Resistive-switching behavior in polycrystalline CaCu 3Ti 4O 12 nanorods

ACS Applied Materials and Interfaces

Volumn 3, Issue 2, 2011, Pages 500-504

  Tararam, R ^a   Joanni, E ^b   Savu, R ^c   Bueno, P R ^a   Longo, E ^a   Varela, J A ^a  

^a SÃO PAULO STATE UNIVERSITY UNESP   (Brazil)

^b Centro de Tecnologia da Informa ão Renato Archer   (Brazil)

^c UNIVERSITY OF CAMPINAS   (Brazil)

Author keywords

CCTO; Dielectric; Nanorods; Nonlinear I V; Resistive switching; RF sputtering

Indexed keywords

CCTO; DIELECTRIC; NONLINEAR I-V; RESISTIVE SWITCHING; RF-SPUTTERING;

ELECTRIC FIELDS; GRAIN BOUNDARIES; GRAIN SIZE AND SHAPE; POLYCRYSTALLINE MATERIALS; SUBSTRATES;

NANORODS;

EID: 84857763250     PISSN: 19448244     EISSN: 19448252     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/am101079g     Document Type: Article

References (35)

1. Homes, C. C.; Vogt, T.; Shapiro, S. M.; Wakimoto, S.; Ramirez, A. P. Science 2001, 293, 673.
2. Subramanian, M. A.; Li, D.; Duan, N.; Reisner, B. A.; Sleight, A. W. J. Solid State Chem. 2000, 151, 323.
3. Ramirez, A. P.; Subramanian, M. A.; Gardel, M.; Blumberg, G.; Li, D.; Vogt, T.; Shapiro, S. M. Solid State Commun. 2000, 115, 217.
4. Chung, S. Y.; Kim, I. D.; Kang, S. J. L. Nat. Mater. 2004, 3, 774.
5. Sinclair, D. C.; Adams, T. B.; Morrison, F. D.; West, A. R. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2153.
6. Joanni, E.; Savu, R.; Bueno, P. R.; Longo, E.; Varela, J. A. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 132110.
7. Parra, R.; Joanni, E.; Espinosa, J. W. M.; Tararam, R.; Cilense, M.; Bueno, P. R.; Varela, J. A.; Longo, E. J. Am. Ceram. Soc. 2008, 91, 4162.
8. Shen, Y. S.; Chiou, B. S.; Ho, C. C. Thin Solid Films 2008, 517, 1209.
9. Lo Nigro, R.; Toro, R. G.; Malandrino, G.; Fragala, I. L.; Losurdo, M.; Giangregorio, M. M.; Bruno, G.; Raineri, V.; Fiorenza, P. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 17460.
10. Chang, L. C.; Lee, D. Y.; Ho, C. C.; Chiou, B. S. Thin Solid Films 2007, 516, 454.
11. Deng, G.; Xanthopoulos, N.; Muralt, P. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 172909.
12. Prakash, B. S.; Varma, K. B. R.; Michau, D.; Maglione, M. Thin Solid Films 2008, 516, 2874.
13. Wang, N.; Cai, Y.; Zhang, R. Q. Mater. Sci. Eng., R 2008, 60, 1.
14. Xia, Y. N.; Yang, P. D.; Sun, Y. G.; Wu, Y. Y.; Mayers, B.; Gates, B.; Yin, Y. D.; Kim, F.; Yan, Y. Q. Adv. Mater. 2003, 15, 353.
15. Joanni, E.; Savu, R.; Jancar, B.; Bueno, P. R.; Varela, J. A. J. Am. Ceram. Soc. 2010, 93, 51.
16. Lin, C. C.; Lin, C. Y.; Lin, M. H.; Lin, C. H.; Tseng, T. Y. IEEE Trans. Electron Devices 2007, 54, 3146.
17. Guan, W. H.; Long, S. B.; Liu, Q.; Liu, M.; Wang, W. IEEE Electron Device Lett. 2008, 29, 434.
18. Schroeder, H.; Jeong, D. S. Microelectron. Eng. 2007, 84, 1982.
19. Park, J. W.; Park, J. W.; Kim, D. Y.; Lee, J. K. J. Vac. Sci. Technol., A 2005, 23, 1309.
20. Waser, R. Microelectron. Eng. 2009, 86, 1925.
21. Shi, J. P.; Zhao, Y. G.; Zhang, H. J.; Tian, H. F.; Zhang, X. P. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 192103.
22. Yang, J. J.; Pickett, M. D.; Li, X. M.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 429.
23. Szot, K.; Speier, W.; Bihlmayer, G.; Waser, R. Nat. Mater. 2006, 5, 312.
24. Choi, B. J.; Jeong, D. S.; Kim, S. K.; Rohde, C.; Choi, S.; Oh, J. H.; Kim, H. J.; Hwang, C. S.; Szot, K.; Waser, R.; Reichenberg, B.; Tiedke, S. J. Appl. Phys. 2005, 98, 033715.
25. Seo, S.; Lee, M. J.; Seo, D. H.; Jeoung, E. J.; Suh, D. S.; Joung, Y. S.; Yoo, I. K.; Hwang, I. R.; Kim, S. H.; Byun, I. S.; Kim, J. S.; Choi, J. S.; Park, B. H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 5655.
26. Sawa, A.; Fujii, T.; Kawasaki, M.; Tokura, Y. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4073.
27. Baikalov, A.; Wang, Y. Q.; Shen, B.; Lorenz, B.; Tsui, S.; Sun, Y. Y.; Xue, Y. Y.; Chu, C. W. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 957.
28. Bueno, P. R.; Tararam, R.; Parra, R.; Joanni, E.; Ramirez, M. A.; Ribeiro, W. C.; Longo, E.; Varela, J. A. J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 055404.
29. Cordeiro, M. A. L.; Souza, F. L.; Leite, E. R.; Lanfredi, A. J. C. Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 182912.
30. Hwang, I.; Choi, J.; Hong, S.; Kim, J. S.; Byun, I. S.; Bahng, J. H.; Koo, J. Y.; Kang, S. O.; Park, B. H. Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 053112.
31. Rozenberg, M. J.; Inoue, I. H.; Sanchez, M. J. Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 178302.
32. Marques, V. P. B.; Bueno, P. R.; Simoes, A. Z.; Cilense, M.; Varela, J. A.; Longo, E.; Leite, E. R. Solid State Commun. 2006, 138, 1.
33. Kim, I. D.; Rothschild, A.; Tuller, H. L. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 072902.
34. Zang, G. Z.; Zhang, J. L.; Zheng, P.; Wang, J. F.; Wang, C. L. J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 1824.
35. Mahan, G. D. J. Appl. Phys. 1984, 55, 980.