Annealing effects of tantalum films on Si and SiO2/Si substrates in various vacuums

Journal of Applied Physics

Volumn 90, Issue 1, 2001, Pages 416-420

  Liu, Ling ^a   Wang, Yue ^a   Gong, Hao ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0035395409     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1372662     Document Type: Article

References (22)

1. W. D. Westwood, N. Waterhouse, and P. S. Wilcox, Tantalum Thin Films (Academic, London, 1975).
2. K. Kondo, M. Nakabayashi, K. Kawakami, T. Chijimatsu, M. Nakaishi, M. Yamada, M. Yamabe, and K. Sugishima, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 3067 (1993).
3. K. Holloway and M. P. Fryer, Appl. Phys. Lett. 57, 1736 (1990).
4. K. H. Min, K. C. Chun, and K. B. Kim, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 3263 (1996).
5. P. Catania, J. P. Doyle, and J. J. Cuomo, J. Vac. Sci. Technol. A 10, 3318 (1992).
6. K. Ino, T. Shinohara, T. Ushiki, and T. Ohmi, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 2627 (1997).
7. P. Gallais, J. J. Hantzpergue, and J. C. Remy, Thin Solid Films 165, 227 (1988).
8. T. Yoshihara and K. Suzuki, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 301 (1993).
9. A. Schauer and M. Roschy, Thin Solid Films 12, 313 (1972).
10. R. Hoogeveen, M. Moske, H. Geisler, and K. Samwer, Thin Solid Films 275, 203 (1996).
11. R. A. Roy, P. Catania, K. L. Saenger, J. J. Cuomo, and R. L. Lossy, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 1921 (1993).
12. S. Sato, T. Inoue, and H. Sasaki, Thin Solid Films 86, 21 (1981).
13. T. Hara and M. Murota, J. Appl. Phys. 68, 183 (1990).
14. G. Ottaviani, Thin Solid Films 140, 3 (1986).
15. L. A. Clevenger, A. Mutscheller, J. M. E. Harper, C. Cabral, Jr., and K. Barmak, J. Appl. Phys. 72, 4918 (1992).
16. C. Cabral, L. A. Clevenger, and R. G. Schad, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 2818 (1994).
17. H. L. Meyerheim, B. Lengeler, and H. E. Gobel, J. Appl. Phys. 68, 2694 (1990).
18. J. Y. Cheng and L. J. Chen, J. Appl. Phys. 69, 2161 (1991).
19. A. Noya, M. Takeyama, K. Sasaki, and T. Nakanishi, J. Appl. Phys. 76, 3893 (1994).
20. T. Tien, G. Ottaviani, and K. N. Tu, J. Appl. Phys. 54, 7047 (1983).
21. L. A. Clevenger, N. A. Bojarczuk, K. Holloway, J. M. E. Harper, C. Cabral, Jr., R. G. Schad, F. Cardone, and L. Stolt, J. Appl. Phys. 73, 300 (1993).
22. M. Stavrev, D. Fischer, A. Preuss, C. Wenzel, and N. Mattern, Microelectron. Eng. 33, 269 (1997).