Cross-linked ultrathin polyurea films via molecular layer deposition

Macromolecules

Volumn 46, Issue 14, 2013, Pages 5638-5643

  Zhou, Han ^a   Toney, Michael F ^b   Bent, Stacey F ^c  

^a STANFORD UNIVERSITY   (United States)

^b SLAC NATIONAL ACCELERATOR LABORATORY   (United States)

^c Stanford University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CHEMICAL COMPOSITIONS; CONSTANT GROWTH RATES; CROSS-LINKED POLYMERS; DECOMPOSITION TEMPERATURE; MOLECULAR LAYER DEPOSITION; MOLECULAR LAYER DEPOSITIONS (MLD); TRIETHYLENETETRAMINE; TRIS(2-AMINOETHYL) AMINE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; DEPOSITION; FILM GROWTH; LIGHT ABSORPTION; METABOLISM; UREA; VAPORS;

ULTRATHIN FILMS;

EID: 84880666487     PISSN: 00249297     EISSN: 15205835     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ma400998m     Document Type: Article

References (43)

1. Richert, L.; Engler, A. J.; Discher, D. E.; Picart, C. Biomacromolecules 2004, 5 (5) 1908-1916
2. Chan, K.; Gleason, K. K. Langmuir 2005, 21 (19) 8930-8939
3. Yoon, M. H.; Yan, H.; Facchetti, A.; Marks, T. J. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127 (29) 10388-10395
4. Sakai, Y.; Sadaoka, Y.; Matsuguchi, M. Sens. Actuators, B 1996, 35 (1-3) 85-90
5. Geise, G. M.; Lee, H. S.; Miller, D. J.; Freeman, B. D.; Mcgrath, J. E.; Paul, D. R. J. Polym. Sci., Polym. Phys. 2010, 48 (15) 1685-1718
6. Qian, H.; Li, S.; Zheng, J.; Zhang, S. Langmuir 2012, 28 (51) 17803-17810
7. Winkleman, A.; Perez-Castillejos, R.; Lahav, M.; Narovlyansky, M.; Rodriguez, L. N. J.; Whitesides, G. M. Soft Matter 2007, 3 (1) 108-116
8. Al Akhrass, S.; Gal, F.; Damiron, D.; Alcouffe, P.; Hawker, C. J.; Cousin, F.; Carrot, G.; Drockenmuller, E. Soft Matter 2009, 5 (3) 586-592
9. Johnson, P. M.; Yoon, J.; Kelly, J. Y.; Howarter, J. A.; Stafford, C. M. J. Polym. Sci., Polym. Phys. 2012, 50 (3) 168-173
10. Chan, E. P.; Lee, J. H.; Chung, J. Y.; Stafford, C. M. Rev. Sci. Instrum. 2012, 83, 11
11. Kim, M.; Byeon, M.; Bae, J. S.; Moon, S. Y.; Yu, G.; Shin, K.; Basarir, F.; Yoon, T. H.; Park, J. W. Macromolecules 2011, 44 (18) 7092-7095
12. Ritala, M.; Leskela, M. Atomic Layer Deposition. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, CA, 2002; Vol. 1.
13. Shao, H. I.; Umemoto, S.; Kikutani, T.; Okui, N. Polymer 1997, 38 (2) 459-462
14. Kubono, A.; Yuasa, N.; Shao, H. L.; Umemoto, S.; Okui, N. Thin Solid Films 1996, 289 (1-2) 107-111
15. Adarnczyk, N. M.; Dameron, A. A.; George, S. M. Langmuir 2008, 24 (5) 2081-2089
16. Du, Y.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2007, 111 (24) 8509-8517
17. Yoshimura, T.; Tatsuura, S.; Sotoyama, W. Appl. Phys. Lett. 1991, 59 (4) 482-484
18. aBitzer, T.; Richardson, N. V. Appl. Phys. Lett. 1997, 71 (13) 1890-1892
19. Bitzer, T.; Richardson, N. V. Appl. Surf. Sci. 1999, 144-45, 339-343
20. Kim, A.; Filler, M. A.; Kim, S.; Bent, S. F. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127 (16) 6123-6132
21. Loscutoff, P. W.; Zhou, H.; Clendenning, S. B.; Bent, S. F. ACS Nano 2010, 4 (1) 331-341
22. Usui, H. Thin Solid Films 2000, 365 (1) 22-29
23. Zhou, H.; Bent, S. F. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3 (2) 505-511
24. Loscutoff, P. W.; Lee, H.-B.-R.; Bent, S. F. Chem. Mater. 2010, 22 (19) 5563-5569
25. Lee, J. S.; Lee, Y. J.; Tae, E. L.; Park, Y. S.; Yoon, K. B. Science 2003, 301 (5634) 818-821
26. Zhou, H.; Bent, S. F. J. Vac. Sci. Technol., A 2013, to be published
27. Loscutoff, P. W.; Clendenning, S. B.; Bent, S. F. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2010, 1249, 1249-F02-03
28. Zhou, H.; Blackwell, J. M.; Lee, H.-B.-R.; Bent, S. F. ACS Appl. Mater. Interfaces 2013, 5 (9) 3691-3696
29. Yu, M.; Funke, H. H.; Noble, R. D.; Falconer, J. L. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133 (6) 1748-1750
30. Ishchuk, S.; Taffa, D. H.; Hazut, O.; Kaynan, N.; Yerushalmi, R. ACS Nano 2012, 6 (8) 7263-7269
31. Qin, Y.; Yang, Y.; Scholz, R.; Pippel, E.; Lu, X. L.; Knez, M. Nano Lett. 2011, 11 (6) 2503-2509
32. Gong, B.; Spagnola, J. C.; Parsons, G. N. J. Vac. Sci. Technol., A 2012, 30 (1) 01A156
33. Cho, S.; Han, G.; Kim, K.; Sung, M. M. Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50 (12) 2742-2746
34. Yoon, K. H.; Han, K. S.; Sung, M. M. Nanoscale Res. Lett. 2012, 7, 1-6
35. Haller, I. J. Am. Chem. Soc. 1978, 100 (26) 8050-8055
36. Howarter, J. A.; Youngblood, J. P. Langmuir 2006, 22 (26) 11142-11147
37. Vandenberg, E. T.; Bertilsson, L.; Liedberg, B.; Uvdal, K.; Erlandsson, R.; Elwing, H.; Lundstrom, I. J. Colloid Interface Sci. 1991, 147 (1) 103-118
38. Danauskas, S. M.; Li, D. X.; Meron, M.; Lin, B. H.; Lee, K. Y. C. J. Appl. Crystallogr. 2008, 41, 1187-1193
39. Peng, Q.; Efimenko, K.; Genzer, J.; Parsons, G. N. Langmuir 2012, 28 (28) 10464-10470
40. Vien, D. L.; Colthup, N. B.; Fateley, W. G.; Grasselli, J. G. The Handbook of Infrared and Raman Characteristic Frequencies of Organic Molecules; Academic Press: London, 1991.
41. Coleman, M. M.; Sobkowiak, M.; Pehlert, G. J.; Painter, P. C.; Iqbal, T. Macromol. Chem. Phys. 1997, 198 (1) 117-136
42. Chan, E. P.; Young, A. P.; Lee, J.-H.; Chung, J. Y.; Stafford, C. M. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2013, 51 (6) 385-391
43. Menzies, D. J.; Nelson, A.; Shen, H.-H.; McLean, K. M.; Forsythe, J. S.; Gengenbach, T.; Fong, C.; Muir, B. W. J. R. Soc. Interface 2012, 9 (70) 1008-1019