Photoreflectance investigations of quantum well intermixing processes in compressively strained InGaAsP/InGaAsP quantum well laser structures emitting at 1.55 μm

Journal of Applied Physics

Volumn 100, Issue 1, 2006, Pages

  Podhorodecki, A ^a   Andrzejewski, J ^a   Kudrawiec, R ^a   Misiewicz, J ^a   Wojcik, J ^b   Robinson, B J ^b   Roschuk, T ^b   Thompson, D A ^b   Mascher, P ^b  

^a WROCLAW UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Poland)

^b MCMASTER UNIVERSITY   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; BAND STRUCTURE; DIELECTRIC FILMS; ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE; MOLECULAR BEAM EPITAXY; PHOTOLUMINESCENCE; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SEMICONDUCTING INDIUM GALLIUM ARSENIDE; WAVE PROPAGATION;

BAND GAP ENERGY; GAS SOURCE MOLECULAR BEAM EPITAXY; PHOTOREFLECTANCE; WAVE-PACKET PROPAGATION METHOD;

SEMICONDUCTOR QUANTUM WELLS;

EID: 33746211186     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2209787     Document Type: Article

References (71)

1. F. Devaux, S. Chelles, A. Ougazzaden, A. Mircea, and J. C. Hammond, Semicond. Sci. Technol. 10, 887 (1995).
2. Y. Raisky, W. B. Wang, R. R. Alfano, C. L. Reynolds, Jr., D. V. Stampone, and M. W. Focht, J. Appl. Phys. 84, 5790 (1998).
3. B. F. Levine, J. Appl. Phys. 74, R1 (1993).
4. R. C. Alfernes and U. Koren, Appl. Phys. Lett. 60, 3209 (1992).
5. J. H. Marsh, Semicond. Sci. Technol. 8, 1136 (1993).
6. J. D. Ralston, A. L. Moretti, R. K. Jain, and F. A. Chambers, Appl. Phys. Lett. 50, 1817 (1987).
7. J. E. Epler, R. D. Burnham, R. L. Thornton, T. L. Paoli, and M. C. Bashaw, Appl. Phys. Lett. 49, 1447 (1986).
8. A. McKee, C. J. McLean, G. Lullo, A. C. Bryce, R. M. De La Rue. J. H. Marsh, and C. C. Button, IEEE J. Quantum Electron. 45, 35 (1997).
9. N. Holonyak, Jr., Int. J. Quantum Chem. 4, 548 (1998).
10. L. J. Guido et al., J. Appl. Phys. 61, 1372 (1987).
11. D. G. Deppe, L. J. Guido, N. Holonyak, Jr., K. C. Hsieh, R. D. Burnham, R. L. Thornton, and T. L. Paoli, Appl. Phys. Lett. 49, 510 (1986).
12. O. P. Kowalski et al., Appl. Phys. Lett. 72, 581 (1998).
13. T. E. Schlesinger and T. Kuech, Appl. Phys. Lett. 49, 519 (1986).
14. J. D. Ralston, S. O'Brien, G. W. Wicks, and L. F. Eastman, Appl. Phys. Lett. 54, 1570 (1989).
15. K. Nakashima, Y. Kawaguchi, Y. Kawamura, Y. Imamura, and H. Ashi, Appl. Phys. Lett. 52, 1383 (1988).
16. Y. Suzuki, H. Iwaura, T. Miyazawa, and O. Mikami, Appl. Phys. Lett. 57, 2745 (1990).
17. R. Leon, D. R. M. Williams, J. Krueger, E. R. Weber, and M. R. Melloch, Phys. Rev. B 56, R4336 (1997).
18. F. Hegler, M. O. Manasreh, C. Morath, P. Ballet, H. Yang, G. J. Salamo, H. H. Tan, and C. Jagadish, Appl. Phys. Lett. 77, 2868 (2000).
19. S. Yuan et al., J. Appl. Phys. 83, 1305 (1998).
20. G. Weiser, K. Satzke, B. Schlichtherle, L. Goldstein, and A. Perales, Phys. Rev. B 45, 14376 (1992).
21. M. K. Lee, J. D. Song, J. S. Yu, T. W. Kim, H. Lim, and Y. T. Lee, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 73, 357 (2001).
22. J. Micallef, E. H. Li, and B. L. Weiss, J. Appl. Phys. 73, 7524 (1993).
23. H. Chen et al., J. Appl. Phys. 89, 4815 (2001).
24. A. McKee, C. J. McLean, G. Lullo, A. C. Bryce, R. M. De La Rue, J. H. Marsh, and C. C. Button, IEEE J. Quantum Electron. 45, 35 (1997).
25. J. H. Marsh, S. A. Bradshaw, A. C. Bryce, R. Gwilliam, and R. W. Glew, J. Electron. Mater. 20, 973 (1991).
26. L. V. Dao, M. Gal, C. Carmody, H. H. Tan, and C. Jagadish, J. Appl. Phys. 88, 5252 (2000);
27. L. V. Dao, M. B. Johnston, M. Gal, L. Fu, H. H. Tan, and C. Jagadish, Appl. Phys. Lett. 73, 3408 (1998), and references therein.
28. A. Podhorodecki, A. Andrzejewski, R. Kudrawiec, J. Misiewicz, J. Wójcik, B. J. Robinson, D. A. Thompson, and P. Mascher, Phys. Status Solidi A 202, 1263 (2005).
29. R. Kudrawiec, G. Sek, W. Rudno-Rudzinski, J. Misiewicz, J. Wójcik, B. J. Robinson, D. A. Thompson, and P. Masher, Acta Phys. Pol. A 102, 649 (2002).
30. R. Kudrawiec, G. Sek, W. Rudno-Rudzinski, W. Misiewicz, J. Wójcik, B. J. Robinson, D. A. Thompson, and P. Mascher, Physica E (Amsterdam) 17, 602 (2003).
31. R. Kudrawiec, G. Sek, W. Rudno-Rudzinski, W. Misiewicz, J. Wójcik, B. J. Robinson, D. A. Thompson, and P. Mascher, Mater. Sci. Eng., B 1, 232(2003).
32. A. S. W. Lee, M. MacKenzie, D. A. Thompson, J. Bursik, and B. J. Robinson, Appl. Phys. Lett. 78, 3199 (2001).
33. J. H. Teng, J. R. Dong, S. J. Chua, D. A. Thompson, B. J. Robinson, A. S. W. Lee, J. Hazell, and I. Sproule, Mater. Sci. Semicond. Process. 4, 621 (2001).
34. D. Tari, M. De Giorgi, and R. Cingolani, Phys. Status Solidi C 1, 535 (2004).
35. J. F. Hazell, D. A. Thompson, N. Bertsch, J. G. Simmons, B. J. Robinson, and G. I. Sproule, Semicond. Sci. Technol. 16, 986 (2001).
36. J. Wójcik, B. J. Robinson, D. A. Thompson, and P. Mascher, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1076 (2002).
37. B. Elman, E. S. Koteles, P. Melman, and C. A. Armiento, J. Appl. Phys. 66, 2104 (1989).
38. D. Huang, M. Kallergi, J. Aubel, S. Sundaram, G. DeSalvo, and J. Comas, J. Appl. Phys. 70, 4181 (1991).
39. K. B. Kahen and G. Rajeswaran, J. Appl. Phys. 66, 545 (1989).
40. M. Kewabe, N. Shimizu, F. Hasegawa, and Y. Nannichi, Appl. Phys. Lett. 46, 849 (1985).
41. H. Chen et al., J. Appl. Phys. 89, 4815 (2001).
42. J. Misiewicz, P. Sitarek, G. Sek, and R. Kudrawiec, Mater. Sci. 21, 263 (2003).
43. M. Boudreau, M. Boumerzoug, P. Mascher, and P. E. Jessop, Appl. Phys. Lett. 63, 3014 (1993).
44. M. K. Lee, J. D. Song, J. S. Yu, T. W. Kim, K. Lim, and Y. T. Lee, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 73, 357 (2001).
45. J. Crank, The Mathematics of Diffusion (Oxford University, London, 1957).
46. M. L. Zambrano and J. C. Arce, Phys. Rev. B 66, 155340 (2002).
47. D. F. Montano, J. C. Arce, and N. Porras-Montenegro, J. Phys.: Condens. Matter 12, 9917 (2000).
48. B. J. Ben Daniel and C. B. Duke, Phys. Rev. 152, 683 (1966).
49. C. Juang, K. J. Kühn, and R. B. Darling, Phys. Rev. B 41, 12047 (1990).
50. E. H. Li, Physica E (Amsterdam) 5, 215 (2000).
51. Y.-H. Cho, B.-D. Choe, and H. Lim, Appl. Phys. Lett. 69, 3740 (1996).
52. J. Andrzejewski, A. Podhorodecki, and J. Misiewicz (submitted).
53. W. Franz, Z. Naturforsch. B 13, 484 (1958);
54. L. V. Keldysh, Zh. Eksp. Teor. Fiz. 34, 1138 (1958).
55. K. Matsuda, T. Saiki, M. Takahashi, A. Moto, and S. Takagishi, Appl. Phys. Lett. 78, 1508 (2001);
56. K. L. Teo et al., ibid. Appl. Phys. Lett. 73, 1697 (1998).
57. F. H. Pollak, in Modulation Spectroscopy of Semiconductor and Semiconductor Microstructures, Handbook on Semiconductors Vol. 2, edited by M. Balkanski (Elsevier, Amsterdam, 1994), p. 527.
58. S. Ghosh and H. T. Grahn, J. Appl. Phys. 90, 500 (2001).
59. M. Colocci, M. Gurioli, and A. Vinatteri, J. Appl. Phys. 68, 2809 (1990).
60. R. Kudrawiec, L. Bryja, G. Sȩk, K. Ryczko, and A. Forchel, Cryst. Res. Technol. 38, 399 (2003).
61. J. Wojcik, B. J. Robinson, D. A. Thompson, and P. Mascher, J. Vac. Sci. Technol. A 20, 1076 (2002).
62. E. K. V. Rao, Ph. Harmoudi, M. Juhel, and H. Thibierge, Appl. Phys. Lett. 66, 472 (1995).
63. C. Francis, F. H. Julien, J-Y. Emery, R. Simes, and L. Goldstein, J. Appl. Phys. 75, 3607 (1994).
64. M. Shultz, U. Egger, R. Scholz, G. Breitenstein, U. Gosele, and Y. Tan, J. Appl. Phys. 83, 5295 (1998).
65. A. Pepin, C. Vieu, M. Schneider, H. Launois, and Y. Nissim, J. Vac. Sci. Technol. B 15, 142 (1997).
66. I. Gontijo, Y. S. Tang, R. M. De La Rue, C. M. Somayor Torres, J. S. Roberts, and J. H. Marsh, J. Appl. Phys. 76, 5434 (1994).
67. M. Sydor, N. Jahren, W. C. Mitchel, W. V. Lampert, T. W. Hass, M. Y. Yen, S. M. Mudare, and D. H. Tomich, J. Appl. Phys. 67, 7423 (1990).
68. H. Shen and F. H. Pollak, Phys. Rev. B 42, 7097 (1990).
69. D. A. Aspnes and A. A. Studna, Phys. Rev. B 7, 4605 (1973).
70. T. Kita, T. Kakutani, O. Wada, and T. Tsuuchiya, J. Appl. Phys. 73, 7524 (1993).
71. H. E. Scheibler, V. L. Alperovich, A. S. Jaroshevich, and A. S. Terekhov, Phys. Status SolidiA 152, 113 (1995).