Low-loss tunable capacitors fabricated directly on gold bottom electrodes

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 11, 2006, Pages

  Lu, Jiwei ^a   Schmidt, Steffen ^a   Boesch, Damien S ^a   Pervez, Nadia ^a   York, Robert A ^a   Stemmer, Susanne ^a  

^a University of California   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

BOTTOM ELECTRODE RESISTANCE; GOLD BOTTOM ELECTRODES; LOW-LOSS TUNABLE CAPACITORS;

DIELECTRIC MATERIALS; ELECTRIC RESISTANCE; ELECTRODES; MICROWAVES; NATURAL FREQUENCIES; THIN FILMS;

CAPACITORS;

EID: 33645160981     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2186077     Document Type: Article

References (28)

1. K. Ikuta, Y. Umeda, and Y. Ishi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 34, L1211 (1995).
2. D. C. Dube, J. Baborowski, P. Muralt, and N. Setter, Appl. Phys. Lett. 74, 3546 (1999).
3. J. D. Baniecki, R. B. Laibowitz, T. M. Shaw, P. R. Duncombe, D. A. Neumayer, D. E. Kotecki, H. Shen, and Q. Y. Ma, Appl. Phys. Lett. 72, 498 (1998).
4. A. Tombak, J.-P. Maria, F. Ayguavives, J. Zhang, G. T. Stauf, A. I. Kingon, and A. Mortazawi, IEEE Microw. Wirel. Compon. Lett. 12, 3 (2002).
5. A. Vorobiev, P. Rundqvist, K. Khamchane, and S. Gevorgian, Appl. Phys. Lett. 83, 3144 (2003).
6. A. K. Tagantsev, V. O. Sherman, K. F. Astafiev, J. Venkatesh, and N. Setter, J. Electroceram. 11, 5 (2003).
7. B. Laughlin, J. Ihlefeld, and J.-P. Maria, J. Am. Ceram. Soc. 88, 2652 (2005).
8. J.-P. Maria, B. A. Boyette, A. I. Kingon, C. Ragaglia, and G. Stauf, J. Electroceram. 14, 75 (2004).
9. T. Tamura, K. Takai, H. Noshiro, M. Kimura, S. Otani, and M. Yamada, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 33, L1697 (1994).
10. R.-V. Wang and P. C. McIntyre, J. Appl. Phys. 94, 1926 (2003).
11. Y. Fukuda, K. Numata, K. Aoki, A. Nishimura, G. Fujihashi, S. Okamura, S. Ando, and T. Tsukamoto, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 37, L453 (1998).
12. J. D. Baniecki, R. B. Laibowitz, T. M. Shaw, K. L. Saenger, P. R. Duncombe, C. Cabrai, D. E. Kotecki, H. Shen, J. Lian, and Q. Y. Ma, J. Eur. Ceram. Soc. 19, 1457 (1999).
13. J. W. Lu, S. Schmidt, Y.-W. Ok, S. P. Keane, and S. Stemmer, J. Appl. Phys. 98, 054101 (2005).
14. J. Bass, Group III Condensed Matter, Landolt-Börnstein, Vol. 15 Pt. A (Springer, Berlin, 1982), p. 5.
15. J. W. Lu and S. Stemmer, Appl. Phys. Lett. 83, 2411 (2003).
16. I. Levin, T. G. Amos, J. C. Nino, T. A. Vanderah, C. A. Randall, and M. T. Lanagan, J. Solid State Chem. 168, 69 (2002).
17. T. A. Vanderah, I. Levin, and M. W. Lufaso, Eur. J. Inorg. Chem. 2005, 2895 (2005).
18. J. Park, J. W. Lu, S. Stemmer, and R. A. York, J. Appl. Phys. 97, 084110 (2005).
19. J. W. Lu, Z. Q. Chen, T. R. Taylor, and S. Stemmer, J. Vac. Sci. Technol. A 21, 1745 (2003).
20. R. L. Thayer, C. A. Randall, and S. Trolier-McKinstry, J. Appl. Phys. 94, 1941 (2003).
21. C. G. Levi, Acta Mater. 46, 787 (1998).
22. M. Valant and P. K. Davies, J. Mater. Sci. 34, 5437 (1999).
23. X. Wang, H. Wang, and X. Yao, J. Am. Ceram. Soc. 80, 2745 (1997).
24. B. Acikel, Ph.D. thesis, University of California, Santa Barbara, 2002.
25. T. R. Taylor, P. J. Hansen, N. Pervez, B. Aeikel, R. A. York, and J. S. Speck, J. Appl. Phys. 94, 3390 (2003).
26. J. Im, O. Auciello, and S. K. Streiffer, Thin Solid Films 413, 243 (2002).
27. S. M. Bilodeau, R. Carl, P. C. v. Buskirk, J. F. Roeder, C. Basceri, E. E. Lash, C. B. Parker, S. K. Streiffer, and A. I. Kingon, J. Korean Phys. Soc. 32, S1591 (1998).
28. H. Rohdin, N. Moll, A. M. Bratkovsky, and C.-Y. Su, Phys. Rev. B 59, 13102 (1999).