Modification of opal photonic crystals using Al 2O 3 atomic layer deposition

Chemistry of Materials

Volumn 18, Issue 15, 2006, Pages 3562-3570

  Sechrist, Z A ^a   Schwartz, B T ^b   Lee, J H ^b   McCormick, J A ^b   Piestun, Rafael ^b   Park, W ^b   George, S M ^b  

^a UNIVERSITY OF COLORADO   (United States)

^b UCB 450   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION; BRAGG PEAK; BRAGG WAVELENGTHS; PHOTONIC CRYSTALS;

CHEMICAL MODIFICATION; COMPUTATIONAL GEOMETRY; COMPUTER SIMULATION; MATHEMATICAL MODELS; PHOTONS; REFRACTIVE INDEX; SINGLE CRYSTALS; THIN FILMS; TUNING;

ALUMINUM COMPOUNDS;

EID: 33746913068     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm060263d     Document Type: Article

References (50)

1. Arsenault, A.; Fournier-Bidoz, S. B.; Hatton, B.; Miguez, H.; Tetrault, N.; Vekris, E.; Wong, S.; Yang, S. M.; Kitaev, V.; Ozin, G. A. J. Mater. Chem. 2004, 14, 781.
2. Chow, E.; Grot, A.; Mirkarimi, L. W.; Sigalas, M.; Girolami, G. Opt. Lett. 2004, 29, 1093.
3. Sai, H.; Yugami, H. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 3399.
4. John, S. Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2486.
5. Yablonovitch, E. Phys. Rev. Lett. 1987, 58, 2059.
6. Soljacic, M.; Johnson, S. G.; Fan, S. H.; Ibanescu, M.; Ippen, E.; Joannopoulos, J. D. J. Opt. Soc. Am. B 2002, 19, 2052.
7. Pendry, J. B. Intense Focusing of Light Using Metals. In Photonic Crystals and Light Localization in the 21st Century; Soukoulis, C. M., Ed.; Kluwer Academic Publishers: Dordrecht, The Netherlands, 2000; p 329.
8. Mekis, A.; Chen, J. C.; Kurland, I.; Fan, S. H.; Villeneuve, P. R.; Joannopoulos, J. D. Phys. Rev. Lett. 1996, 77, 3787.
9. Yanik, M. F.; Suh, W.; Wang, Z.; Fan, S. Phys. Rev. Lett. 2004, 93, 233903.
10. Comoretto, D.; Grassi, R.; Marabelli, F.; Andreani, L. C. Mater. Sci. Eng. C 2003, 23, 61.
11. Lopez, C.; Vazquez, L.; Meseguer, F.; Mayoral, R.; Ocana, M.; Miguez, H. Superlattices Microstruct. 1997, 22, 399.
12. Krauss, T. F.; De la Rue, R. M. Prog. Quantum Electron. 1999, 23, 51.
13. Sozuer, H. S.; Haus, J. W.; Inguva, R. Phys. Rev. B 1992, 45, 13962.
14. Busch, K.; John, S. Phys. Rev. E 1998, 55, 3896.
15. Golubev, V. G.; Kosobukin, V. A.; Kurdyukov, D. A.; Medvedev, A. V.; Pevtsov, A. B. Semiconductors 2001, 35, 680.
16. Abrarov, S. M.; Yuldashev, S. U.; Lee, S. B.; Kang, T. W. J. Lumin. 2004, 109, 25.
17. Miguez, H.; Chomski, E.; Garcia-Santamaria, F.; Ibisate, M.; John, S.; Lopez, C.; Meseguer, P.; Mondia, J. P.; Ozin, G. A.; Toader, O.; van Driel, H. M. Adv. Mater. 2001, 13, 1634.
18. Wen, W. J.; Wang, N.; Zheng, D. W.; Chen, C.; Tu, K. N. J. Mater. Res. 1999, 14, 1186.
19. Subramania, G.; Constant, K.; Biswas, R.; Sigalas, M. M.; Ho, K. M. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 3933.
20. King, J. S.; Graugnard, E.; Summers, C. J. Adv. Mater. 2005, 17, 1010.
21. King, J. S.; Neff, C. W.; Summers, C. J.; Park, W.; Blomquist, S.; Forsythe, E.; Morton, D. Appl. Phys. Lett. 2003, 83, 2566.
22. Scharrer, M.; Wu, X.; Yamilov, A.; Cao, H.: Chang, R. P. H. Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 151113.
23. Rugge, A.; Becker, J. S.; Gordon, R. G.; Tolbert, S. H. Nano Lett. 2003, 3, 1293.
24. Rugge, A.; Park, J. S.; Gordon, R. G.; Tolbert, S. H. J. Phys. Chem. B 2005, 109, 3764.
25. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. Appl. Surf. Sci. 2000, 162, 280.
26. Ritala, M.; Leskela, M. Atomic Layer Deposition. In Handbook of Thin Film Materials; Nalwa, H. S., Ed.; Academic Press: San Diego, 2001; Vol. 1, Chapter 2.
27. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W.; J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
28. Elam, J. W.; Routkevitch, D.; Mardilovich, P. P.; George, S. M. Chem. Mater. 2003, 15, 3507.
29. Mayer, T. M.; Elam, J. W.; George, S. M.; Kotula, P. G.; Goeke, R. S. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 2883.
30. Dillon, A. C.; Ott, A. W.; Way, J. D.; George, S. M. Surf. Sci. 1995, 322, 230.
31. Ott, A. W.; Klaus, J. W.; Johnson, J. M.; George, S. M. Thin Solid Films 1997, 292, 135.
32. Groner, M. D.; Elam, J. W.; Fabreguette, F. H.; George, S. M. Thin Solid Films 2002, 413, 186.
33. Ritala, M.; Leskela, M.; Dekker: J. P.; Mutsaers, C.; Soininen, P. J.; Skarp, J. Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 7.
34. Reynolds, A. L. Translight Software; University of Glasgow: Glasgow, U.K., 2000.
35. Bell, P. M.; Pendry, J. B.; Moreno, L. M.; Ward, A. J. Comput. Phys. Commun. 1995, 85, 306.
36. Compton, A. H. X-rays in theory and experiment; D. Van Nostrand Co., Inc.: New York, 1935.
37. Ritchmyer, F. K.; Kennard, E. H. Introduction to modern physics, 3rd ed.; McGraw-Hill: New York, 1942.
38. Elam, J. W.; Groner, M. D.; George, S. M. Rev. Sci. Instrum. 2002, 73, 2981.
39. Bridgeman, O. C.; Aldrich, E. W. J. Heat Transfer 1964, 86, 279.
40. McCullough, J. P.; Messerly, J. F.; Moore, R. T.; Todd, S. S. J. Phys. Chem. 1963, 67, 677.
41. Stober, W.; Fink, A.; Hohn, E. J. Colloid Interface Sci. 1968, 26, 62.
42. Jiang, P.; Bertone, J. F.; Hwang, K. S.; Colvin, V. L. Chem. Mater. 1999, 11, 2132.
43. Cras, J. J.; Rowe-Taitt, C. A.; Nivens, D. A.; Ligler, F. S. Biosens. Bioelectron. 1999, 14, 683.
44. Sauerbrey, G. Z. Z. Phys. 1959, 155, 206.
45. Rocklein, M. N.; George, S. M. Anal. Chem. 2003, 75, 4975.
46. Groner, M. D.; Fabreguette, F. H.; Elam, J. W.; George, S. M. Chem. Mater. 2004, 16, 639.
47. Comoretto, D.; Cavallo, D.; Dellepiane, G.; Grassi, R.; Marabelli, F.; Andreani, L. C.; Brabec, C. J.; Andreev, A.; Zakhidov, A. A. Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2002, 708, 317.
48. Vlasov, Y. A.; Deutsch, M.; Norris, D. J. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 1627.
49. Islamraja, M. M.; Chang, C.; McVittie, J. P.; Cappelli, M. A.; Saraswat, K. C. J. Vac. Sci. Technol. B 1993, 11, 720.
50. Gordon, R. G.; Hausmann, D.; Kim, E.; Shepard, J. Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 73.