-
2
-
-
0001117790
-
-
Odom, T. W.; Huang, J.-L.; Kim, P.; Lieber, C. M. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 2794-2809.
-
(2000)
J. Phys. Chem. B
, vol.104
, pp. 2794-2809
-
-
Odom, T.W.1
Huang, J.-L.2
Kim, P.3
Lieber, C.M.4
-
3
-
-
0033051026
-
-
Hu, J.; Odom, T. W.; Lieber, C. M. Acc. Chem. Res. 1999, 32, 435-445.
-
(1999)
Acc. Chem. Res.
, vol.32
, pp. 435-445
-
-
Hu, J.1
Odom, T.W.2
Lieber, C.M.3
-
4
-
-
0034594990
-
-
Peng, X.; Manna, L.; Yang, W.; Wickham, J.; Sher, E.; Kadavanich, A.; Alivisatos, A. P. Nature 2000, 404, 59-61.
-
(2000)
Nature
, vol.404
, pp. 59-61
-
-
Peng, X.1
Manna, L.2
Yang, W.3
Wickham, J.4
Sher, E.5
Kadavanich, A.6
Alivisatos, A.P.7
-
5
-
-
0035896386
-
-
Puntes, V. F.; Krishnan, K. M.; Alivisatos, A. P. Science 2001, 291, 2115-2117.
-
(2001)
Science
, vol.291
, pp. 2115-2117
-
-
Puntes, V.F.1
Krishnan, K.M.2
Alivisatos, A.P.3
-
6
-
-
0742269401
-
-
Wang, J.; Tian, M.; Mallouk, T. E.; Chan, M. H. W. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 841-845.
-
(2004)
J. Phys. Chem. B
, vol.108
, pp. 841-845
-
-
Wang, J.1
Tian, M.2
Mallouk, T.E.3
Chan, M.H.W.4
-
7
-
-
0033821656
-
-
Satishkumar, B. C.; Govindaraj, A.; Nath, M.; Rao, C. N. R. J. Mater Chem. 2000, 10, 2115-2119.
-
(2000)
J. Mater Chem.
, vol.10
, pp. 2115-2119
-
-
Satishkumar, B.C.1
Govindaraj, A.2
Nath, M.3
Rao, C.N.R.4
-
8
-
-
0035831290
-
-
Pan, Z. W.; Dai, Z. R.; Wang, Z. L. Science 2001, 291, 1947-1949.
-
(2001)
Science
, vol.291
, pp. 1947-1949
-
-
Pan, Z.W.1
Dai, Z.R.2
Wang, Z.L.3
-
9
-
-
0035126240
-
-
Huang, M. H.; Wu, Y.; Feick, H.; Tran, N.; Weber, E.; Yang, P. Adv. Mater. 2001, 13, 113-116.
-
(2001)
Adv. Mater.
, vol.13
, pp. 113-116
-
-
Huang, M.H.1
Wu, Y.2
Feick, H.3
Tran, N.4
Weber, E.5
Yang, P.6
-
10
-
-
0037138627
-
-
Urban, J. J.; Yun, W. S.; Gu, Q.; Park, H. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 1186-1187.
-
(2002)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.124
, pp. 1186-1187
-
-
Urban, J.J.1
Yun, W.S.2
Gu, Q.3
Park, H.4
-
11
-
-
0037099441
-
-
Patzke, G. R.; Krumeich, F.; Nesper, R. Angew. Chem., Int. Ed. 2002, 41, 2446-2461.
-
(2002)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.41
, pp. 2446-2461
-
-
Patzke, G.R.1
Krumeich, F.2
Nesper, R.3
-
12
-
-
0036575748
-
-
Yang, P.; Yang, H.; Mao, S.; Russo, R.; Johnson, J.; Saykally, R.; Morris, N.; Pham, J.; He, R.; Choi. H.-J. Adv. Funct. Mater. 2002, 12, 323-331.
-
(2002)
Adv. Funct. Mater.
, vol.12
, pp. 323-331
-
-
Yang, P.1
Yang, H.2
Mao, S.3
Russo, R.4
Johnson, J.5
Saykally, R.6
Morris, N.7
Pham, J.8
He, R.9
Choi, H.-J.10
-
13
-
-
0037285167
-
-
Dai, Z. R.; Pan, Z. W.; Wang, Z. L. Adv. Funct. Mater. 2003, 13, 9-24.
-
(2003)
Adv. Funct. Mater.
, vol.13
, pp. 9-24
-
-
Dai, Z.R.1
Pan, Z.W.2
Wang, Z.L.3
-
14
-
-
0344875166
-
-
Cozzoli, P. D.; Kornowski, A.; Weller, H. J. Am. Chem. Soc. 2003, 125, 14539-14548.
-
(2003)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.125
, pp. 14539-14548
-
-
Cozzoli, P.D.1
Kornowski, A.2
Weller, H.3
-
15
-
-
2442444266
-
-
Cheng, B.; Russell, J. M.; Shi, W.; Zhang, L.; Samulski, E. T. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 5972-5973.
-
(2004)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.126
, pp. 5972-5973
-
-
Cheng, B.1
Russell, J.M.2
Shi, W.3
Zhang, L.4
Samulski, E.T.5
-
17
-
-
12944291749
-
-
Zaslavsky, A., Ed.; Wiley-Interscience: New York
-
Chudnovskiy, F.; Luryi, S.; Spivak, B. In Future Trends in Microelectronics: the Nano Millenium; Zaslavsky, A., Ed.; Wiley-Interscience: New York, 2002; pp 148-155.
-
(2002)
Future Trends in Microelectronics: The Nano Millenium
, pp. 148-155
-
-
Chudnovskiy, F.1
Luryi, S.2
Spivak, B.3
-
18
-
-
12944300602
-
-
Kim, H.-T.; Chae, B.-G.; Youn, D.-H.; Maeng, S.-L.; Kim, G.; Kang, K.-Y.; Lim, Y.-S. New J. Phys. 2004, 6, 52 51-19.
-
(2004)
New J. Phys.
, vol.6
, pp. 5251-5319
-
-
Kim, H.-T.1
Chae, B.-G.2
Youn, D.-H.3
Maeng, S.-L.4
Kim, G.5
Kang, K.-Y.6
Lim, Y.-S.7
-
19
-
-
18644371954
-
-
Lopez, R.; Boatner, L. A.; Haynes, T. E.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F., Jr. J. Appl. Phys. 2002, 92, 4031-4036.
-
(2002)
J. Appl. Phys.
, vol.92
, pp. 4031-4036
-
-
Lopez, R.1
Boatner, L.A.2
Haynes, T.E.3
Feldman, L.C.4
Haglund Jr., R.F.5
-
20
-
-
0036612529
-
-
Lopez, R.; Haynes, T. E.; Boatner, L. A.; Feldman, L. C.; Haglund, R. F., Jr. Phys. Rev. A 2002, 65, 224113.
-
(2002)
Phys. Rev. A
, vol.65
, pp. 224113
-
-
Lopez, R.1
Haynes, T.E.2
Boatner, L.A.3
Feldman, L.C.4
Haglund Jr., R.F.5
-
21
-
-
0008278879
-
-
Kim, H. K.; You, H.; Chiarello, R. P.; Chang, H. L. M.; Zhang, T. J.; Lam, D. J. Phys. Rev. B 1993, 47, 12900-12907.
-
(1993)
Phys. Rev. B
, vol.47
, pp. 12900-12907
-
-
Kim, H.K.1
You, H.2
Chiarello, R.P.3
Chang, H.L.M.4
Zhang, T.J.5
Lam, D.J.6
-
22
-
-
0036915911
-
-
Gui, Z.; Gan, R.; Mo, W.; Chen, X.; Yang, L.; Zhang, S.; Hu, Y.; Wang, Z.; Fan, W. Chem. Mater. 2002, 14, 5053-5056.
-
(2002)
Chem. Mater.
, vol.14
, pp. 5053-5056
-
-
Gui, Z.1
Gan, R.2
Mo, W.3
Chen, X.4
Yang, L.5
Zhang, S.6
Hu, Y.7
Wang, Z.8
Fan, W.9
-
23
-
-
4944239640
-
-
Liu, J.; Li, Q.; Wang, T.; Yu, D.; Li, Y. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 5048-5052.
-
(2004)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.43
, pp. 5048-5052
-
-
Liu, J.1
Li, Q.2
Wang, T.3
Yu, D.4
Li, Y.5
|