Growth of crystalline copper silicide nanowires in high yield within a high boiling point solvent system

Chemistry of Materials

Volumn 24, Issue 22, 2012, Pages 4319-4325

  Geaney, Hugh ^a   Dickinson, Calum ^a   O'Dwyer, Colm ^a,b,c   Mullane, Emma ^a   Singh, Ajay ^a   Ryan, Kevin M ^a  

^a UNIVERSITY OF LIMERICK   (Ireland)

^b UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

^c UNIVERSITY COLLEGE CORK   (Ireland)

Author keywords

copper; high boiling point solvent synthesis; silicide nanowires

Indexed keywords

COPPER SILICIDE; CU FOIL; ELECTRICAL ANALYSIS; HIGH DENSITY; HIGH YIELD; HIGH-DENSITY ARRAYS; HIGH-RESOLUTION SCANNING ELECTRON MICROSCOPIES; LOW RESISTIVITY; NANOWIRE GROWTH; REACTION TEMPERATURE; SILICIDE NANOWIRES; SOLVENT SYSTEM; SOLVENT-BASED METHODS;

BOILING POINT; COPPER; METAL CLADDING; ORGANIC SOLVENTS; PHOTOELECTRONS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SILICIDES; SILICON; SYNTHESIS (CHEMICAL); TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

NANOWIRES;

EID: 84870153921     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm302066n     Document Type: Article

References (55)

1. Schmitt, A. L.; Higgins, J. M.; Szczech, J. R.; Jin, S. J. Mater. Chem. 2010, 20, 223-235
2. Kang, K.; Kim, S.-K.; Kim, C.-J.; Jo, M.-H. Nano Lett. 2008, 8, 431-436
3. Ouyang, L.; Thrall, E. S.; Deshmukh, M. M.; Park, H. Adv. Mater. 2006, 18, 1437-1440
4. Chou, Y.-C.; Wu, W.-W.; Cheng, S.-L.; Yoo, B.-Y.; Myung, N.; Chen, L. J.; Tu, K. N. Nano Lett. 2008, 8, 2194-2199
5. Lee, C.-Y.; Lu, M.-P.; Liao, K.-F.; Lee, W.-F.; Huang, C.-T.; Chen, S.-Y.; Chen, L.-J. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 2286-2289
6. Lu, K.-C.; Wu, W.-W.; Wu, H.-W.; Tanner, C. M.; Chang, J. P.; Chen, L. J.; Tu, K. N. Nano Lett. 2007, 7, 2389-2394
7. Kim, J.; Shin, D. H.; Lee, E. S.; Han, C. S.; Park, Y. C. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 253103
8. Wu, Y.; Xiang, J.; Yang, C.; Lu, W.; Lieber, C. M. Nature 2004, 430, 61-65
9. Zhou, S.; Liu, X.; Lin, Y.; Wang, D. Angew. Chem., Int. Ed. 2008, 47, 7681-7684
10. Szczech, J. R.; Schmitt, A. L.; Bierman, M. J.; Jin, S. Chem. Mater. 2007, 19, 3238-3243
11. Chueh, Y.-L.; Ko, M.-T.; Chou, L.-J.; Chen, L.-J.; Wu, C.-S.; Chen, C.-D. Nano Lett. 2006, 6, 1637-1644
12. Liu, Z.; Zhang, H.; Wang, L.; Yang, D. Nanotechnology 2008, 19, 375602
13. Barrett, C. A.; Gunning, R. D.; Hantschel, T.; Arstila, K.; O'Sullivan, C.; Geaney, H.; Ryan, K. M. J. Mater. Chem. 2010, 20, 135-144
14. Hymes, S.; Kumar, K. S.; Murarka, S. P.; Ding, P. J.; Wang, W.; Lanford, W. A. J. Appl. Phys. 1998, 83, 4507-4512
15. Parajuli, O.; Kumar, N.; Kipp, D.; Hahm, J. I. Appl. Phys. Lett. 2007, 90
16. Li, S.; Cai, H.; Gan, C. L.; Guo, J.; Dong, Z.; Ma, J. Cryst. Growth Des. 2010, 10, 2983-2989
17. Zhang, Z.; Wong, L. M.; Ong, H. G.; Wang, X. J.; Wang, J. L.; Wang, S. J.; Chen, H.; Wu, T. Nano Lett. 2008, 8, 3205-3210
18. Jung, S. J.; Lutz, T.; Bell, A. P.; McCarthy, E. K.; Boland, J. J. Cryst. Growth Des. 2012, 12 (6) 3076-3081
19. Wu, W.; Yu, Q. K.; Zhang, J. M.; Lian, J.; Liang, G.; Ewing, R. C.; Pei, S. S. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 3
20. Ng, P. K.; Fisher, B.; Low, K. B.; Joshi-Imre, A.; Bode, M.; Lilley, C. M. J. Appl. Phys. 2012, 111, 104301-7
21. Geaney, H.; Kennedy, T.; Dickinson, C.; Mullane, E.; Singh, A.; Laffir, F.; Ryan, K. M. Chem. Mater. 2012, 24 (11) 2204-2210
22. Tuan, H.-Y.; Korgel, B. A. Chem. Mater. 2008, 20, 1239-1241
23. Barrett, C. A.; Geaney, H.; Gunning, R. D.; Laffir, F. R.; Ryan, K. M. Chem. Commun. 2011, 47, 3843-3845
24. Geaney, H.; Dickinson, C.; Barrett, C. A.; Ryan, K. M. Chem. Mater. 2011, 23, 4838-4843
25. Geaney, H.; Dickinson, C.; Weng, W.; Kiely, C. J.; Barrett, C. A.; Gunning, R. D.; Ryan, K. M. Cryst. Growth Des. 2011, 11, 3266-3272
26. Mullane, E.; Geaney, H.; Ryan, K. M. Chem. Commun. 2012, 48, 5446-5448
27. Leung, Y.; Kwok, W.; Djurišić, A.; Phillips, D.; Chan, W. Nanotechnology 2005, 16, 579
28. Milliron, D. J.; Hughes, S. M.; Cui, Y.; Manna, L.; Li, J.; Wang, L.-W.; Paul Alivisatos, A. Nature 2004, 430, 190-195
29. Manna, L.; Scher, E. C.; Alivisatos, A. P. J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 12700-12706
30. Okamoto, H. J. Phase Equilib. 2002, 23, 281-282
31. Kim, C. J.; Kang, K.; Woo, Y. S.; Ryu, K. G.; Moon, H.; Kim, J. M.; Zang, D. S.; Jo, M. H. Adv. Mater. 2007, 19, 3637-3642
32. Liu, Z. H.; Zhang, H.; Wang, L.; Yang, D. R. Nanotechnology 2008, 19
33. Yan, X.; Yuan, H.; Wang, J.; Liu, D.; Zhou, Z.; Gao, Y.; Song, L.; Liu, L.; Zhou, W.; Wang, G. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004, 79, 1853-1856
34. Hymes, S.; Kumar, K.; Murarka, S.; Ding, P.; Wang, W.; Lanford, W. J. Appl. Phys. 1998, 83, 4507
35. Chromik, R. R.; Neils, W. K.; Cotts, E. J. J. Appl. Phys. 1999, 86, 4273-4281
36. Renard, V. T.; Jublot, M.; Gergaud, P.; Cherns, P.; Rouchon, D.; Chabli, A.; Jousseaume, V. Nat. Nano 2009, 4, 654-657
37. Wen, C. Y.; Reuter, M. C.; Tersoff, J.; Stach, E. A.; Ross, F. M. Nano Lett. 2009, 10, 514-519
38. Arbiol, J.; Kalache, B.; Cabarrocas, P. R. i.; Morante, J. R.; Morral, A. F. i. Nanotechnology 2007, 18, 305606
39. Singh, A.; Dickinson, C.; Ryan, K. M. ACS Nano 2012, 6, 3339-3345
40. Chen, X.; Kim, M. H.; Zhang, X.; Larson, C.; Yu, D.; Wodtke, A. M.; Moskovits, M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 13797-13800
41. Bomben, K. D.; Chastain, J.; Moulder, J.; Sobol, P.; Stickle, W., Eds.; Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy; Perkin-Elmer Corporation, Physical Electronics Division: Eden Prairie, MN, 1992
42. Sarkar, D. K.; Bera, S.; Narasimhan, S. V.; Chowdhury, S.; Gupta, A.; Nair, K. G. M. Solid State Commun. 1998, 107, 413-416
43. Shin, D.-W.; Wang, S. X.; Marshall, A. F.; Kimura, W.; Dong, C.; Augustsson, A.; Guo, J. Thin Solid Films 2005, 473, 267-271
44. Wen, C. Y.; Reuter, M. C.; Tersoff, J.; Stach, E. A.; Ross, F. M. Nano Lett. 2010, 10, 514-519
45. Xia, Y.; Yang, P.; Sun, Y.; Wu, Y.; Mayers, B.; Gates, B.; Yin, Y.; Kim, F.; Yan, H. Adv. Mater. 2003, 15, 353-389
46. Guiton, B. S.; Gu, Q.; Prieto, A. L.; Gudiksen, M. S.; Park, H. J. Am. Chem. Soc. 2004, 127, 498-499
47. Pan, Z. W.; Dai, Z. R.; Wang, Z. L. Science 2001, 291, 1947
48. Struthers, J. J. Appl. Phys. 1956, 27, 1560
49. Hocine, S.; Mathiot, D. Appl. Phys. Lett. 1988, 53, 1269-1271
50. Conzelmann, H.; Graff, K.; Weber, E. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1983, 30, 169-175
51. Schmitt, A. L.; Bierman, M. J.; Schmeisser, D.; Himpsel, F. J.; Jin, S. Nano Lett. 2006, 6, 1617-1621
52. Chang, C.-M.; Chang, Y.-C.; Lee, C.-Y.; Yeh, P.-H.; Lee, W.-F.; Chen, L.-J. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 9153-9156
53. Schmitt, A. L.; Zhu, L.; Schmeisser, D.; Himpsel, F. J.; Jin, S. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 18142-18146
54. Okino, H.; Matsuda, I.; Hobara, R.; Hosomura, Y.; Hasegawa, S.; Bennett, P. A. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 3
55. Morimoto, T.; Ohguro, T.; Momose, H. S.; Iinuma, T.; Kunishima, I.; Suguro, K.; Katakabe, I.; Nakajima, H.; Tsuchiaki, M.; Ono, M.; Katsumata, Y.; Iwai, H. IEEE Trans. Electron Devices 1995, 42, 915-922