Microcontact printing pattern as a mask for chemical etching: A scanning photoelectron microscopy study

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 25, Issue 5, 2007, Pages 1729-1736

  Wu, Yi Te ^a   Liao, Jiunn Der ^a   Weng, Chih Chiang ^a   Chen, Chia Hao ^b   Wang, Ming Chen ^c   Zharnikov, Michael ^d  

^a NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

^c YUANPEI UNIVERSITY   (Taiwan)

^d UNIVERSITY OF HEIDELBERG   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ETCHING; MASKS; PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SYNCHROTRONS;

ETCHING AGENTS; MICROCONTACT PRINTING PATTERNS;

PRINTING;

ETCHING; IMPACT PRINTING; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY;

EID: 34648818931     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.2782581     Document Type: Article

References (42)

1. S. L. Brandow, M. S. Chen, R. Aggarwal, C. S. Dulcey, J. M. Calvert, and W. Dressick, Langmuir 15, 5429 (1999).
2. W. Eck, V. Stadler, W. Geyer, M. Zharnikov, A. Gölzhäuser, and M. Grunze, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 12, 805 (2000).
3. J. C. Love, L. A. Estroff, J. K. Kriebel, R. G. Nuzzo, and G. M. Whitesides, Chem. Rev. (Washington, D.C.) 105, 1103 (2005).
4. Y. Xia, X.-M. Zhao, E. Kim, and G. M. Whitesides, Chem. Mater. 7, 2332 (1995).
5. A. Gölzhäuser, W. Geyer, V. Stadler, W. Eck, M. Grunze, K. Edinger, T. Weimann, and P. Hinze, J. Vac. Sci. Technol. B 18, 3414 (2000).
6. M. Zharnikov and M. Grunze, J. Vac. Sci. Technol. B 20, 1793 (2002).
7. M. J. Lercel, H. G. Craighead, A. N. Parikh, K. Seshadri, and D. L. Allara, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 1844 (1996).
8. R. Maoz, S. Cohen, and J. Sagiv, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 11, 55 (1999).
9. R. Klauser, I. H. Hong, S. C. Wang, M. Zharnikov, A. Paul, A. Gölzhäuser, A. Terfort, and T. J. Chuang, J. Phys. Chem. B 107, 13133 (2003).
10. R. Klauser, M. L. Huang, S. C. Wang, C. H. Chen, T. J. Chuang, A. Terfort, and M. Zharnikov, Langmuir 20, 2050 (2004).
11. R. Klauser, C. H. Chen, M. L. Huang, S. C. Wang, T. J. Chuang, and M. Zharnikov, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 144-147, 393 (2005).
12. M. Zharnikov, A. Shaporenko, A. Paul, A. Gölzhäuser, and A. Scholl, J. Phys. Chem. B 109, 5168 (2005).
13. A. Kumar and G. M. Whitesides, Appl. Phys. Lett. 63, 2002 (1993).
14. Y. Xia, X.-M. Zhao, E. Kim, and G. M. Whitesides, Chem. Mater. 7, 2332 (1995).
15. E. Delamarche, M. Geissler, H. Wolf, and B. Michael, J. Am. Chem. Soc. 124, 3834 (2002).
16. J. C. Love, D. B. Wolfe, M. L. Chabinyc, K. E. Paul, and G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 124, 1576 (2002).
17. B. D. Gates, Q. B. Xu, M. Stewart, D. Ryan, W. C. Grant, and G. M. Whitesides, Chem. Rev. (Washington, D.C.) 105, 1171 (2005).
18. A. Carvalho, M. Geissler, H. Schmid, B. Michel, and E. Delamarche, Langmuir 18, 2406 (2002).
19. M. Geissler, H. Wolf, R. Stutz, E. Delamarche, U. W. Grummt, B. Michael, and A. Bietsch, Langmuir 19, 6301 (2003).
20. J. A. Rogers, K. Baldwin, Z. Bao, A. Dodabalapur, V. R. Raju, J. Ewing, and K. Amundson, MRS Symposia Proceedings No. 660 (Materials Research Society, Pittsburgh, 2001), p. 1.
21. Y. Xia, D. Qin, and G. M. Whitesides, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 8, 1015 (1996).
22. J. Tien, A. Terfort, and G. M. Whitesides, Langmuir 13, 5349 (1997).
23. J. A. Rogers, R. J. Jackman, and G. M. Whitesides, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 9, 475 (1997).
24. E. Delamarche, H. Schmid, A. Bietsch, N. B. Larsen, H. Rothuizen, B. Michel, and H. Biebuyck, J. Phys. Chem. B 102, 3324 (1999).
25. E. Delamarche, Langmuir 19, 8749 (2003).
26. C. Donzel, M. Geissler, A. Bernard, H. Wolf, B. Michel, J. Hilborn, and E. Delamarche, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 13, 1164 (2001).
27. J. Hyun, H. Ma, Z. Zhang, T. P. Beebe, Jr., and A. Chilkoti, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 15, 576 (2003).
28. H. Schmid and B. Michel, Macromolecules 33, 3042 (2000).
29. T. W. Odom, J. C. Love, D. B. Wolfe, K. E. Paul, and G. M. Whitesides, Langmuir 18, 5314 (2002).
30. S. Kobayashi, Nat. Mater. 3, 317 (2004).
31. R. Klauser, Surf. Rev. Lett. 9, 213 (2002).
32. K. Heister, M. Zharnikov, M. Grunze, L. S. O. Johansson, and A. Ulman, Langmuir 17, 8 (2001).
33. P. E. Laibinis and G. M. Whitesides, J. Am. Chem. Soc. 114, 1990 (1992).
34. K. Heister, L. S. O. Johansson, M. Grunze, and M. Zharnikov, Surf. Sci. 529, 36 (2003).
35. P. E. Laibinis, G. M. Whitesides, D. L. Allara, Y. T. Tao, A. N. Parikh, and R. G. J. Nuzzo, J. Am. Chem. Soc. 113, 7152 (1991).
36. K. Heister, M. Zharnikov, M. Grunze, and L. S. O. Johansson, J. Phys. Chem. B 105, 4058 (2001).
37. A. Shaporenko, A. Terfort, M. Grunze, and M. Zharnikov, J. Electron Spectrosc. Relat. Phenom. 151, 45 (2006).
38. D. A. Hutt and G. J. Leggett, J. Phys. Chem. 100, 6657 (1996).
39. D. A. Hutt, E. Cooper, and G. J. Leggett, J. Phys. Chem. B 102, 174 (1998).
40. C. C. Weng, J. D. Liao, Y. T. Wu, M. C. Wang, R. Klauser, M. Grunze, and M. Zharnikov, Langmuir 20, 10093 (2004).
41. N. B. Larsen, H. Biebuyck, E. Delamarche, and B. Michel, J. Am. Chem. Soc. 119, 3017 (1997).
42. P. E. Sheehan and L. Whitman, Phys. Rev. Lett. 88, 156104 (2002).