The effect of morphology on electron field-effect mobility in disordered C60 thin films

Nano Letters

Volumn 9, Issue 3, 2009, Pages 1085-1090

  Kwiatkowski, Joe J ^a   Frost, Jarvist M ^a   Nelson, Jenny ^a  

^a IMPERIAL COLLEGE LONDON   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

C60 FILMS; C60 THIN FILMS; CHARGE MOBILITIES; DEPOSITION PROCESS; ELECTRICAL CHARACTERISTICS; ELECTROCHEMICAL POTENTIALS; ELECTRON FIELDS; ELECTRON HOPPING; ELECTRONIC STRUCTURE CALCULATIONS; POLY-CRYSTALLINE; POLYCRYSTALLINE THIN FILMS;

ELECTRONIC STRUCTURE; MESFET DEVICES; MONTE CARLO METHODS; SINGLE CRYSTALS; THIN FILMS;

FIELD EFFECT TRANSISTORS;

EID: 65249096278     PISSN: 15306984     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/nl803504q     Document Type: Article

References (41)

1. Singh, T. B.; Sariciftci, N. S.; Yang, H.; Yang, L.; Plochberger, B.; Sitter, H. Appl. Phys. Lett. 2007, 90 (21), 213512.
2. Bredas, J.; Beljonne, D.; Coropceanu, V.; Cornil, J. Chem. Rev. 2004, 104 (11), 4971-5003.
3. Hulea, I. N.; Russo, S.; Molinari, A.; Morpurgo, A. F. Appl. Phys. Lett. 2006, 88, 113512.
4. Salleo, A. Mater. Today 2007, 10 (3), 38-45.
5. Troisi, A.; Orlandi, G. Phys. Rev. Lett. 2006, 96 (8), 086601.
6. Wang, L. J.; Peng, Q.; Li, Q. K.; Shuai, Z. J. Chem. Phys. 2007, 127, 044506.
7. Kwiatkowski, J. J.; Nelson, J.; Li, H.; Bredas, J. L.; Wenzel, W.; Lennartz, C. Phys. Chem. Chem. Phys. 2008, 10 (14), 1852-1858.
8. Bassler, H. Phys. Status Solidi B 1993, 175 (1), 15-56.
9. Athanasopoulos, S.; Kirkpatrick, J.; Martinez, D.; Frost, J. M.; Foden, C. M.; Walker, A. B.; Nelson, J. Nano Lett. 2007, 7 (6), 1785-1788.
10. Olivier, Y.; Lemaur, V.; Bredas, J. L.; Cornil, J. J. Phys. Chem. A 2006, 110 (19), 6356.
11. Kirkpatrick, J.; Marcon, V.; Nelson, J.; Kremer, K.; Andrienko, D. Phys. Rev. Lett. 2007, 98 (22), 227402.
12. Anthopoulos, T. D.; Singh, B.; Marjanovic, N.; Sariciftci, N. S.; Montaigne Ramil, A.; Sitter, H.; Cölle, M.; de Leeuw, D. M. Appl. Phys. Lett. 2006, 89 (21), 213504.
13. Kobayashi, S.; Takenobu, T.; Mori, S.; Fujiwara, A.; Iwasa, Y. Appl. Phys. Lett. 2003, 82 (25), 4581-4583.
14. Girifalco, L. A. J. Phys. Chem. 1992, 96 (2), 858-861.
15. Klauk, H.; Schmid, G.; Radlik, W.; Weber, W.; Zhou, L.; Sheraw, C. D.; Nichols, J. A.; Jackson, T. N. Solid-State Electron. 2003, 47 (2), 297-301.
16. Veres, J.; Ogier, S.; Lloyd, G.; de Leeuw, D. Chem. Mater. 2004, 16, 4543-4555.
17. Stassen, A. F.; de Boer, R. W. I.; Iosad, N. N.; Morpurgo, A. F. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3899.
18. Fernandes, F.; Freitas, F. F. M.; Fartaria, R. P. S. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 9251-9255.
19. Abramo, M. C.; Caccamo, C.; Costa, D.; Pellicane, G.; Ruberto, R. Phys. Rev. E 2004, 69 (3), 31112.
20. Hasegawa, M.; Ohno, K. J. Chem. Phys. 1999, 111, 5955-5963.
21. Teobaldi, G.; Zerbetto, F. Small 2007, 3, 1694.
22. Hobbs, C.; Kantorovich, L.; Gale, J. D. Surf. Sci. 2005, 591 (1-3), 45-55.
23. Hamza, A. V.; Balooch, M. Chem. Phys. Lett. 1993, 201, 404-408.
24. Bhuiyan, K. H.; Mieno, T. Thin Solid Films 2006, 506, 239-243.
25. Manaila, R.; Geru, I. I.; Fratiloiu, D.; Spoiala, D. M.; Dihor, I. T.; Devenyi, A. Fullerenes, Nanotubes, Carbon Nanostruct. 1999, 7 (1), 59-75.
26. Chen, R. S.; Lin, Y. J.; Su, Y. C.; Chiu, K. C. Thin Solid Films 2001, 396 (1-2), 103-108.
27. Cheng, W. R.; Tang, S. J.; Su, Y. C.; Lin, Y. J.; Chiu, K. C. J. Cryst. Growth 2003, 247 (3-4), 401-407.
28. Hess, B.; Kutzner, C.; van der Spoel, D.; Lindahl, E. J. Chem. Theory Comput. 2008, 4 (2), 435-447.
29. Freed, K.; Jortner, J. J. Chem. Phys. 1970, 52 (12), 6272.
30. Frisch, M. J. Trucks, G. W. Schlegel, H. B. Robb, M. A. Cheeseman, J. R. Montgomery, J. A. Kudin, K. N. Burant, J. C. Millam, J. M. Barone, V. Mennucci, B. Cossi, M. Petersson, G. A. Nakatsuji, H. Hada, M. Fukuda, R. Hasegawa, J. Ishida, M. Nakai, H. Klene, M. Li, X. Adamo, C. Jaramillo, J. Gomperts, R. Austin, A. J. Cammi, R. Pomelli, C. Morokuma, K. Voth, G. A. Salvador, P. Zakrzewski, V. G. Dapprich, S. Daniels, A. D. Farkas, O. Malick, D. K. Rabuck, A. D. Foresman, J. B. Ortiz, J. V. Cui, Q. Cioslowski, J. Stefanov, B. B. Liu, G. Komaromi, I. Martin, R. L. Fox, D. J. Peng, C. Y. Nanayakkara, A. Challacombe, M. Johnson, B. Chen, W. and Wong. M. W. Gaussian 03, Revision B.05; Gaussian Inc.: Wallingford, CT, 2003.
31. Norton, J. E.; Bredas, J. L. J. Am. Chem. Soc. 2008, 130 (37), 12377-12384.
32. Valeev, E. F.; Coropceanu, V.; da Silva, D. A.; Salman, S.; Bredas, J. L. J. Am. Chem. Soc. 2006, 128 (30), 9882-9886.
33. David, W. I. F.; Ibberson, R. M.; Dennis, T. J. S.; Hare, J. P.; Prassides, K. Europhys. Lett. 1992, 18, 219.
34. Yannoni, C. S.; Johnson, R. D.; Meijer, G.; Bethune, D. S.; Salem, J. R. J. Phys. Chem. 1991, 95 (1), 9-10.
35. Fartash, A. Phys. Rev. B 1996, 54 (23), 17215-17222.
36. Jansen, A. P. J. ArXiV, cond-mat/0303028v1:1, 2003.
37. Bürgi, L.; Sirringhaus, H.; Friend, R. H. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2913.
38. Zaumseil, J.; Sirringhaus, H. Chem. Rev. 2007, 107, 1296-1323.
39. Kobayashi, S.; Takenobu, T.; Mori, S.; Fujiwara, A.; Iwasa, Y. Sci. Technol. Adv. Mater. 2003, 4 (4), 371-375.
40. Frankevich, E.; Maruyama, Y.; Ogata, H. Chem. Phys. Lett. 1993, 214, 39.
41. Knipp, D.; Street, R. A.; Völkel, A. R. Appl. Phys. Lett. 2003, 82 (22), 3907-3909