In-situ optical absorbance spectroscopy of molecular layers in carbon based molecular electronic devices

Chemistry of Materials

Volumn 20, Issue 12, 2008, Pages 3849-3856

  Bonifas, Andrew P ^a,b   McCreery, Richard L ^b,c  

^a Ohio State University   (United States)

^b NATIONAL RESEARCH COUNCIL CANADA   (Canada)

^c UNIVERSITY OF ALBERTA   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON BASED; ELECTRONIC JUNCTIONS; IN-SITU; METAL OXIDE LAYERS; MOLECULAR ELECTRONIC DEVICES; MOLECULAR LAYERS; MONITOR (CO); OPTICAL ABSORBANCE;

METALLIC COMPOUNDS; METALS; MOLECULAR ELECTRONICS; SEMICONDUCTOR QUANTUM DOTS;

LITHOGRAPHY;

EID: 47649128755     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm703614n     Document Type: Article

References (44)

1. Chen, J.; Reed, M. A.; Rawlett, A. M.; Tour, J. M. Science 1999, 286, 1550-1552.
2. Chen, F.; He, J.; Nuckolls, C.; Roberts, T.; Klare, J. E.; Lindsay, S. Nano Lett. 2005, 5, 503-506.
3. Kiehl, R. A.; Le, J. D.; Candra, P.; Hoye, R. C.; Hoye, T. R. Appl. Phys. Lett. 2006, 88.
4. Chen, J.; Wang, W.; Klemic, J.; Reed, M. A.; Axelrod, B. W.; Kaschak, D. M.; Rawlett, A. M.; Price, D. W.; Dirk, S. M.; Tour, J. M.; Grubisha, D. S.; Bennett, D. W. Molecular Electronics II; New York Academy of Sciences: New York, 2002; Vol. 960, pp 69-99.
5. Blum, A. S.; Kushmerick, J. G.; Long, D. P.; Patterson, C. H.; Yang, J. C.; Henderson, J. C.; Yao, Y. X.; Tour, J. M.; Shashidbar, R.; Ratna, B. R. Nat. Mater. 2005, 4, 167-172.
6. Martin, A. S.; Sambles, J. R.; Ashwell, G. J. Phys. Rev. Lett. 1993, 70, 218-221.
7. Chabinyc, M. L.; Chen, X. X.; Holmlin, R. E.; Jacobs, H.; Skulason, H.; Frisbie, C. D.; Mujica, V.; Ratner, M. A.; Rampi, M. A.; Whitesides, G. M. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 11730-11736.
8. Kalakodimi, R. P.; Nowak, A. M.; McCreery, R. L. Chem. Mater. 2005, 17, 4939-4948.
9. Jang, S. S.; Jang, Y. H.; Kim, Y. H.; Goddard, W. A.; Flood, A. H.; Laursen, B. W.; Tseng, H. R.; Stoddart, J. F.; Jeppesen, J. O.; Choi, J. W.; Steuerman, D. W.; Delonno, E.; Heath, J. R. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 1563-1575.
10. Lortscher, E.; Ciszek, J. W.; Tour, J.; Riel, H. Small 2006, 2, 973-977.
11. Gale, R. J. Spectroelectrochemistry, Theory and Practice; Plenum Press: New York, 1988.
12. Ruiz, V.; Colina, A.; Heras, M. A.; Lopez-Palacios, J. J. Phys. Chem. C 2007, 111, 4277-4284.
13. Itoh, T.; McCreery, R. L. J. Am. Chem. Soc. 2002, 124, 10894-10902.
14. Nowak, A. M.; McCreery, R. L. J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 16621-16631.
15. de Boer, B.; Meng, H.; Perepichka, D. F.; Zheng, J.; Frank, M. M.; Chabal, Y. J.; Bao, Z. N. Langmuir 2003, 19, 4272-4284.
16. Richter, C. A.; Hacker, C. A.; Richter, L. J. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 21836-21841.
17. Richter, C. A.; Hacker, C. A.; Richter, L. J.; Kirillov, O. A.; Suehle, J. S.; Vogel, E. M. Solid-State Electron. 2006, 50, 1088-1096.
18. Brown, T. M.; Kim, J. S.; Friend, R. H.; Cacialli, F.; Daik, R.; Feast, W. J. Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 1679-1681.
19. Ziemelis, K. E.; Hussain, A. T.; Bradley, D. D. C.; Friend, R. H.; Ruhe, J.; Wegner, G. Phys. Rev. Lett. 1991, 66, 2231-2234.
20. Ranganathan, S.; Steidel, I.; Anariba, F.; McCreery, R. L. Nano Lett. 2001, 1, 491-494.
21. McCreery, R. L.; Wu, J.; Kalakodimi, R. P. Phys. Chem. Chem. Phys. 2006, 8, 2572-2590.
22. Blackstock, J. J.; Rostami, A. A.; Nowak, A. M.; McCreery, R. L.; Freeman, M. R.; McDermott, M. T. Anal. Chem. 2004, 76, 2544-2552.
23. Lindsay, S. M.; Ratner, M. A. Adv. Mater. 2007, 19, 23-31.
24. Solak, A. O.; Ranganathan, S.; Itoh, T.; McCreery, R. L. Electrochem. Solid State Lett. 2002, 5, E43-E46.
25. Allongue, P.; Delamar, M.; Desbat, B.; Fagebaume, O.; Hitmi, R.; Pinson, J.; Saveant, J. M. J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 201-207.
26. Brooksby, P. A.; Downard, A. J. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 8791-8798.
27. Hoekstra, K. J.; Bein, T. Chem. Mater. 1996, 8, 1865-1870.
28. Downard, A. J. Electroanalysis 2000, 12, 1085-1096.
29. Anariba, F.; DuVall, S. H.; McCreery, R. L. Anal. Chem. 2003, 75, 3837-3844.
30. Ingle JR., J. D.; Crouch, S. R. Spectrochemical Analysis; Prentice Hall: Englewood Cliffs, 1988.
31. Frisch, M. J. T. G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheeseman, J. R.; Montgomery, J. A., Jr.; Vreven, T.; Kudin, K. N.; Burant, J. C.; Millam, J. M.; Iyengar, S. S.; Tomasi, J.; Barone, V.; Mennucci, B.; Cossi, M.; Scalmani, G.; Rega, N.; Petersson, G. A.; Nakatsuji, H.; Hada, M.; Ehara, M.; Toyota, K.; Fukuda, R.; Hasegawa, J.; Ishida, M.; Nakajima, T.; Honda, Y.; Kitao, O.; Nakai, H.; Klene, M.; Li, X.; Knox, J. E.; Hratchian, H. P.; Cross, J. B.; Bakken, V.; Adamo, C.; Jaramillo, J.; Gomperts, R.; Stratmann, R. E.; Yazyev, O.; Austin, A. J.; Cammi, R.; Pomelli, C.; Ochterski, J. W.; Ayala, P. Y.; Morokuma, K.; Voth, G. A.; Salvador, P.; Dannenberg, J. J.; Zakrzewski, V. G.; Dapprich, S.; Daniels, A. D.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Ortiz, J. V.; Cui, Q.; Baboul, A. G.; Clifford, S.; Cioslowski, J.; Stefanov, B. B.; Liu, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, I.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B.; Chen, W.; Wong, M. W.; Gonzalez, C.; Pople, J. A. Gaussian 03; Gaussian, Inc.: Wallingford, CT, 2004.
32. Kwasniewski, S. P.; Deleuze, M. S.; Francois, J. P. Int. J. Quantum Chem. 2000, 80, 672-680.
33. FTG Software Associates: Princeton, NJ. www.ftgsoftware.com.
34. DiLabio, G. A.; Litwinienko, G.; Lin, S. Q.; Pratt, D. A.; Ingold, K. U. J. Phys. Chem. A 2002, 106, 11719-11725.
35. Pedersen, S. U.; Christensen, T. B.; Thomasen, T.; Daasbjerg, K. J. Electroanal. Chem. 1998, 454, 123-143.
36. Shamsipur, M.; Hemmateenejad, B.; Babaei, A.; Faraj-Sharabiani, L. J. Electroanal. Chem. 2004, 570, 227-234.
37. Tian, H.; Bergren, A. J.; McCreery, R. L. Appl. Spectrosc. 2007, in press.
38. Khodier, S. A.; Sidki, H. M. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2001, 12, 107-109.
39. Rao, K. N.; Shivlingappa, L.; Mohan, S. Mater. Sci. Eng., B 2003, 98, 38-44.
40. Jezorek, J. R.; Lagu, A.; Seigel, T. M.; Mark, H. B. J. Org. Chem. 1973, 38, 788-795.
41. Nowak, A. M.; McCreery, R. L. Anal. Chem. 2004, 76, 1089-1097.
42. Bard, A. J.; Faulkner, L. R. Electrochemical Methods Fundamentals and Applications, 2nd ed.; John Wiley: New York, 2001.
43. Matsuda, H.; Aoki, K.; Tokuda, K. J. Electroanal. Chem. 1987, 217, 1-13.
44. Matsuda, H.; Aoki, K.; Tokuda, K. J. Electroanal. Chem. 1987, 217, 15-32.