Ion-assisted functional monolayer coating of nanorod arrays in hydrogen plasmas

Physics of Plasmas

Volumn 14, Issue 3, 2007, Pages

  Tam, E ^a   Levchenko, I ^a   Ostrikov, K ^a   Keidar, M ^b   Xu, S ^c  

^a UNIVERSITY OF SYDNEY   (Australia)

^b UNIVERSITY OF MICHIGAN   (United States)

^c NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

HYDROGEN PLASMAS; ION ASSISTED FUNCTIONAL MONOLAYER COATINGS; MICROSCOPIC ION FLUXES; NANOROD ARRAYS;

COMPUTER SIMULATION; MONOLAYERS; NANORODS; NUMERICAL METHODS; PARAMETER ESTIMATION; PLASMA SHEATHS;

COATING TECHNIQUES;

EID: 34047133302     PISSN: 1070664X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2480494     Document Type: Article

References (44)

1. K. Ostrikov, Rev. Mod. Phys. 77, 489 (2005).
2. K. Bradley and J. C. P. Gabriel and A. Star and G. Grüner, Appl. Phys. Lett. 83, 3821 (2003).
3. Z. L. Tsakadze, K. Ostrikov, and S. Xu, Surf. Coat. Technol. 191, 49 (2005);
4. K. Ostrikov, Z. Tsakadze, I. Denysenko, P. P. Rutkevych, J. D. Long, and S. Xu, Contrib. Plasma Phys. 45, 514 (2005).
5. S. Xu, K. Ostrikov, J. D. Long, and S. Y. Huang, Vacuum 80, 621 (2006).
6. K. Ostrikov, J. D. Long, P. P. Rutkevych, and S. Xu, Vacuum 80, 1126 (2006).
7. J. W. Park, J. K. Kim, and K. Y. Suh, Nanotechnology 17, 2631 (2006).
8. U. Cvelbar, M. Mozetic, M. K. Sunkara, and S. Vaddiraju, Adv. Mater. (Weinheim, Ger.) 17, 2138 (2005).
9. M. Bockrath, D. H. Cobden, P. L. McEuen, N. G. Chopra, A. Zettl, A. Thess, and R. E. Smalley, Science 275, 1922 (1997).
10. S. V. Vladimirov and K. Ostrikov, Phys. Rep. 393, 175 (2004).
11. I. Levchenko, M. Keidar, K. Ostrikov, and S. Xu, J. Appl. Phys. 98, 064304 (2005).
12. Y. C. Hong and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 12, 053504 (2005).
13. W. Zhou, X. X. Zhong, X. C. Wu, L. Q. Yuan, Z. C. Zhao, H. Wang, Y. X. Xia, Y. Y. Feng, J. He, and W. T. Chen, Surf. Coat. Technol. 200, 6155 (2006).
14. Y. C. Hong, J. H. Kim, S. C. Cho, and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 13, 063506 (2006).
15. Z. L. Tsakadze, K. Ostrikov, J. D. Long, and S. Xu, Diamond Relat. Mater. 13, 1923 (2004).
16. Y. C. Hong, J. H. Kim, C. U. Bang, and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 12, 114501 (2005).
17. Q. Wang, J. Li, Y. Ma, X. Bai, Z. Wang, P. Xu, C. Shi, B. Quan, S. Yue, and C. Gu, Nanotechnology 16, 2919 (2005).
18. F. Xu, K. Yu, G. Li, Q. Li, and Z. Zhu, Nanotechnology 17, 2855 (2006).
19. H. Lo, D. Das, J. Hwang, K. Chen, C. Hsu, C. Chen, and L. Chen, Appl. Phys. Lett. 83, 1420 (2003).
20. K. N. Ostrikov, M. Y. Yu, and H. Sugai, J. Appl. Phys. 86, 2425 (1999);
21. K. N. Ostrikov, S. Y. Yu, and M. Y. Yu, J. Appl. Phys. 88, 2268 (2000).
22. K. N. Ostrikov, S. Xu, and A. B. M. S. Azam, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 251 (2002).
23. K. N. Ostrikov, M. Y. Yu, and N. A. Azarenkov, J. Appl. Phys. 84, 4176 (1998);
24. N. A. Azarenkov, I. B. Denisenko, and K. N. Ostrikov, J. Phys. D: Appl. Phys. 28, 2465 (1995).
25. M. Yan, H. T. Zhang, E. J. Widjaja, and R. P. H. Chang, J. Appl. Phys. 94, 5240 (2003).
26. R. Narain, A. Housni, and L. Lane, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 44, 6558 (2006).
27. D. Wang and H. Dai, Appl. Phys. A 85, 217 (2006).
28. P. Paredez, M. Marchi, M. M. da Costa, C. Figuero, M. Kleinke, C. Ribeiro, J. Sanchez-Lopez, T. Rojas, and F. Alvarez, J. Non-Cryst. Solids 352, 1303 (2006).
29. K. E. Elers, T. Blomberg, M. Peussa, B. Aitchison, S. Haukka, and S. Marcusi, Chem. Vap. Deposition 12, 13 (2006).
30. I. Levchenko, K. Ostrikov, and E. Tam, Appl. Phys. Lett. 89, 223108 (2006).
31. C. Ducati, I. Alexandrou, M. Chhowalla, G. A. J. Amaratunga, and J. Robertson, J. Appl. Phys. 92, 3299 (2002).
32. E. Tam, I. Levchenko, and K. Ostrikov, J. Appl. Phys. 100, 036104 (2006).
33. B. N. Khare, M. Meyyappan, J. Kralj, P. Wilhite, M. Sisay, H. Imanaka, J. Koehne, and C. W. Baushchlicher, Appl. Phys. Lett. 81, 5237 (2002).
34. B. N. Khare, M. Meyyappan, A. M. Cassell, C. V. Nguyen, and J. Han, Nano Lett. 2, 73 (2002).
35. Y. D. Wang, K. Y. Zang, and S. J. Chua, J. Appl. Phys. 100, 054306 (2006).
36. J. Li, C. Papadopoulos, J. M. Xu, and M. Moskovits, Appl. Phys. Lett. 75, 367 (1999).
37. I. Levchenko, M. Keidar, K. Ostrikov, and S. Xu, Appl. Phys. Lett. 89, 033109 (2006).
38. M. Lieberman and A. Lichtenberg, Principles of Plasma Discharges and Materials Processing (Wiley, New York, 1994).
39. I. B. Denysenko, K. Ostrikov, S. Xu, M. Y. Yu, and C. H. Diong, J. Appl. Phys. 94, 6097 (2003).
40. K. N. Ostrikov and M. Y. Yu, IEEE Trans. Plasma Sci. 26, 100 (1998);
41. K. N. Ostrikov, M. Y. Yu, S. V. Vladimirov, and O. Oshihara, Phys. Plasmas 6, 737 (1999).
42. K. N. Ostrikov, M. Y. Yu, and L. Stenflo, Phys. Rev. E 61, 782 (2000).
43. S. V. Vladimirov, K. Ostrikov, M. Y. Yu, and G. E. Morfill, Phys. Rev. E 67, 036406 (2003);
44. K. N. Ostrikov, S. Kumar, and H. Sugai, Phys. Plasmas 8, 3490 (2001).