-
6
-
-
11144230051
-
-
A. Pirovano A. Redaelli F. Pellizzer F. Ottogalli M. Tosi D. Ielmini A. L. Lacaita R. Bez IEEE Trans. Device Mater. Reliab. 2004 4 422
-
(2004)
IEEE Trans. Device Mater. Reliab.
, vol.4
, pp. 422
-
-
Pirovano, A.1
Redaelli, A.2
Pellizzer, F.3
Ottogalli, F.4
Tosi, M.5
Ielmini, D.6
Lacaita, A.L.7
Bez, R.8
-
9
-
-
34948875674
-
-
Y. C. Chen C. T. Rettner S. Raoux G. W. Burr S. H. Chen R. M. Shelby M. Salinga W. P. Risk T. D. Happ G. M. McClelland M. Breitwisch A. Schrott J. B. Philipp M. H. Lee R. Cheek T. Nirschl M. Lamorey C. F. Chen E. Joseph S. Zaidi B. Yee H. L. Lung R. Bergmann C. Lam IEDM Tech. Dig. 2006 S30P3
-
(2006)
IEDM Tech. Dig.
-
-
Chen, Y.C.1
Rettner, C.T.2
Raoux, S.3
Burr, G.W.4
Chen, S.H.5
Shelby, R.M.6
Salinga, M.7
Risk, W.P.8
Happ, T.D.9
McClelland, G.M.10
Breitwisch, M.11
Schrott, A.12
Philipp, J.B.13
Lee, M.H.14
Cheek, R.15
Nirschl, T.16
Lamorey, M.17
Chen, C.F.18
Joseph, E.19
Zaidi, S.20
Yee, B.21
Lung, H.L.22
Bergmann, R.23
Lam, C.24
more..
-
10
-
-
80052664968
-
-
J. Liang, R. G. D. Jeyasingh, H.-Y. Chen and H. S. P. Wong, Symposium on VLSI Technology, 2011, 100
-
(2011)
Symposium on VLSI Technology
, pp. 100
-
-
Liang, J.1
Jeyasingh, R.G.D.2
Chen, H.-Y.3
Wong, H.S.P.4
-
13
-
-
0034672050
-
-
T. Thurn-Albrecht J. Schotter G. A. Kastle N. Emley T. Shibauchi L. Krusin-Elbaum K. Guarini C. T. Black M. T. Tuominen T. P. Russell Science 2000 290 2126
-
(2000)
Science
, vol.290
, pp. 2126
-
-
Thurn-Albrecht, T.1
Schotter, J.2
Kastle, G.A.3
Emley, N.4
Shibauchi, T.5
Krusin-Elbaum, L.6
Guarini, K.7
Black, C.T.8
Tuominen, M.T.9
Russell, T.P.10
-
15
-
-
49649099742
-
-
R. Ruiz H. Kang F. A. Detcheverry E. Dobisz D. S. Kercher T. R. Albrecht J. J. de Pablo P. F. Nealey Science 2008 321 936
-
(2008)
Science
, vol.321
, pp. 936
-
-
Ruiz, R.1
Kang, H.2
Detcheverry, F.A.3
Dobisz, E.4
Kercher, D.S.5
Albrecht, T.R.6
De Pablo, J.J.7
Nealey, P.F.8
-
17
-
-
60749101893
-
-
S. Park D. H. Lee J. Xu B. Kim S. W. Hong U. Jeong T. Xu T. P. Russell Science 2009 323 1030
-
(2009)
Science
, vol.323
, pp. 1030
-
-
Park, S.1
Lee, D.H.2
Xu, J.3
Kim, B.4
Hong, S.W.5
Jeong, U.6
Xu, T.7
Russell, T.P.8
-
18
-
-
77957736715
-
-
H. Arora P. Du K. W. Tan J. K. Hyun J. Grazul H. L. Xin D. A. Muller M. O. Thompson U. Wiesner Science 2010 330 214
-
(2010)
Science
, vol.330
, pp. 214
-
-
Arora, H.1
Du, P.2
Tan, K.W.3
Hyun, J.K.4
Grazul, J.5
Xin, H.L.6
Muller, D.A.7
Thompson, M.O.8
Wiesner, U.9
-
20
-
-
72949122991
-
-
S. H. Park D. O. Shin B. H. Kim D. K. Yoon K. Kim S. Y. Lee S.-H. Oh S.-W. Choi S. C. Jeon S. O. Kim Soft Matter 2010 6 120
-
(2010)
Soft Matter
, vol.6
, pp. 120
-
-
Park, S.H.1
Shin, D.O.2
Kim, B.H.3
Yoon, D.K.4
Kim, K.5
Lee, S.Y.6
Oh, S.-H.7
Choi, S.-W.8
Jeon, S.C.9
Kim, S.O.10
-
22
-
-
77956428849
-
-
S.-J. Jeong H.-S. Moon J. Shin B. H. Kim D. O. Shin J. Y. Kim Y.-H. Lee J. U. Kim S. O. Kim Nano Lett. 2010 10 3500
-
(2010)
Nano Lett.
, vol.10
, pp. 3500
-
-
Jeong, S.-J.1
Moon, H.-S.2
Shin, J.3
Kim, B.H.4
Shin, D.O.5
Kim, J.Y.6
Lee, Y.-H.7
Kim, J.U.8
Kim, S.O.9
-
23
-
-
77957304079
-
-
S.-J. Jeong H. S. Moon B. H. Kim J. Y. Kim J. Yu S. Lee M. G. Lee H. Y. Choi S. O. Kim ACS Nano 2010 4 5181
-
(2010)
ACS Nano
, vol.4
, pp. 5181
-
-
Jeong, S.-J.1
Moon, H.S.2
Kim, B.H.3
Kim, J.Y.4
Yu, J.5
Lee, S.6
Lee, M.G.7
Choi, H.Y.8
Kim, S.O.9
-
24
-
-
78650104650
-
-
J. Y. Cheng D. P. Sanders H. D. Truong S. Harrer A. Friz S. Holmes M. Colburn W. D. Hinsberg ACS Nano 2010 4 4815
-
(2010)
ACS Nano
, vol.4
, pp. 4815
-
-
Cheng, J.Y.1
Sanders, D.P.2
Truong, H.D.3
Harrer, S.4
Friz, A.5
Holmes, S.6
Colburn, M.7
Hinsberg, W.D.8
-
25
-
-
74849119167
-
-
A. J. Hong C. C. Liu Y. Wang J. Kim F. Xiu S. Ji J. Zou P. F. Nealey K. L. Wang Nano Lett. 2010 10 224
-
(2010)
Nano Lett.
, vol.10
, pp. 224
-
-
Hong, A.J.1
Liu, C.C.2
Wang, Y.3
Kim, J.4
Xiu, F.5
Ji, S.6
Zou, J.7
Nealey, P.F.8
Wang, K.L.9
-
27
-
-
36048934019
-
-
Y. Zhang H.-S. Philip Wong S. Raoux J. N. Cha C. T. Rettner L. E. Krupp T. Topuria D. J. Milliron P. M. Rice J. L. Jordan-Sweet Appl. Phys. Lett. 2007 91 013104
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 013104
-
-
Zhang, Y.1
Philip Wong, H.-S.2
Raoux, S.3
Cha, J.N.4
Rettner, C.T.5
Krupp, L.E.6
Topuria, T.7
Milliron, D.J.8
Rice, P.M.9
Jordan-Sweet, J.L.10
-
28
-
-
54049115482
-
-
Y. Zhang S. Raoux D. Krebs L. E. Krupp T. Topuria M. A. Caldwell D. J. Milliron A. Kellock P. M. Rice J. L. Jordan-Sweet H.-S. Philip Wong J. Appl. Phys. 2008 104 074312
-
(2008)
J. Appl. Phys.
, vol.104
, pp. 074312
-
-
Zhang, Y.1
Raoux, S.2
Krebs, D.3
Krupp, L.E.4
Topuria, T.5
Caldwell, M.A.6
Milliron, D.J.7
Kellock, A.8
Rice, P.M.9
Jordan-Sweet, J.L.10
Philip Wong, H.-S.11
-
30
-
-
84855367703
-
-
M. Goldman, K. Pangal, G. Naso and A. Goda, 3rd IEEE International, 2011, 1
-
(2011)
3rd IEEE International
, pp. 1
-
-
Goldman, M.1
Pangal, K.2
Naso, G.3
Goda, A.4
|