-
1
-
-
0037076965
-
-
Steinhart, M.; Wendorff, J. H.; Greiner, A.; Wehrspohn, R. B.; Nielsch, K.; Schilling, J.; Choi, J.; Gösele, U. Science 2002, 296, 1997
-
(2002)
Science
, vol.296
, pp. 1997
-
-
Steinhart, M.1
Wendorff, J.H.2
Greiner, A.3
Wehrspohn, R.B.4
Nielsch, K.5
Schilling, J.6
Choi, J.7
Gösele, U.8
-
2
-
-
4544316564
-
-
Steinhart, M.; Wehrspohn, R. B.; Gösele, U.; Wendorff, J. H. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 1334-1344
-
(2004)
Angew. Chem., Int. Ed.
, vol.43
, pp. 1334-1344
-
-
Steinhart, M.1
Wehrspohn, R.B.2
Gösele, U.3
Wendorff, J.H.4
-
3
-
-
3242721155
-
-
Lu, Q. Y.; Gao, F.; Komarneni, S.; Mallouk, T. E. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 8650-8651
-
(2004)
J. Am. Chem. Soc.
, vol.126
, pp. 8650-8651
-
-
Lu, Q.Y.1
Gao, F.2
Komarneni, S.3
Mallouk, T.E.4
-
4
-
-
4444279301
-
-
Lee, W.; Jin, M. K.; Yoo, W. C; Lee, J. K. Langmuir 2004, 20, 7665-7669
-
(2004)
Langmuir
, vol.20
, pp. 7665-7669
-
-
Lee, W.1
Jin, M.K.2
Yoo, W.C.3
Lee, J.K.4
-
5
-
-
77749255896
-
-
Lee, D. Y.; Lee, D. H.; Lim, H. S.; Han, J. T.; Cho, K. Langmuir 2010, 26, 3252-3256
-
(2010)
Langmuir
, vol.26
, pp. 3252-3256
-
-
Lee, D.Y.1
Lee, D.H.2
Lim, H.S.3
Han, J.T.4
Cho, K.5
-
6
-
-
53149102104
-
-
Grimm, S.; Giesa, R.; Sklarek, K.; Langner, A.; Gösele, U.; Schmidt, H. W.; Steinhart, M. Nano Lett. 2008, 8, 1954-1959
-
(2008)
Nano Lett.
, vol.8
, pp. 1954-1959
-
-
Grimm, S.1
Giesa, R.2
Sklarek, K.3
Langner, A.4
Gösele, U.5
Schmidt, H.W.6
Steinhart, M.7
-
7
-
-
34548612129
-
-
Lee, Y. W.; Park, S. H.; Kim, K. B.; Lee, J. K. Adv. Mater. 2007, 19, 2330-2335
-
(2007)
Adv. Mater.
, vol.19
, pp. 2330-2335
-
-
Lee, Y.W.1
Park, S.H.2
Kim, K.B.3
Lee, J.K.4
-
10
-
-
0347372922
-
-
Nielsch, K.; Choi, J.; Schwirn, K.; Wehrspohn, R. B.; Gösele, U. Nano Lett. 2002, 2, 677-680
-
(2002)
Nano Lett.
, vol.2
, pp. 677-680
-
-
Nielsch, K.1
Choi, J.2
Schwirn, K.3
Wehrspohn, R.B.4
Gösele, U.5
-
11
-
-
0035272696
-
-
Asoh, H.; Nishio, K.; Nakao, M.; Yokoo, A.; Tamamura, T.; Masuda, H. J. Vac. Sci. Technol., B 2001, 19, 569-572
-
(2001)
J. Vac. Sci. Technol., B
, vol.19
, pp. 569-572
-
-
Asoh, H.1
Nishio, K.2
Nakao, M.3
Yokoo, A.4
Tamamura, T.5
Masuda, H.6
-
12
-
-
0000848295
-
-
Li, A. P.; Müller, F.; Birner, A.; Nielsch, K.; Gösele, U. J. Appl. Phys. 1998, 84, 6023-6026
-
(1998)
J. Appl. Phys.
, vol.84
, pp. 6023-6026
-
-
Li, A.P.1
Müller, F.2
Birner, A.3
Nielsch, K.4
Gösele, U.5
-
14
-
-
0542446392
-
-
Li, F. Y.; Zhang, L.; Metzger, R. M. Chem. Mater. 1998, 10, 2470-2480
-
(1998)
Chem. Mater.
, vol.10
, pp. 2470-2480
-
-
Li, F.Y.1
Zhang, L.2
Metzger, R.M.3
-
16
-
-
0032207198
-
-
Masuda, H.; Yada, K.; Osaka, A. Jpn. J. Appl. Phys. 1998, 37, 1340-1342
-
(1998)
Jpn. J. Appl. Phys.
, vol.37
, pp. 1340-1342
-
-
Masuda, H.1
Yada, K.2
Osaka, A.3
-
17
-
-
0000684647
-
-
Masuda, H.; Yamada, H.; Satoh, M.; Asoh, H.; Nakao, M.; Tamamura, T. Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 2770-2772
-
(1997)
Appl. Phys. Lett.
, vol.71
, pp. 2770-2772
-
-
Masuda, H.1
Yamada, H.2
Satoh, M.3
Asoh, H.4
Nakao, M.5
Tamamura, T.6
-
18
-
-
0000974870
-
-
Masuda, H.; Yotsuya, M.; Asano, M.; Nishio, K.; Nakao, M.; Yokoo, A.; Tamamura, T. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 826-828
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 826-828
-
-
Masuda, H.1
Yotsuya, M.2
Asano, M.3
Nishio, K.4
Nakao, M.5
Yokoo, A.6
Tamamura, T.7
-
19
-
-
0242304263
-
-
Choi, J.; Luo, Y.; Wehrspohn, R. B.; Hillebrand, R.; Schilling, J.; Gösele, U. J. Appl. Phys. 2003, 94, 4757-4762
-
(2003)
J. Appl. Phys.
, vol.94
, pp. 4757-4762
-
-
Choi, J.1
Luo, Y.2
Wehrspohn, R.B.3
Hillebrand, R.4
Schilling, J.5
Gösele, U.6
-
20
-
-
76949106789
-
-
Shingubara, S.; Maruo, S.; Yamashita, T.; Nakao, M.; Shimizu, T. Microelectron. Eng. 2010, 87, 1451-1454
-
(2010)
Microelectron. Eng.
, vol.87
, pp. 1451-1454
-
-
Shingubara, S.1
Maruo, S.2
Yamashita, T.3
Nakao, M.4
Shimizu, T.5
-
21
-
-
0037276703
-
-
Choi, J.; Nielsch, K.; Reiche, M.; Wehrspohn, R. B.; Gösele, U. J. Vac. Sci. Technol. B 2003, 21, 763-766
-
(2003)
J. Vac. Sci. Technol. B
, vol.21
, pp. 763-766
-
-
Choi, J.1
Nielsch, K.2
Reiche, M.3
Wehrspohn, R.B.4
Gösele, U.5
-
22
-
-
16344366047
-
-
Choi, J.; Wehrspohn, R. B.; Gösele, U. Electrochim. Acta 2005, 50, 2591-2595
-
(2005)
Electrochim. Acta
, vol.50
, pp. 2591-2595
-
-
Choi, J.1
Wehrspohn, R.B.2
Gösele, U.3
-
23
-
-
0034825623
-
-
Masuda, H.; Asoh, H.; Watanabe, M.; Nishio, K.; Nakao, M.; Tamamura, T. Adv. Mater. 2001, 13, 189-192
-
(2001)
Adv. Mater.
, vol.13
, pp. 189-192
-
-
Masuda, H.1
Asoh, H.2
Watanabe, M.3
Nishio, K.4
Nakao, M.5
Tamamura, T.6
-
24
-
-
0041467412
-
-
Asoh, H.; Ono, S.; Hirose, T.; Nakao, M.; Masuda, H. Electrochim. Acta 2003, 48, 3171-3174
-
(2003)
Electrochim. Acta
, vol.48
, pp. 3171-3174
-
-
Asoh, H.1
Ono, S.2
Hirose, T.3
Nakao, M.4
Masuda, H.5
-
25
-
-
67650337573
-
-
Kwon, N. Y.; Kim, K. H.; Heo, J.; Chung, I. J. Vac. Sci. Technol. A 2009, 27, 803-807
-
(2009)
J. Vac. Sci. Technol. A
, vol.27
, pp. 803-807
-
-
Kwon, N.Y.1
Kim, K.H.2
Heo, J.3
Chung, I.4
-
26
-
-
0141620261
-
-
Choi, J.; Wehrspohn, R. B.; Gösele, U. Adv. Mater. 2003, 15, 1531-1534
-
(2003)
Adv. Mater.
, vol.15
, pp. 1531-1534
-
-
Choi, J.1
Wehrspohn, R.B.2
Gösele, U.3
-
27
-
-
38049140695
-
-
Luchnikov, V.; Kondyurin, A.; Formanek, P.; Lichte, H.; Stamm, M. Nano Lett. 2007, 7, 3628-3632
-
(2007)
Nano Lett.
, vol.7
, pp. 3628-3632
-
-
Luchnikov, V.1
Kondyurin, A.2
Formanek, P.3
Lichte, H.4
Stamm, M.5
-
28
-
-
54949155526
-
-
Liu, N. W.; Liu, C. Y.; Wang, H. H.; Hsu, C. F.; Lai, M. Y.; Chuang, T. H.; Wang, Y. L. Adv. Mater. 2008, 20, 2547-2551
-
(2008)
Adv. Mater.
, vol.20
, pp. 2547-2551
-
-
Liu, N.W.1
Liu, C.Y.2
Wang, H.H.3
Hsu, C.F.4
Lai, M.Y.5
Chuang, T.H.6
Wang, Y.L.7
-
29
-
-
13844297509
-
-
Liu, N. W.; Datta, A.; Liu, C. Y.; Peng, C. Y.; Wang, H. H.; Wang, Y. L. Adv. Mater. 2005, 17, 222-225
-
(2005)
Adv. Mater.
, vol.17
, pp. 222-225
-
-
Liu, N.W.1
Datta, A.2
Liu, C.Y.3
Peng, C.Y.4
Wang, H.H.5
Wang, Y.L.6
-
30
-
-
0037463241
-
-
Liu, N. W.; Datta, A.; Liu, C. Y.; Wang, Y. L. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 1281-1283
-
(2003)
Appl. Phys. Lett.
, vol.82
, pp. 1281-1283
-
-
Liu, N.W.1
Datta, A.2
Liu, C.Y.3
Wang, Y.L.4
-
31
-
-
0012533452
-
-
Liu, C. Y.; Datta, A.; Wang, Y. L. Appl. Phys. Lett. 2001, 78, 120-122
-
(2001)
Appl. Phys. Lett.
, vol.78
, pp. 120-122
-
-
Liu, C.Y.1
Datta, A.2
Wang, Y.L.3
-
33
-
-
33748262432
-
-
Lee, W.; Ji, R.; Gösele, U.; Nielsch, K. Nat. Mater. 2006, 5, 741-747
-
(2006)
Nat. Mater.
, vol.5
, pp. 741-747
-
-
Lee, W.1
Ji, R.2
Gösele, U.3
Nielsch, K.4
-
35
-
-
56849090128
-
-
Su, Z. X.; Hahner, G.; Zhou, W. Z. J. Mater. Chem. 2008, 18, 5787-5795
-
(2008)
J. Mater. Chem.
, vol.18
, pp. 5787-5795
-
-
Su, Z.X.1
Hahner, G.2
Zhou, W.Z.3
-
37
-
-
77958541757
-
-
Chen, B.; Lu, K.; Tian, Z. P. Electrochim. Acta 2010, 56, 435-440
-
(2010)
Electrochim. Acta
, vol.56
, pp. 435-440
-
-
Chen, B.1
Lu, K.2
Tian, Z.P.3
-
38
-
-
78649267922
-
-
Tian, Z. P.; Lu, K.; Chen, B. J. Appl. Phys. 2010, 108, 094306-1-7
-
(2010)
J. Appl. Phys.
, vol.108
, pp. 0943061-0943067
-
-
Tian, Z.P.1
Lu, K.2
Chen, B.3
-
39
-
-
77958578769
-
-
Tian, Z. P.; Lu, K.; Chen, B. Nanotechnology 2010, 21, 405301
-
(2010)
Nanotechnology
, vol.21
, pp. 405301
-
-
Tian, Z.P.1
Lu, K.2
Chen, B.3
|