Aluminum electrode modulated bipolar resistive switching of Al/fuel-assisted NiO x/ITO memory devices modeled with a dual-oxygen-reservoir structure

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 4, Issue 8, 2012, Pages 4237-4245

  Chiang, Kun Keng ^a   Chen, Jen Sue ^a   Wu, Jih Jen ^a  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

Al electrode; bipolar resistive switching; fuel assisted deposition; interfacial reaction; nickel oxide; oxygen reservoir

Indexed keywords

AL ELECTRODE; ALUMINUM ELECTRODES; CONDUCTING PATHS; CONDUCTIVE PATHS; ELECTROCHEMICAL REDOX REACTIONS; OXYGEN RESERVOIR; RESET VOLTAGE; RESISTIVE SWITCHING; RESISTIVE SWITCHING BEHAVIORS; SWITCHING OPERATIONS; XPS ANALYSIS;

ALUMINUM; FUELS; OXYGEN; REDOX REACTIONS; SURFACE CHEMISTRY; SWITCHING SYSTEMS;

NICKEL OXIDE;

EID: 84865249508     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am300946f     Document Type: Article

References (31)

1. Sawa, A. Mater. Today 2008, 11, 28-36
2. Waser, R.; Dittmann, R.; Staikov, G.; Szot, K. Adv. Mater. 2009, 21, 2632-2663
3. Waser, R.; Aono, M. Nat. Mater. 2007, 6, 833-840
4. Lee, S. R.; Char, K.; Kim, D. C.; Jung, R.; Seo, S.; Li, X. S.; Park, G.-S.; Yoo, I. K. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 202115
5. Seo, S.; Lee, M. J.; Kim, D. C.; Ahn, S. E.; Park, B.-H.; Kim, Y. S.; Yoo, I. K.; Byun, I. S.; Hwang, I. R.; Kim, S. H.; Kim, J.-S.; Choi, J. S.; Lee, J. H.; Jeon, S. H.; Hong, S. H.; Park, B. H. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 263507
6. You, Y.-H.; So, B.-S.; Hwang, J.-H.; Cho, W.; Lee, S. S.; Chung, T.-M.; Kim, C. G.; An, K.-S. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 222105
7. Lee, B.; Kang, B. S.; Benayad, A.; Lee, M. J.; Ahn, S.-E.; Kim, K. H.; Stefanovich, G.; Park, Y.; Yoo, I. K. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 042115
8. Choi, B. J.; Jeong, D. S.; Kim, S. K.; Rohde, C.; Choi, S.; Oh, J. H.; Kim, H. J.; Hwang, C. S.; Szot, K.; Waser, R.; Reichenberg, B.; Tiedke, S. J. Appl. Phys. 2005, 98, 033715
9. Kwon, D.-H.; Kim, K. M.; Jang, J. H.; Jeon, J. M.; Lee, M. H.; Kim, G. H.; Li, X.-S.; Park, G.-S.; Lee, B.; Han, S.; Kim, M.; Hwang, C. S. Nature Nanotechnol. 2010, 5, 148-153
10. Szot, K.; Rogala, M.; Speier, W.; Klusek, Z.; Besmehn, A.; Waser, R. Nanotechnology 2011, 22, 254001
11. Shang, S.; Shi, L.; Sun, J. R.; Shen, B. G.; Zhuge, F.; Li, R. W.; Zhao, Y. G. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 072103
12. Wu, W.-T.; Wu, J.-J.; Chen, J.-S. ACS Appl. Mater. Interfaces 2011, 3, 2616-2621
13. Lin, C. Y.; Wu, C. Y.; Wu, C. Y.; Lee, T. C.; Yang, F. L.; Hu, C.; Tseng, T. Y. IEEE Electron Device Lett. 2007, 28, 366-368
14. Lee, S. R.; Kim, H. M.; Bak, J. H.; Park, Y. D.; Char, K.; Park, H. W.; Kwon, D.-H.; Kim, M.; Kim, D.-C.; Seo, S.; Li, X.-S.; Park, G.-S.; Jung, R. Jpn. J. Appl. Phys. 2010, 49, 031102
15. Kim, H.; Lee, S.; Bak, J.; Jo, M.; Park, Y. D.; Char, K. Jpn. J. Appl. Phys. 2010, 49, 075801
16. Goux, L.; Lisoni, J. G.; Jurczak, M.; Wouters, D. J.; Courtade, L.; Muller, Ch. J. Appl. Phys. 2010, 107, 024512
17. Goux, L.; Polspoel, W.; Lisoni, J. G.; Chen, Y.-Y.; Pantisano, L.; Wang, X.-P.; Vandervorst, W.; Jurczak, M.; Wouters, D. J. J. Electrochem. Soc. 2010, 157, G187-G192
18. Oka, K.; Yanagida, T.; Nagashima, K.; Kanai, M.; Kawai, T.; Kim, J.-S.; Park, B. H. J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 12482-1485
19. Jeong, H. Y.; Lee, J. Y.; Choi, S.-Y. Adv. Funct. Mater. 2010, 20, 3912-3917
20. Zhang, L.; Huang, R.; Zhu, M.; Qin, S.; Kuang, Y.; Gao, D.; Shi, C.; Wang, Y. IEEE Electron Device Lett. 2010, 31, 966-968
21. Wang, L.-H.; Yang, W.; Sun, Q.-Q.; Zhou, P.; Lu, H.-L.; Ding, S.-J.; Zhang, D. W. Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 063509
22. Wu, W.-T.; Liao, W.-P.; Chen, J.-S.; Wu, J.-J. ChemPhysChem 2010, 11, 3306-3312
23. Kim, M.-G.; Kanatzidis, M. G.; Facchetti, A.; Marks, T. J. Nat. Mater. 2011, 10, 382-388
24. Chen, H.-L.; Yang, Y.-S. Thin Solid Films 2008, 516, 5590-5596
25. Moulder, J. F.; Stickle, W. F.; Sobol, P. E.; Bomben, K. D. Handbook of x-ray photoelectron spectroscopy; Physical Electronic Inc.: Eden Prairie, MN, 1995.
26. Skoog, D. A.; Holler, F. J.; Crouch, S. R. Principles of Instrumental analysis; Sixth ed., Thomson Brooks/Cole, Belmont, 2007, Ch. 21.
27. Gaskell, D. R. Introduction to the Thermodynamics of Materials; Fourth ed., Taylor & Francis, New York, 2003, Ch. 12.
28. Park, G.-S.; Li, X.-S.; Kim, D.-C.; Jung, R.-J.; Lee, M.-J.; Seo, S. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 222103
29. Akinaga, H.; Shima, H. Proceedings IEEE 2010, 98, 2237-2251
30. Chen, M.-C.; Chang, T.-C.; Huang, S.-Y.; Chen, S.-C.; Hu, C.-W.; Tsai, C.-T.; Sze, S. M. Electrochem. Solid-State Lett. 2010, 13, H191-H193
31. Lee, H. D.; Magyari-Kope, B.; Nishi, Y. Phys. Rev. B 2010, 81, 193202