Textured crystallization of ultrathin hafnium oxide films on silicon substrate

Applied Physics Letters

Volumn 90, Issue 16, 2007, Pages

  Bohra, Fakhruddin ^b   Jiang, Bin ^b   Zuo, Jian Min ^a  

^a University of Illinois at Urbana Champaign   (United States)

^b NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ORTHORHOMBIC PHASE; OUT-OF-PLANE TEXTURE; THERMAL ANNEALING;

ANNEALING; ATOMIC LAYER DEPOSITION; CRYSTALLIZATION; FILM GROWTH; HAFNIUM COMPOUNDS; SILICON;

ULTRATHIN FILMS;

EID: 34247337306     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2724925     Document Type: Article

References (19)

1. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
2. J. Robertson, Rep. Prog. Phys. 69, 327 (2006).
3. C. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 87, 484 (2000).
4. M. L. Green, M. Y. Ho, B. Busch, G. D. Wilk, T. Sorsch, T. Couard, B. Brijis, W. Vandervorst, P. I. Raisanen, D. Muller, M. Brade, and J. Grazul, J. Appl. Phys. 92, 7168 (2002).
5. G. Pant, A. Gnade, M. J. Kim, R. M. Wallace, B. E. Gnade, M. A. Quevedo-Lopez, P. D. Kirsch, and S. Krishnan, Appl. Phys. Lett. 89, 032904 (2006).
6. M. H. Hakala, A. S. Foster, J. L. Gavartin, P. Havu, M. J. Puska, and R. M. Nieminen, J. Appl. Phys. 100, 043708 (2006).
7. S. K. Dey, A. Das, M. Tsai, D. Gu, M. Floyd, R. W. Carpenter, H. De Waard, C. Werkhoven, and S. Marcus, J. Appl. Phys. 95, 5042 (2004).
8. Y. Hoshino, Y. Kido, K. Yamamoto, S. Hayashi, and M. Niwa, Appl. Phys. Lett. 81, 2650 (2002).
9. M. Gutowski, J. E. Jaffe, C. L. Liu, M. Stoker, R. I. Hegde, R. S. Rai, and P. J. Tobin, Appl. Phys. Lett. 80, 1897 (2002).
10. J. Aarik, A. Aidla, H. Mandar, V. Sammelselg, and T. Uustare, J. Cryst. Growth 220, 105 (2000).
11. C. Wiemer, S. Ferrari, M. Fanciulli, G. Pavia, and L. Lutterotti, Thin Solid Films 450, 134 (2004).
12. G. He, M. Liu, L. Q. Zhu, M. Chang, Q. Fang, and L. D. Zhang, Science 576, 67 (2005).
13. P. S. Lysaght, P. J. Chen, R. Bergmann, T. Messina, R. W. Murto, and H. R. Huff, J. Non-Cryst. Solids 303, 54 (2002).
14. G. Pant, A. Gnade, M. J. Kim, R. M. Wallace, B. E. Gnade, M. A. Quevedo-Lopez, and P. D. Kirsch, Appl. Phys. Lett. 88, 032901 (2006).
15. M. Ritala, M. Leskela, L. Niinisto, T. Prohaska, G. Friedbacher, and M. Grasserbauer, Thin Solid Films 250, 72 (1994).
16. G. D. Wilk and B. Brar, IEEE Electron Device Lett. 21, 569 (2000).
17. A. Ourmazd, D. W. Taylor, J. A. Rentschier, and J. Bevk, Phys. Rev. Lett. 59, 213 (1987).
18. A. Pasquarello, M. S. Hybertsen, and R. Car, Nature (London) 396, 58 (1998).
19. H. Kageshima and K. Shiraishi, Phys. Rev. Lett. 81, 5936 (1998).