugimura, and O. Takai, Langmuir LANGD5 15, 7600 (1999).LANGD5
45. H. Sugimura, A. Hozumi, and O. Takai, IEICE Trans. Electron. IELEEJ E83-C, 1099 (2000).IELEEJ
46. S. L. Brandow, M.-S. Chen, R. Aggarwal, C. S. Dulcey, J. M. Calvert, and W. J. Dressick, Langmuir LANGD5 15, 5429 (1999).LANGD5
47. H. Sugimura and N. Nakagiri, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. APAMFC 66, S427 (1998).APAMFC