Initial growth of W-based films deposited on Si studied with ARXPS

Surface and Interface Analysis

Volumn 40, Issue 3-4, 2008, Pages 776-780

  Oswald, S ^a   Rittrich, D ^b   Zahn, W ^b  

^a IFW DRESDEN   (Germany)

^b Westsachsische Hochschule Zwickau   (Germany)

Author keywords

Angle resolved XPS; Film growth; Phase formation; Tungsten

Indexed keywords

DEPTH PROFILING; FILM GROWTH; MAGNETRON SPUTTERING; TUNGSTEN; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

NONDESTRUCTIVE DEPTH PROFILING; PHASE FORMATION;

THIN FILMS;

EID: 42449114974     PISSN: 01422421     EISSN: 10969918     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/sia.2648     Document Type: Conference Paper

References (27)

1. Rosenberg R, Edelstein DC, Hu C-K, Rodbell KP. Annu. Rev. Mater. Sci. 2000; 30:229.
2. Kaloyeros AE, Eisenbraun E. Annu. Rev. Mater. Sci. 2000; 30:363.
3. Catania P, Doyle JP, Cuomo JJ. J. Vac. Sci. Technol., A 1992; 10:3318.
4. Moshfegh AZ, Akhavan O. Thin Solid Films 2000; 370:10.
5. Liu L, Wang Y, Gong H. J. Appl. Phys. 2001 ; 90:416.
6. Baumann J. Herstellung, Charakterisierung und Bewertung leitfähiger Diffusionsbarrieren auf der Basis von Tantal, Titan und Wolfram für die Kupfermetallisierung von Siliciumschaltkreisen, Thesis, University of Technology Chemnitz, Germany, 2003.
7. Uekubo M, Oku T, Nu K, Murakami M, Takahiro K, Yamaguchi S, Nakano T, Ohta T. Thin Solid Films 1996; 286:170.
8. Zier M, Oswald S, Reiche R, Wetzig K. Anal. Bioanal. Chem. 2003; 375: 902.
9. Zier M, Oswald S, Reiche R, Kozlowska M, Wetzig K. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 2004; 137-140:229.
10. Zier M, Oswald S, Reiche R, Wetzig K. Appl. Surf. Sci. 2005; 252:234.
11. Oswald S, Reiche R, Zier M, Baunack S, Wetzig K. Appl. Surf. Sci. 2005; 252:3.
12. Kozlowska M, Reiche R, Oswald S, Vinzelberg H, Hübner R, Wetzig K. Surf. Interface Anal. 2004; 36:1600.
13. Oswald S, Zier M, Reiche R, Wetzig K. Surf. Interface Anal. 2006; 38: 590.
14. Franssila S. Appl. Surf. Sci. 1991; 53:358.
15. Boukhiris L, Poitevin JM. Thin Solid Films 1997; 310:223.
16. Shen YG, Mai YW, McKenzil DR,Zhang QC, McFall WD, McBride WE. J. Appl. Phys. 2000; 88:1380.
17. Chang K-M, Yeh T-H, Deng l-C. J. Appl. Phys. 1997; 81: 3670.
18. Suh B-C, Lee Y-J, Hwang J-S, Park C-O. Thin Solid Films 1999; 348: 299.
19. Soto G, de la Cruz W, Castillon FF, Diaz JA, Machorro R, Farias MH. Appl. Surf. Sci. 2003; 214:56.
20. Maille L, Sant C, Le Paven-Thivet C, LegrandBuscema C, Garnier P. Thin Solid Films 2003; 428:237.
21. Moulder JF, Stickle WF, Sobol PE, Bomben KD. Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy. Physical Electronics: Eden Prairie, 1995.
22. Software Package MULTIPAK, V6. 1A. Physical Electronics: Eden Prairie, 1994-1999.
23. Cumpson PJ. J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 1995; 73:25.
24. Cumpson PJ, Seah MP. Surf. Interface Anal. 1997; 25:430.
25. Oswald S, Oswald F.J. Appl. Phys. 2006; 100:104504.
26. Oswald S. Surf. Sci. 2008; 602:291.
27. Egelhoff WF. Surf. Sci. Rep. 1987; 6: 253.