Thermal stability and energy-band alignment of nitrogen-incorporated Zr O2 films on Si(100)

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 23, 2006, Pages

  Zhu, L Q ^a   Zhang, L D ^a   Li, G H ^a   He, G ^a   Liu, M ^a   Fang, Q ^b  

^a INSTITUTE OF SOLID STATE PHYSICS   (China)

^b UNIVERSITY COLLEGE LONDON   (United Kingdom)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; BAND STRUCTURE; ELLIPSOMETRY; NITROGEN; SILICON; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; SPECTRUM ANALYSIS; THERMODYNAMIC STABILITY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ANNEALING TEMPERATURE; SPECTROSCOPY ELLIPOSOMETRY (SE);

ZIRCONIA;

EID: 33745031256     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2209882     Document Type: Article

References (25)

1. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
2. M. L. Green, E. P. Gusev, R. Degraeve, and E. L. Garfunkel, J. Appl. Phys. 90, 2057 (2001).
3. T. S. Jeon, J. M. White, and D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett. 78, 368 (2001).
4. S. Venkataraj, O. Kappertz, R. Jayavel, and M. Wuttig, J. Appl. Phys. 92, 2461 (2002).
5. D. Chi and P. C. Mclntyre, Appl. Phys. Lett. 85, 4699 (2004).
6. J. J. Yu and I. W. Boyd, Thin Solid Films 453/454, 215 (2004).
7. M. Zhu, P. Chen, R. K. Y. Fu, W. Liu, C. Lin, and P. K. Chu, Thin Solid Films 476, 312 (2005).
8. P. Victor and S. B. Krupanidhi, J. Phys. D 38, 41 (2005).
9. M. Houssa, M. Naili, C. Zhao, H. Bender, M. M. Heyns, and A. Stesmans, Semicond. Sci. Technol. 16, 31 (2001).
10. J. M. Howard, V. Craciun, V. Essary, and R. K. Singh, Appl. Phys. Lett. 81, 3431 (2002).
11. M. Couillard, M.-S. Lee, D. Landheer, X. Wu, and G. A. Botton, J. Electrochem. Soc. 152, F101 (2005).
12. A. P. Huang, R. K. Y. Fu, P. K. Chu, L. Wang, W. Y. Cheung, J. B. Xu, and S. P. Wong, J. Cryst. Growth 277, 422 (2005).
13. H. Jung, H. Yang, K. Im, and H. Hwang, Appl. Phys. Lett. 79, 4408 (2001).
14. H. Jung, K. Im, D. Yang, and H. Hwang, IEEE Electron Device Lett. 21, 563 (2000).
15. M. A. Quevedo-Lopez, M. El-Bouanani, M. J. Kim, B. E. Gnade, R. M. Wallace, M. R. Visokay, A. Li-Fatou, M. J. Bevan, and L. Colombo, Appl. Phys. Lett. 81, 1609 (2002).
16. C. S. Kang, H.-J. Cho, K. Onishi, R. Nieh, R. Choi, S. Gopalan, S. Krishnan, J. H. Han, and J. C. Lee, Appl. Phys. Lett. 81, 2593 (2002).
17. M. Lee, Z.-H. Lu, W.-T. Ng, D. Landheer, X. Wu, and S. Moisa, Appl. Phys. Lett. 83, 2638 (2003).
18. L. Pauling, The Nature of the Chemical Bond (Cornell University, Ithaca, New York, 1960).
19. N. Martin, O. Banakh, A. M. E. Santo, S. Springer, R. Sanjinás, J. Takadoum, and F. Lávy, Appl. Surf. Sci. 185, 123 (2001).
20. Z. Song, B. R. Rogers, and N. D. Theodore, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 711 (2004).
21. G. He, L. D. Zhang, G. H. Li, M. Liu, L. Q. Zhu, S. S. Pan, and Q. Fang, Appl. Phys. Lett. 86, 232901 (2005).
22. R. Asahi, T. Morikawa, T. Ohwaki, K. Aoki, and Y. Taga, Science 293, 269 (2001).
23. S. Miyazaki, J. Vac. Sci. Technol. B 19, 2212 (2001).
24. S. Sayan, Appl. Phys. Lett. 87, 212905 (2006).
25. S. J. Wang, A. C. H. Huan, Y. L. Foo, J. W. Chai, J. S. Pan, Q. Li, Y. F. Dong, Y. P. Feng, and C. K. Ong, Appl. Phys. Lett. 85, 4418 (2004).