-
2
-
-
34548013325
-
-
Schulze, K.; Maennig, B.; Leo, K.; Tomita, Y.; May, C.; Hupkes, J.; Brier, E.; Reinold, E.; Bauerle, P. Appl. Phys. Lett. 2007, 91, 073521
-
(2007)
Appl. Phys. Lett.
, vol.91
, pp. 073521
-
-
Schulze, K.1
Maennig, B.2
Leo, K.3
Tomita, Y.4
May, C.5
Hupkes, J.6
Brier, E.7
Reinold, E.8
Bauerle, P.9
-
3
-
-
59349108603
-
-
Cornelius, S.; Vinnichenko, M.; Shevchenko, N.; Rogozin, A.; Kolitsch, A.; Möller, W. Appl. Phys. Lett. 2009, 94, 042103
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.94
, pp. 042103
-
-
Cornelius, S.1
Vinnichenko, M.2
Shevchenko, N.3
Rogozin, A.4
Kolitsch, A.5
Möller, W.6
-
4
-
-
33747105549
-
-
Yaglioglu, B.; Yeom, H. Y.; Beresford, R.; Paine, D. C. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 062103
-
(2006)
Appl. Phys. Lett.
, vol.89
, pp. 062103
-
-
Yaglioglu, B.1
Yeom, H.Y.2
Beresford, R.3
Paine, D.C.4
-
6
-
-
0000139470
-
-
Cebulla, R.; Wendt, R.; Ellmer, K. J. Appl. Phys. 1998, 83, 1087
-
(1998)
J. Appl. Phys.
, vol.83
, pp. 1087
-
-
Cebulla, R.1
Wendt, R.2
Ellmer, K.3
-
7
-
-
6444220325
-
-
Pearton, S. J.; Norton, D. P.; Ip, K.; Heo, Y. W.; Steiner, T. Prog. Mater. Sci. 2005, 50, 293
-
(2005)
Prog. Mater. Sci.
, vol.50
, pp. 293
-
-
Pearton, S.J.1
Norton, D.P.2
Ip, K.3
Heo, Y.W.4
Steiner, T.5
-
8
-
-
0000608957
-
-
Kobayashi, H.; Tachibana, S.; Yamanaka, K.; Nakato, Y.; Yoneda, K. J. Appl. Phys. 1997, 81, 7630
-
(1997)
J. Appl. Phys.
, vol.81
, pp. 7630
-
-
Kobayashi, H.1
Tachibana, S.2
Yamanaka, K.3
Nakato, Y.4
Yoneda, K.5
-
10
-
-
55349136594
-
-
Ilican, S.; Caglar, Y.; Caglar, M.; Demirci, B. J. Optoelectron. Adv. Mater. 2008, 10, 2592
-
(2008)
J. Optoelectron. Adv. Mater.
, vol.10
, pp. 2592
-
-
Ilican, S.1
Caglar, Y.2
Caglar, M.3
Demirci, B.4
-
11
-
-
34247579135
-
-
Ma, Q. B.; Ye, Z. Z.; He, H. P.; Hu, S. H.; Wang, J. R.; Zhu, L. P.; Zhang, Y. Z.; Zhao, B. H. J. Cryst. Growth 2007, 304, 64
-
(2007)
J. Cryst. Growth
, vol.304
, pp. 64
-
-
Ma, Q.B.1
Ye, Z.Z.2
He, H.P.3
Hu, S.H.4
Wang, J.R.5
Zhu, L.P.6
Zhang, Y.Z.7
Zhao, B.H.8
-
12
-
-
70449580897
-
-
Gao, K.; Zhang, W.; Sun, J.; Xu, N.; Ying, Z. F.; Li, Q.; Gan, J.; Wu, J. D. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 19139
-
(2009)
J. Phys. Chem. C
, vol.113
, pp. 19139
-
-
Gao, K.1
Zhang, W.2
Sun, J.3
Xu, N.4
Ying, Z.F.5
Li, Q.6
Gan, J.7
Wu, J.D.8
-
14
-
-
42349086120
-
-
Chu, S.; Lim, J. H.; Mandalapu, L. J.; Yang, Z.; Li, L.; Liu, J. L. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 152103
-
(2008)
Appl. Phys. Lett.
, vol.92
, pp. 152103
-
-
Chu, S.1
Lim, J.H.2
Mandalapu, L.J.3
Yang, Z.4
Li, L.5
Liu, J.L.6
-
15
-
-
75149185428
-
-
Na, J. -S.; Scarel, G.; Parsons, G. N. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 383
-
(2010)
J. Phys. Chem. C
, vol.114
, pp. 383
-
-
Na, J.-S.1
Scarel, G.2
Parsons, G.N.3
-
16
-
-
33847179491
-
-
Dong, B. Z.; Fang, G. J.; Wang, J. F.; Guan, W. J.; Zhao, X. Z. J. Appl. Phys. 2007, 101, 033713
-
(2007)
J. Appl. Phys.
, vol.101
, pp. 033713
-
-
Dong, B.Z.1
Fang, G.J.2
Wang, J.F.3
Guan, W.J.4
Zhao, X.Z.5
-
17
-
-
0035576095
-
-
Singh, A. V.; Mehra, R. M.; Buthrath, N.; Wakahara, A.; Yoshida, A. J. Appl. Phys. 2001, 90, 5661
-
(2001)
J. Appl. Phys.
, vol.90
, pp. 5661
-
-
Singh, A.V.1
Mehra, R.M.2
Buthrath, N.3
Wakahara, A.4
Yoshida, A.5
-
19
-
-
79959520380
-
-
Romero, R.; Lopez-Ibanez, R.; Dalchiele, E. A.; Ramos-Barrado, J. R.; Martin, F.; Leinen, D. J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 095303
-
(2010)
J. Phys. D: Appl. Phys.
, vol.43
, pp. 095303
-
-
Romero, R.1
Lopez-Ibanez, R.2
Dalchiele, E.A.3
Ramos-Barrado, J.R.4
Martin, F.5
Leinen, D.6
-
21
-
-
1842534341
-
-
Selim, M. S.; Sekhar, M. C.; Raju, A. R. Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2004, 79, 1215
-
(2004)
Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process.
, vol.79
, pp. 1215
-
-
Selim, M.S.1
Sekhar, M.C.2
Raju, A.R.3
-
22
-
-
33947190944
-
-
Shukla, R. K.; Srivastava, A.; Srivastava, A.; Dubey, K. C. J. Cryst. Growth 2006, 294, 427
-
(2006)
J. Cryst. Growth
, vol.294
, pp. 427
-
-
Shukla, R.K.1
Srivastava, A.2
Srivastava, A.3
Dubey, K.C.4
-
24
-
-
70350647325
-
-
Przezdziecka, E.; Wachnicki, L.; Paszkowicz, W.; Lusakowska, E.; Krajewski, T.; Luka, G.; Guziewicz, E.; Godlewski, M. Semicond. Sci. Technol. 2009, 24, 105014
-
(2009)
Semicond. Sci. Technol.
, vol.24
, pp. 105014
-
-
Przezdziecka, E.1
Wachnicki, L.2
Paszkowicz, W.3
Lusakowska, E.4
Krajewski, T.5
Luka, G.6
Guziewicz, E.7
Godlewski, M.8
-
25
-
-
77956336658
-
-
Banerjee, P.; Lee, W.-J.; Bae, K.-R.; Lee, S. B.; Rubloff, G. W. J. Appl. Phys. 2010, 108, 043504
-
(2010)
J. Appl. Phys.
, vol.108
, pp. 043504
-
-
Banerjee, P.1
Lee, W.-J.2
Bae, K.-R.3
Lee, S.B.4
Rubloff, G.W.5
-
26
-
-
58149260252
-
-
Lee, K. E.; Wang, M. S.; Kim, E. J.; Hahn, S. H. Curr. Appl. Phys. 2009, 9, 683
-
(2009)
Curr. Appl. Phys.
, vol.9
, pp. 683
-
-
Lee, K.E.1
Wang, M.S.2
Kim, E.J.3
Hahn, S.H.4
-
27
-
-
77956420430
-
-
Kim, J. Y.; Choi, Y. -J.; Park, H. -H.; Golledge, S.; Johnson, D. C. J. Vac. Sci. Technol. A 2010, 28, 1111
-
(2010)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.28
, pp. 1111
-
-
Kim, J.Y.1
Choi, Y.-J.2
Park, H.-H.3
Golledge, S.4
Johnson, D.C.5
-
28
-
-
77955679881
-
-
Dasgupta, N. P.; Neubert, S.; Lee, W.; Trejo, O.; Lee, J. -R.; Prinz, F. B. Chem. Mater. 2010, 22, 4769
-
(2010)
Chem. Mater.
, vol.22
, pp. 4769
-
-
Dasgupta, N.P.1
Neubert, S.2
Lee, W.3
Trejo, O.4
Lee, J.-R.5
Prinz, F.B.6
-
29
-
-
5144223424
-
-
Jeong, S. H.; Kho, S.; Jung, D.; Lee, S. B.; Boo, J.-H. Surf. Coating Technol. 2003, 174-175, 187
-
(2003)
Surf. Coating Technol.
, vol.174-175
, pp. 187
-
-
Jeong, S.H.1
Kho, S.2
Jung, D.3
Lee, S.B.4
Boo, J.-H.5
-
30
-
-
0035311985
-
-
Chen, M.; Pei, Z. L.; Sun, C.; Wen, L. S.; Wang, X. Mater. Lett. 2001, 48, 194
-
(2001)
Mater. Lett.
, vol.48
, pp. 194
-
-
Chen, M.1
Pei, Z.L.2
Sun, C.3
Wen, L.S.4
Wang, X.5
-
31
-
-
71549153174
-
-
Lu, H. L.; Wang, X. L.; Sugiyama, M.; Shimogaki, Y. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 212102
-
(2009)
Appl. Phys. Lett.
, vol.95
, pp. 212102
-
-
Lu, H.L.1
Wang, X.L.2
Sugiyama, M.3
Shimogaki, Y.4
-
32
-
-
0000379080
-
-
Cho, S.; Ma, J.; Kim, Y.; Sun, Y.; Wong, G. K. L.; Ketterson, J. B. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 2761
-
(1999)
Appl. Phys. Lett.
, vol.75
, pp. 2761
-
-
Cho, S.1
Ma, J.2
Kim, Y.3
Sun, Y.4
Wong, G.K.L.5
Ketterson, J.B.6
-
33
-
-
78049319379
-
-
Yao, P. C.; Hang, S. T.; Lin, Y. S.; Yen, W. T.; Lin, Y. C. Appl. Surf. Sci. 2010, 257, 1441
-
(2010)
Appl. Surf. Sci.
, vol.257
, pp. 1441
-
-
Yao, P.C.1
Hang, S.T.2
Lin, Y.S.3
Yen, W.T.4
Lin, Y.C.5
|