Electron-beam induced deposition and autocatalytic decomposition of Co(CO)3NO

Beilstein Journal of Nanotechnology

Volumn 5, Issue 1, 2014, Pages 1175-1185

  Vollnhals, Florian ^a   Drost, Martin ^a   Tu, Fan ^a   Carrasco, Esther ^a   Späth, Andreas ^a   Fink, Rainer H ^a   Steinrück, Hans Peter ^a   Marbach, Hubertus ^a  

^a UNIVERSITY OF ERLANGEN NUREMBERG   (Germany)

Author keywords

autocatalytic growth; Cobalt tricarbonyl nitrosyl; Electron beam induced deposition; Nanofabrication; Scanning transmission X ray microscopy

Indexed keywords

DEPOSITS; ELECTRON BEAMS; NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SILICON NITRIDE;

AUTOCATALYTIC; AUTOCATALYTIC DECOMPOSITIONS; COBALT TRICARBONYL NITROSYL; ELECTRON BEAM-INDUCED DEPOSITION; NEAR-EDGE X-RAY ABSORPTION FINE STRUCTURE SPECTROSCOPIES; SCANNING TRANSMISSION X RAY MICROSCOPY; SILICON NITRIDE MEMBRANE; ULTRAHIGH VACUUM CONDITIONS;

SILICON WAFERS;

EID: 84905282981     PISSN: None     EISSN: 21904286     Source Type: Journal    
DOI: 10.3762/bjnano.5.129     Document Type: Article

References (34)

1. Utke, I.; Hoffmann, P.; Melngailis, J. J. Vac. Sci. Technol., B 2008, 26, 1197-1276. doi:10.1116/1.2955728
2. van Dorp, W. F.; Hagen, C. W. J. Appl. Phys. 2008, 104, 081301-081342. doi:10.1063/1.2977587
3. Botman, A.; Mulders, J. J. L.; Hagen, C. W. Nanotechnology 2009, 20, 372001. doi:10.1088/0957-4484/20/37/372001
4. Randolph, S. J.; Fowlkes, J. D.; Rack, P. D. Crit. Rev. Solid State Mater. Sci. 2006, 31, 55-89. doi:10.1080/10408430600930438
5. Huth, M.; Porrati, F.; Schwalb, C.; Winhold, M.; Sachser, R.; Dukic, M.; Adams, J.; Fantner, G. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 597-619. doi:10.3762/bjnano.3.70
6. Lukasczyk, T.; Schirmer, M.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. Small 2008, 4, 841-846. doi:10.1002/smll.200701095
7. Walz, M.-M.; Schirmer, M.; Vollnhals, F.; Lukasczyk, T.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. Angew. Chem., Int. Ed. 2010, 49, 4669-4673. doi:10.1002/anie.201001308
8. Vollnhals, F.; Wintrich, P.; Walz, M.-M.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. Langmuir 2013, 29, 12290-12297. doi:10.1021/la4028095
9. Gavagnin, M.; Wanzenboeck, H. D.; Belic, D.; Bertagnolli, E. ACS Nano 2013, 7, 777-784. doi:10.1021/nn305079a
10. Belova, L. M.; Dahlberg, E. D.; Riazanova, A.; Mulders, J. J. L.; Christophersen, C.; Eckert, J. Nanotechnology 2011, 22, 145305. doi:10.1088/0957-4484/22/14/145305
11. Fernández-Pacheco, A.; De Teresa, J. M.; Córdoba, R.; Ibarra, M. R. J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 055005. doi:10.1088/0022-3727/42/5/055005
12. Mulders, J. J. L.; Veerhoek, J. M.; Bosch, E. G. T.; Trompenaars, P. H. F. J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 475301. doi:10.1088/0022-3727/45/47/475301
13. van Dorp, W. F.; van Someren, B.; Hagen, C. W.; Kruit, P.; Crozier, P. A. Nano Lett. 2005, 5, 1303-1307. doi:10.1021/nl050522i
14. Koops, H. W. P.; Hoinkis, O. E.; Honsberg, M. E. W.; Schmidt, R.; Blum, R.; Böttger, G.; Kuligk, A.; Liguda, C.; Eich, M. Microelectron. Eng. 2001, 57-58, 995-1001. doi:10.1016/S0167-9317(01)00565-2
15. Muthukumar, K.; Jeschke, H. O.; Valenti, R.; Begun, E.; Schwenk, J.; Porrati, F.; Huth, M. Beilstein J. Nanotechnol. 2012, 3, 546-555. doi:10.3762/bjnano.3.63
16. Walz, M.-M.; Vollnhals, F.; Rietzler, F.; Schirmer, M.; Kunzmann, A.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 225306. doi:10.1088/0022-3727/45/22/225306
17. Walz, M.-M.; Vollnhals, F.; Rietzler, F.; Schirmer, M.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 053118. doi:10.1063/1.3681593
18. Walz, M.-M.; Vollnhals, F.; Schirmer, M.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. Phys. Chem. Chem. Phys. 2011, 13, 17333-17338. doi:10.1039/c1cp20865a
19. Vollnhals, F.; Woolcot, T.; Walz, M.-M.; Seiler, S.; Steinrück, H.-P.; Thornton, G.; Marbach, H. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 17674-17679. doi:10.1021/jp405640a
20. Engmann, S.; Stano, M.; Matejcík, Š.; Ingólfsson, O. Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 9475-9477. doi:10.1002/anie.201103234
21. Engmann, S.; Stano, M.; Papp, P.; Brunger, M. J.; Matejcík, Š.; Ingólfsson, O. J. Chem. Phys. 2013, 138, 044305. doi:10.1063/1.4776756
22. Rosenberg, S. G.; Barclay, M.; Fairbrother, D. H. J. Phys. Chem. C 2013, 117, 16053-16064. doi:10.1021/jp404905t
23. Gazzadi, G. C.; Mulders, H.; Trompenaars, P.; Ghirri, A.; Affronte, M.; Grillo, V.; Frabboni, S. J. Phys. Chem. C 2011, 115, 19606-19611. doi:10.1021/jp206562h
24. Mulders, J. J. L.; Belova, L. M.; Riazanova, A. Nanotechnology 2011, 22, 055302. doi:10.1088/0957-4484/22/5/055302
25. Gazzadi, G. C.; Mulders, J. J. L.; Trompenaars, P.; Ghirri, A.; Rota, A.; Affronte, M.; Frabboni, S. Microelectron. Eng. 2011, 88, 1955-1958. doi:10.1016/j.mee.2010.12.031
26. Ade, H.; Hitchcock, A. P. Polymer 2008, 49, 643-675. doi:10.1016/j.polymer.2007.10.030
27. Drouin, D.; Couture, A. R.; Joly, D.; Tastet, X.; Aimez, V.; Gauvin, R. Scanning 2007, 29, 92-101. doi:10.1002/sca.20000
28. Raabe, J.; Tzvetkov, G.; Flechsig, U.; Böge, M.; Jaggi, A.; Sarafimov, B.; Vernooij, M. G. C.; Huthwelker, T.; Ade, H.; Kilcoyne, D.; Tyliszczak, T.; Fink, R. H.; Quitmann, C. Rev. Sci. Instrum. 2008, 79, 113704. doi:10.1063/1.3021472
29. Zheng, F.; Alayoglu, S.; Guo, J.; Pushkarev, V.; Li, Y.; Glans, P.-A.; Chen, J.-I.; Somorjai, G. Nano Lett. 2011, 11, 847-853. doi:10.1021/nl104209c
30. Friedli, V.; Utke, I. J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 125305. doi:10.1088/0022-3727/42/12/125305
31. Schirmer, M.; Walz, M.-M.; Papp, C.; Kronast, F.; Gray, A. X.; Balke, B.; Cramm, S.; Fadley, C. S.; Steinrück, H.-P.; Marbach, H. Nanotechnology 2011, 22, 475304. doi:10.1088/0957-4484/22/47/475304
32. Chantler, C. T.; Olsen, K.; Dragoset, R. A.; Chang, J.; Kishore, A. R.; Kotochigova, S. A.; Zucker, D. S. X-Ray Form Factor, Attenuation and Scattering Tables (version 2.1). http://physics.nist.gov/ffast (accessed Jan 13, 2014).
33. Chantler, C. T. J. Synchrotron Radiat. 2001, 8, 1124. doi:10.1107/S0909049501008305
34. Chantler, C. T. J. Phys. Chem. Ref. Data 1995, 24, 71-643. doi:10.1063/1.555974