Graphene oxide thin films for flexible nonvolatile memory applications

Nano Letters

Volumn 10, Issue 11, 2010, Pages 4381-4386

  Jeong, Hu Young ^a   Kim, Jong Yun ^b,c   Kim, Jeong Won ^d   Hwang, Jin Ok ^a   Kim, Ji Eun ^a   Lee, Jeong Yong ^a   Yoon, Tae Hyun ^c   Cho, Byung Jin ^a   Kim, Sang Ouk ^a   Ruoff, Rodney S ^e   Choi, Sung Yool ^b,f  

^a Korea Advanced Institute of Science and Technology (KAIST)   (South Korea)

^b Electronics and Telecommunications Research Institute (ETRI)   (South Korea)

^c Hanyang University   (South Korea)

^d Korea Research Institute of Standards and Science   (South Korea)

^e The University of Texas at Austin   (United States)

^f University of Science and Technology (UST)   (South Korea)

Author keywords

flexible memory; Graphene oxide; nonvolatile memory; resistive switching; TEM; XPS

Indexed keywords

FLEXIBLE MEMORY; GRAPHENE OXIDE; NON-VOLATILE MEMORIES; RESISTIVE SWITCHING; TEM; XPS;

AMORPHOUS FILMS; EMISSION SPECTROSCOPY; FLEXIBLE ELECTRONICS; GRAPHENE; HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; METALLIC COMPOUNDS; NONVOLATILE STORAGE; SWITCHING; SWITCHING SYSTEMS; THIN FILMS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

OXIDE FILMS;

GRAPHITE; OXIDE;

ARTICLE; ARTIFICIAL MEMBRANE; CHEMISTRY; DATA STORAGE DEVICE; EQUIPMENT; EQUIPMENT DESIGN; INSTRUMENTATION; SIGNAL PROCESSING; YOUNG MODULUS;

COMPUTER STORAGE DEVICES; ELASTIC MODULUS; EQUIPMENT DESIGN; EQUIPMENT FAILURE ANALYSIS; GRAPHITE; MEMBRANES, ARTIFICIAL; OXIDES; SIGNAL PROCESSING, COMPUTER-ASSISTED;

EID: 78449291907     PISSN: 15306984     EISSN: 15306992     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl101902k     Document Type: Article

References (43)

1. Meijer, G. I. Science 2008, 319, 1625-1626.
2. Waser, R.; Aono, M. Nat. Mater. 2007, 6, 833-840
3. Sawa, A. Mater. Today 2008, 11, 28-36.
4. Waser, R.; Dittmann, R.; Staikov, G.; Szot, K. Adv. Mater. 2009, 21, 2632-2663.
5. Wuttig, M. Nat. Mater. 2005, 4, 265-266.
6. Lankhorst, M. H. R.; Ketelaars, B. W. S. M. M.; Wolters, R. A. M. Nat. Mater. 2005, 4, 347.
7. Ouyang, J.; Chu, C.-W.; Szmanda, C. R.; Ma, L.; Yang, Y. Nat. Mater. 2004, 3, 918-922.
8. Scott, J. C.; Bozano, L. D. Adv. Mater. 2007, 19, 1452-1463.
9. Jo, S. H.; Lu, W. Nano Lett. 2008, 8, 392-397.
10. Jo, S. H.; Kim, K.-H.; Lu, W. Nano Lett. 2009, 9, 870-874.
11. Asamitsu, A.; Tomioka, Y.; Kuwahara, H.; Tokura, Y. Nature 1997, 388, 50-52.
12. Szot, K.; Speier, W.; Bihlmayer, G.; Waser, R. Nat. Mater. 2006, 5, 312-320.
13. Baek, I. G.; Lee, M. S.; Seo, S.; Lee, M. J.; Seo, D. H.; Suh, D.-S.; Park, J. C.; Park, S. O.; Kim, H. S.; Yoo, I. K.; Chung, U.-I.; Moon, J. T. Tech. Dig.sInt. Electron Devices Meet. 2004, 587-590.
14. Lee, M.-J.; Han, S.; Jeon, S. H.; Park, B. H.; Kang, B. S.; Ahn, S.- E.; Kim, K. H.; Lee, C. B.; Kim, C. J.; Yoo, I.-K.; Seo, D. H.; Li, X.-S.; Park, J.-B.; Lee, J.-H.; Park, Y. Nano Lett. 2009, 9, 1476-1481.
15. Lee, M.-J.; Kim, S. I.; Lee, C. B.; Yin, H.; Ahn, S.-E.; Kang, B. S.; Kim, K. H.; Park, J. C.; Kim, C. J.; Song, I.; Kim, S. W.; Stefanovich, G.; Lee, J. H.; Chung, S. J.; Kim, Y. H.; Park, Y. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 1587-1593.
16. Yang, J. J.; Pickett, M. D.; Li, X.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. Nat. Mater. 2008, 3, 429-433.
17. Yang, J. J.; Miao, F.; Pickett, M. D.; Ohlberg, D. A. A.; Stewart, D. R.; Lau, C. N.; Williams, R. S. Nanotechnology 2009, 20, 215201.
18. Yang, J. J.; Borghetti, J.; Murphy, D.; Stewart, D. R.; Williams, R. S. Adv. Mater. 2009, 21, 3754-3758.
19. Yang, Y. C.; Pan, F.; Liu, Q.; Liu, M.; Zeng, F. Nano Lett. 2009, 9, 1636-1643.
20. Kim, T. H.; Jang, E. Y.; Lee, D. J.; Lee, K.-J.; Jang, J.-T.; Choi, J.-S.; Moon, S. H.; Cheon, J. Nano Lett. 2009, 9, 2229-2233.
21. Krepl, F.; Bruchhaus, R.; Majewski, P.; Phillipp, J. B.; Symanczyk, R.; Happ, T.; Arndt, C.; Vogt, M.; Zimmermann, R.; Buerke, A.; Graham, A. P.; Kund, M. Proc.sIEEE Electron Devices Meet. 2008, 521-524.
22. Rueckes, T.; Kim, K.; Joselevich, E.; Tseng, G. Y.; Cheung, C.-L.; Lieber, C. M. Science 2000, 289, 94-97.
23. Li, Y.; Sinitskii, A.; Tour, J. M. Nat. Mater. 2008, 7, 966-971.
24. Standley, B.; Bao, W.; Zhang, H.; Bruck, J.; Lau, C. N.; Bockrath, M. Nano Lett. 2008, 8, 3345-3349.
25. He, C. L.; Zhuge, F.; Zhou, X. F.; Li, M.; Zhou, G. C.; Liu, Y. W.; Wang, J. Z.; Chen, B.; Su, W. J.; Liu, Z. P.; Wu, Y. H.; Cui, P.; Li, R.-W. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 232101.
26. Zhuang, X.-D.; Chen, Y.; Liu, G.; Li, P.-P.; Zhu, C.-X.; Kang, E.-T.; Noeh, K.-G.; Zhang, B.; Zhu, J.-H.; Li, Y.-X. Adv. Mater. 2009, 22, 1731-1735.
27. Liu, G.; Zhuang, X.; Chen, Y.; Zhang, B.; Zhu, J.; Zhu, C.-X.; Neoh, K.-G.; Kang, E.-T. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 253301.
28. Park, S.; Ruoff, R. S. Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 217-224.
29. Stankovich, S.; Dikin, D. A.; Dommett, G. H. B.; Kohlhaas, K. M.; Zimney, E. J.; Stach, E. A.; Piner, R. D.; Nguyen, S. T.; Ruoff, R. S. Nature 2006, 442, 282-286.
30. Dikin, D. A.; Stankovich, S.; Zimney, E. J.; Piner, R. D.; Dommett, G. H. B.; Evmenenko, G.; Nguyen, S. T.; Ruoff, R. S. Nature 2007, 448, 457-460.
31. Watcharotone, S.; Dikin, D. A.; Stankovich, S.; Piner, R.; Jung, I.; Dommett, G. H. B.; Evmenenko, G.; Wu, S.-E.; Chen, S.-F.; Liu, C.-P.; Nguyen, S. T.; Ruoff, R. S. Nano Lett. 2007, 7, 1888-1892.
32. Lee, D. H.; Kim, J. E.; Han, T. H.; Hwang, J. W.; Jeon, S. W.; Choi, S.-Y.; Hong, S. H.; Lee, W. J.; Ruoff, R. S.; Kim, S. O. Adv. Mater. 2010, 22, 1247-1252.
33. Han, T. H.; Lee, W. J.; Lee, D. H.; Kim, J. E.; Choi, E.-Y.; Kim, S. O. Adv. Mater. 2010, 22, 2060-2064.
34. Jeong, H. Y.; Kim, Y. I.; Lee, J. Y.; Choi, S.-Y. Nanotechnology 2010, 21, 115203.
35. Rose, A. Phys. Rev. 1955, 6, 1538-1544.
36. Lee, H.-S.; Bain, J. A.; Choi, S.; Salvador, P. A. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, 202107.
37. Choi, H.; Jung, H.; Lee, J.; Yoon, J.; Park, J.; Seong, D.-J.; Lee, W.; Hasan, M.; Jung, G.-Y.; Hwang, H. Nanotechnology 2009, 20, 345201.
38. Dong, R.; Lee, D. S.; Xiang, W. F.; Oh, S. J.; Seong, D. J.; Heo, S. H.; Choi, H. J.; Kwon, M. J.; Seo, S. N.; Pyun, M. B.; Hasan, M.; Hwang, H. Appl. Phys. Lett. 2007, 90, No. 042107.
39. Jeong, H. Y.; Lee, J. Y.; Ryu, M.-K.; Choi, S.-Y. Phys. Status Solidi RRL 2010, 4, 28-30.
40. Jeong, H. Y.; Lee, J. Y.; Choi, S.-Y.; Kim, J. W. Appl. Phys. Lett. 2009, 95, 162108.
41. Jeong, H.-K.; Lee, Y. P.; Lahaye, R. J. W. E.; Park, M.-H.; An, K. H.; Kim, I. J.; Yang, C.-W.; Park, C. Y.; Ruoff, R. S.; Lee, Y. H. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 1362-1366.
42. McAllister, M. J.; Li, J.-L.; Adamson, D. H.; Schniepp, H. C.; Abdala, A. A.; Liu, J.; Herrera-alonso, M.; Milius, D. L.; Car, R.; Prudhomme, R. K.; Aksay, I. A. Chem. Mater. 2007, 19, 4396-4404.
43. Mattevi, C.; Eda, G.; Agnoli, S.; Miller, S.; Mkhoyan, K. A.; Celik, O.; Mastrogiovanni, D.; Granozzi, G.; Garfunkel, E.; Chhowalla, M. Adv. Funct. Mater. 2009, 19, 2577-2583.