Electrically pumped lasing from p-ZnO/n-GaN heterojunction diodes

Applied Physics Letters

Volumn 101, Issue 5, 2012, Pages

  Du, Guo Tong ^a,b   Zhao, Wang ^a   Wu, Guo Guang ^a   Shi, Zhi Feng ^a   Xia, Xiao Chuan ^b   Liu, Yang ^b   Liang, Hong Wei ^b   Dong, Xin ^a   Ma, Yan ^a   Zhang, Bao Lin ^a  

^a JILIN UNIVERSITY   (China)

^b DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ELECTRICALLY PUMPED; ELECTROCHEMICAL CAPACITANCE VOLTAGE; FORWARD BIAS; HETEROJUNCTION DEVICES; HETEROJUNCTION DIODES; LOW TEMPERATURE PHOTOLUMINESCENCE; P-TYPE DOPING; PHOSPHORUS-DOPED; ULTRA-VIOLET; UV EMISSIONS; ZNO;

DIODES; GALLIUM NITRIDE; LIGHT EMITTING DIODES; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PHOSPHORUS; SEMICONDUCTOR DIODES; ZINC OXIDE;

HETEROJUNCTIONS;

EID: 84864646534     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4740081     Document Type: Article

References (23)

1. D. C. Look, Mater. Sci. Eng. B 80, 383 (2001). 10.1016/S0921-5107(00) 00604-8
2. D. C. Look and B. Claflin, Phys. Status Solidi B 241, 624 (2004). 10.1002/pssb.200304271
3. A. Tsukazaki, T. Onuma, M. Ohtani, T. Makino, M. Sumiya, K. Ohtani, S. F. Chichibu, S. Fuke, Y. Segawa, H. Ohno, H. Koinuma, and M. Kawasaki, Nature Mater. 4, 42 (2005). 10.1038/nmat1284
4. K. Nakahara, S. Akasaka, H. Yuji, K. Tamura, T. Fujii, Y. Nishimoto, D. Takamizu, A. Sasaki, T. Tanabe, H. Takasu, H. Amaike, T. Onuma, S. F. Chichibu, A. Tsukazaki, A. Ohtomo, and M. Kawasaki, Appl. Phys. Lett. 97, 013501 (2010). 10.1063/1.3459139
5. J. Y. Kong, L. Li, Z. Yang, and J. L. Liu, J. Vac. Sci. Technol. B 28, C3D10 (2010). 10.1116/1.3374436
6. Y. Ryua, T. S. Lee, J. A. Lubguban, H. W. White, B. J. Kim, Y. S. Park, and C. J. Youn, Appl. Phys. Lett. 88, 241108 (2006). 10.1063/1.2210452
7. W. Zhao, L. Zhao, Z. F. Shi, X. C. Xia, X. P. Li, X. Dong, Y. C. Chang, B. L. Zhang, and G. T. Du, Appl. Surf. Sci. 257, 4685 (2011). 10.1016/j.apsusc.2010.12.122
8. J. C. Sun, J. Z. Zhao, H. W. Liang, J. M. Bian, L. Z. Hu, H. Q. Zhang, X. P. Liang, W. F. Liu, and G. T. Du, Appl. Phys. Lett. 90, 121128 (2007). 10.1063/1.2716206
9. J. C. Sun, H. W. Liang, J. Z. Zhao, J. M. Bian, Q. J. Feng, L. Z. Hua, H. Q. Zhang, X. P. Liang, Y. M. Luo, and G. T. Du, Chem. Phys. Lett. 460, 548 (2008). 10.1016/j.cplett.2008.06.039
10. X. Dong, Y. B. Liu, K. K. Huang, W. Zhao, Y. Ye, X. C. Xia, Y. T. Zhang, J. Wang, B. L. Zhang, and G. T. Du, J. Phys. D: Appl. Phys. 42, 235101 (2009). 10.1088/0022-3727/42/23/235101
11. T. P. Yang, H. C. Zhu, J. M. Bian, J. C. Sun, X. Dong, B. L. Zhang, H. W. Liang, X. P. Li, Y. G. Cui, and G. T. Du, Mater. Res. Bull. 43, 3614 (2008). 10.1016/j.materresbull.2008.02.020
12. S. P. Chang, R. W. Chuang, S. J. Chang, Y. Z. Chiou, and C. Y. Lu, Thin Solid Films 517, 5054 (2009). 10.1016/j.tsf.2009.03.059
13. S. Jha, J. C. Qian, O. Kutsay, J. Kovac, Jr., C. Y. Luan, J. A. Zapien, W. J. Zhang, S. T. Lee, and I. Bello, Nanotechnology 22, 245202 (2011). 10.1088/0957-4484/22/24/245202
14. H. Zhu, C. X. Shan, B. Yao, B. H. Li, J. Y. Zhang, Z. Z. Zhang, D. X. Zhao, D. Z. Shen, X. W. Fan, Y. M. Lu, and Z. K. Tang, Adv. Mater. 21, 1613 (2009). 10.1002/adma.200802907
15. Z. F. Shi, X. C. Xia, W. Yin, S. K. Zhang, H. Wang, J. Wang, L. Zhao, X. Dong, B. L. Zhang, and G. T. Du, Appl. Phys. Lett. 100, 101112 (2012). 10.1063/1.3694025
16. G. T. Du, Y. Ma, Y. T. Zhang, and T. P. Yang, Appl. Phys. Lett. 87, 213103 (2005). 10.1063/1.2132528
17. J. Jiang, L. P. Zhu, J. R. Wang, X. Q. Gu, X. H. Pan, Y. J. Zeng, and Z. Z. Ye, Mater. Lett. 62, 536 (2008). 10.1016/j.matlet.2007.05.085
18. D. K. Hwang, H. S. Kim, J. H. Lim, J. Y. Oh, J. H. Yang, S. J. Park, K. K. Kim, D. C. Look, and Y. S. Park, Appl. Phys. Lett. 86, 151917 (2005). 10.1063/1.1895480
19. J. C. Fan, C. Y. Zhu, S. Fung, Y. C. Zhong, K. S. Wong, Z. Xie, G. Brauer, W. Anwand, W. Skorupa, C. K. To, B. Yang, C. D. Beling, and C. C. Ling, J. Appl. Phys. 106, 073709 (2009). 10.1063/1.3236578
20. S. Chu, M. Olmedo, Z. Yang, J. Y. Kong, and J. L. Liu, Appl. Phys. Lett. 93, 181106 (2008). 10.1063/1.3012579
21. H. Zhu, C. X. Shan, J. Y. Zhang, Z. Z. Zhang, D. X. Zhao, B. H. Li, B. Yao, D. Z. Shen, X. W. Fan, Z. K. Tang, X. H. Huo, and K. L. Choy, Adv. Mater. 22, 1877 (2010). 10.1002/adma.200903623
22. J. A. Aranovich, D. G. Golmayo, A. L. Fahrenbruch, and R. H. Bube, J. Appl. Phys. 51, 4260 (1980). 10.1063/1.328243
23. D. Qiao, L. S. Yu, S. S. Lau, J. M. Redwing, J. Y. Lin, and H. X. Jiang, J. Appl. Phys. 87, 801 (2000). 10.1063/1.371944