Effect of controlled growth dynamics on the microstructure of nonpolar a-plane GaN revealed by X-ray diffraction

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 48, Issue 7 PART 1, 2009, Pages

  Sun, Qian ^a   Ko, Tsung Shine ^a,b   Yerino, Christopher D ^a   Zhang, Yu ^a   Lee, In Hwan ^a   Han, Jung ^a   Lu, Tien Chang ^b   Kuo, Hao Chung ^b   Wang, Shing Chung ^b  

^a Yale University   (United States)

^b NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

A-PLANE GAN; CONTROLLED GROWTH; IN-SITU; ISLANDING; LATERAL GROWTH; NON-POLAR; OPTICAL REFLECTANCE; PLANE SAPPHIRE; WILLIAMSON-HALL; X RAY ROCKING CURVE;

ANISOTROPY; CORUNDUM; GALLIUM NITRIDE; MICROSTRUCTURE; SEMICONDUCTING GALLIUM; STACKING FAULTS;

GALLIUM ALLOYS;

EID: 72049118719     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.48.071002     Document Type: Article

References (24)

1. X. Ni, Y. Fu, Y. T. Moon, N. Biyikli, and H. Morkoç: J. Cryst. Growth 290 (2006) 166.
2. Q. Sun, C. D. Yerino, T. S. Ko, Y. S. Cho, I.-H. Lee, J. Han, and M. E. Coltrin: J. Appl. Phys. 104 (2008) 093523.
3. J. L. Hollander, M. J. Kappers, C. McAleese, and C. J. Humphreys: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 101104.
4. M. D. Craven, S. H. Lim, F. Wu, J. S. Speck, and S. P. DenBaars: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 469.
5. D. N. Zakharov, Z. Liliental-Weber, B. Wagner, Z. J. Reitmeier, E. A. Preble, and R. F. Davis: Phys. Rev. B 71 (2005) 235334.
6. R. Liu, A. Bell, F. A. Ponce, C. Q. Chen, J. W. Yang, and M. A. Khan: Appl. Phys. Lett. 86 (2005) 021908.
7. T. Gühne, Z. Bougrioua, P. Vennéguès, M. Leroux, and M. Albrecht: J. Appl. Phys. 101 (2007) 113101.
8. Z. H. Wu, A. M. Fischer, F. A. Ponce, B. Bastek, J. Christen, T. Wernicke, M. Weyers, and M. Kneissl: Appl. Phys. Lett. 92 (2008) 171904.
9. J. Han, T. B. Ng, R. M. Biefeld, M. H. Crawford, and D. M. Follstaedt: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 3114.
10. S. Figge, T. Bottcher, S. Einfeldt, and D. Hommel: J. Cryst. Growth 221 (2000) 262.
11. D. D. Koleske, A. J. Fischer, A. A. Allerman, C. C. Mitchell, K. C. Cross, S. R. Kurtz, J. J. Figiel, K. W. Fullmer, and W. G. Breiland: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 1940.
12. S. Kim, J. Oh, J. Kang, D. Kim, J. Won, J. W. Kim, and H. K. Cho: J. Cryst. Growth 262 (2004) 7.
13. Q. Sun, Y. S. Cho, I.-H. Lee, J. Han, B. H. Kong, and H. K. Cho: Appl. Phys. Lett. 93 (2008) 131912.
14. R. Miyagawa, M. Narukawa, B. Ma, H. Miyake, and K. Hiramatsu: J. Cryst. Growth 310 (2008) 4979.
15. T. Metzger, R. Höpler, E. Born, O. Ambacher, M. Stutzmann, R. Stömmer, M. Schuster, H. Göbel, S. Christiansen, M. Albrecht, and H. P. Strunk: Philos. Mag. A 77 (1998) 1013.
16. H. Wang, C. Chen, Z. Gong, J. Zhang, M. Gaevski, M. Su, J. Yang, and M. Asif Khan: Appl. Phys. Lett. 84 (2004) 499.
17. A. Chakraborty, K. C. Kim, F. Wu, J. S. Speck, S. P. DenBaars, and U. K. Mishra: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 041903.
18. M. B. McLaurin, A. Hirai, E. Young, F. Wu, and J. S. Speck: Jpn. J. Appl. Phys. 47 (2008) 5429.
19. R. Chierchia, T. Böttcher, H. Heinke, S. Einfeldt, S. Figge, and D. Hommel: J. Appl. Phys. 93 (2003) 8918.
20. G. K. Williamson and W. H. Hall: Acta Metall. 1 (1953) 22.
21. V. Srikant, J. S. Speck, and D. R. Clarke: J. Appl. Phys. 82 (1997) 4286.
22. M. Imura, A. Honshio, K. Nakano, M. Tsuda, M. Iwaya, S. Kamiyama, H. Amano, and I. Akasaki: Jpn. J. Appl. Phys. 44 (2005) 7418.
23. M. D. Craven, S. H. Lim, F. Wu, J. S. Speck, and S. P. DenBaars: Appl. Phys. Lett. 81 (2002) 1201.
24. B. M. Shi, M. H. Xie, H. S. Wu, N. Wang, and S. Y. Tong: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 151921.