Study of a novel ALD process for depositing MgF2 thin films

Journal of Materials Chemistry

Volumn 17, Issue 48, 2007, Pages 5077-5083

  Pilvi, Tero ^a   Hatanpää, Timo ^a   Puukilainen, Esa ^a   Arstila, Kai ^a   Bischoff, Martin ^b   Kaiser, Ute ^c   Kaiser, Norbert ^d   Leskelä, Markku ^a   Ritala, Mikko ^a  

^a UNIVERSITY OF HELSINKI   (Finland)

^b FRIEDRICH SCHILLER UNIVERSITY JENA   (Germany)

^c UNIVERSITY OF ULM   (Germany)

^d FRAUNHOFER INSTITUTE FOR APPLIED OPTICS AND PRECISION ENGINEERING   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; MAGNESIUM COMPOUNDS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; ULTRAVIOLET RADIATION; WAVELENGTH; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

ELECTRICAL PROPERTIES; MAGNESIUM FLUORIDE; OPTICAL APPLICATIONS;

THIN FILMS;

EID: 36749069552     PISSN: 09599428     EISSN: 13645501     Source Type: Journal    
DOI: 10.1039/b710903b     Document Type: Article

References (62)

1. UV Coatings: Materials and Applications, CERAC Coat. Mater. News, 2002, 12, 1-4 (http://www.cerac.com/pubs/CMNarchives.htm)
2. M. Scrocco Phys. Rev. B, 1986, 33, 7228-7231
3. Physical Constants of Organic Compounds, in CRC Handbook of Chemistry and Physics, Internet Version 2007, 87th edn, ed. D. R. Lide, Taylor and Francis, Boca Raton, FL, 2007
4. J. Heber, C. Muehlig, W. Triebel, N. Danz, R. Thielsch, N. Kaiser Appl. Phys. A, 2003, 76, 123-128
5. M. V. Jacob, J. Krupka, J. Mazierska, G. S. Woods Mater. Sci. Eng., A, 2006, 427, 175-180
6. Y. J. Lee, J. H. Lee, Y. Y. Lee, Y. H. Kang, Y. S. Kim, S. N. Kwon, K. Jeong Opt. Commun., 2001, 190, 211-220
7. S. Tamura, S. Kimura, Y. Sato, S. Motokoshi, H. Yoshida, K. Yoshida Jpn. J. Appl. Phys., 1990, 29, 1960-1962
8. S. E. Lee, S. W. Choi, J. Yi Thin Solid Films, 2000, 376, 208-213
9. S. Shuzhen, S. Jianda, L. Chunyan, Y. Kui, F. Zhengxiu, C. Lei Appl. Surf. Sci., 2005, 249, 157-161
10. M. Zhan, W. Gao, T. Tan, H. He, J. Shao, Z. Fan Vacuum, 2005, 79, 90-93
11. S. Guenster, D. Ristau, A. Gatto, N. Kaiser, M. Trovo, and F. Sarto, Proceedings of the 26th International Free Electron Conference FEL, ed. R. Bakker, L. Giannessi, M. Marsi and R. Walker, Comitato Conferenze Elettra, Trieste, Italy, 2004, pp. 233-236
12. E. Welsch, K. Ettrich, H. Blaschke, N. Kaiser Appl. Surf. Sci., 1996, 96-98, 393-398
13. Z. Czigany, M. Adamik, N. Kaiser Thin Solid Films, 1998, 312, 176-181
14. S. Jakobs, A. Duparre, H. Truckenbrodt Int. J. Machine Tools Manuf., 1998, 38, 733-739
15. M. J. Bloemer, M. Scalora Appl. Phys. Lett., 1998, 72, 1676.
16. M. Scalora, M. J. Bloemer, A. S. Pethel, J. P. Dowling, C. M. Bowden, A. S. Manka J. Appl. Phys., 1998, 83, 2377.
17. X. Xu, Z. Tang, J. Shao, Z. Fan Appl. Surf. Sci., 2005, 245, 11-15
18. J. K. Fu, G. Atanassov, Y. S. Dai, F. H. Tan, Z. Q. Mo J. Non-Cryst. Solids, 1997, 218, 403-410
19. E. J. Simburger, J. H. Matsumoto, T. W. Giants, A. Garcia, III, S. Liu, S. P. Rawal, A. R. Perry, C. H. Marshall, J. K. Lin, S. E. Scarborough Mater. Sci. Eng., B, 2005, 116, 265-272
20. A. Chtanov, M. Gal Sens. Actuators, B, 2001, 79, 196-199
21. P. J. Martin, W. G. Sainty, R. P. Nettlefield, D. R. McKenzie, D. J. H. Cockayne, S. H. Sie, O. R. Wood, H. G. Craighead Appl. Opt., 1987, 26, 1235-1239
22. P. Maier-Komor, J. Friese, R. Gernhauser, J. Homolka, R. Krucken, S. Winkler Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. A, 2004, 521, 35-42
23. N. L. Thomas, J. D. Wolfe Proc. SPIE-Int. Soc. Opt. Eng., 2000, 4003, 312-323
24. E. T. Hutcheson, G. Hass, J. T. Cox Appl. Opt., 1972, 11, 2245.
25. W. R. Hunter, J. F. Osantowski, G. Hass Appl. Opt., 1971, 10, 540.
26. L. R. Canfield, G. Hass, J. E. Waylonis Appl. Opt., 1966, 5, 45-49
27. M. Fernandez-Perea, J. A. Aznarez, J. Calvo-Angos, J. I. Larruquert, J. A. Mendez Thin Solid Films, 2006, 497, 249-253
28. J. I. Larruquert, R. A. M. Keski-Kuha Appl. Opt., 1999, 38, 1231-1236
29. M. C. Larciprete, N. Savalli, T. Tenev, M. Scalora, G. Leahu, C. Sibilia, S. Baglio, K. Panajotov, M. Bertolotti Appl. Phys. B, 2005, 81, 245-249
30. Q. Wang, W. Lei, X. Zhang, B. Wang, M. Liu, X. Zhou, Y. Di, X. Ma Appl. Surf. Sci., 2005, 239, 458-463
31. J. I. Larruquert, R. A. M. Keski-Kuha Opt. Commun., 2003, 215, 93-99
32. M. C. Larciprete, C. Sibilia, S. Paoloni, G. Leahu, R. Li Voti, M. Bertolotti, M. Scalora, K. Panajotov J. Appl. Phys., 2002, 92, 2251-2255
33. U. Kaiser, M. Adamik, G. Safran, P. B. Barna, S. Laux, W. Richter Thin Solid Films, 1996, 280, 5-15
34. A. Zuber, N. Kaiser, J. L. Stehle Thin Solid Films, 1995, 261, 37-43
35. V. Z. Rysanek Appl. Opt., 1965, 4, 993-997
36. S. Linden, M. Decker, M. Wegener Phys. Rev. Lett., 2006, 97, 083902.
37. D. Ristau, S. Gunster, S. Bosch, A. Duparre, E. Masetti, J. Ferre-Borrull, G. Kiriakidis, F. Peiro, E. Quesnel, A. Tikhonravov Appl. Opt., 2002, 41, 3196.
38. G. Atanassov, J. Turlo, J. K. Fu, Y. S. Dai Thin Solid Films, 1999, 342, 83-92
39. D. Jacob, F. Peiro, E. Quesnel, D. Ristau Thin Solid Films, 2000, 360, 133-138
40. K. Kawamata, T. Shouzu, N. Mitamura Vacuum, 1998, 51, 559-564
41. S. Scaglione, D. Flori, I. Soymie, A. Piegari Thin Solid Films, 1992, 214, 188-193
42. W. Seouk-Hoon, H. Chang Kwon Appl. Opt., 2006, 45, 1447.
43. F. Perales, J. M. Herrero, D. Jaque, C. de las Heras Opt. Mater., 2007, 29, 783-787
44. S. Fujihara, M. Tada, T. Kimura Thin Solid Films, 1997, 304, 252-255
45. T. Murata, H. Ishizawa, I. Motoyama, A. Tanaka J. Sol-Gel Sci. Technol., 2004, 322, 161-165
46. I. M. Thomas Appl. Opt., 1988, 27, 3356.
47. P. H. Joosten, P. Heller, H. J. P. Nabben, H. A. M. van Hal, T. J. A. Popma, J. Haisma Appl. Opt., 1985, 24, 2674.
48. M. Leskelä, M. Ritala Angew. Chem., Int. Ed., 2003, 42, 5548-5554
49. M. Ritala, and M. Leskelä, Handbook of Thin Film Materials, Academic Press, San Diego, 2001, p. 103
50. M. Ylilammi, T. Ranta-aho J. Electrochem. Soc., 1994, 141, 1278-1284
51. T. Pilvi, K. Arstila, M. Leskelä, M. Ritala Chem. Mater., 2007, 19, 3387-3392
52. T. Hatanpää, J. Ihanus, J. Kansikas, I. Mutikainen, M. Ritala, M. Leskelä Chem. Mater., 1999, 11, 1846-1852
53. M. Putkonen, L. Johansson, E. Rauhala, L. Niinistö J. Mater. Chem., 1999, 9, 2449-2452
54. B. S. Kwak, E. P. Boyd, K. Zhang, A. Erbil, B. Wilkins Appl. Phys. Lett., 1989, 54, 2542-2544
55. J. E. Schwarberg, R. E. Sievers, R. W. Moshier Anal. Chem., 1970, 42, 1828-1830
56. M. Ylilammi, T. Ranta-aho Thin Solid Films, 1993, 232, 56-62
57. M. Putkonen, T. Sajavaara, L. Niinistö, J. Keinonen Anal. Bioanal. Chem., 2005, 382, 1791-1799
58. M. Ylilammi Thin Solid Films, 1996, 279, 124-130
59. A. Duparre, C. Ruppe, K. A. Pischow, M. Adamik, P. B. Barna Thin Solid Films, 1995, 261, 70-75
60. U. Kaiser, N. Kaiser, P. Weisbrodt, U. Mademann, E. Hacker, H. Muller Thin Solid Films, 1992, 217, 7-16
61. A. Coban, E. E. Khawaja, S. M. A. Durrani Nucl. Instrum. Methods Phys. Res., Sect. B, 2002, 194, 171-176
62. J. K. Ko, D. Y. Kim, J. H. Park, S. W. Choi, S. H. Park, J. Yi Thin Solid Films, 2003, 427, 259-265