Photochemical oxidation of chloromethylphenylsiloxane self-assembled monolayer amplified with atmospheric oxygen and its application to micropatterning

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 44, Issue 7 A, 2005, Pages 5185-5187

  Sugimura, Hiroyuki ^a   Hong, Lan ^b,c   Lee, Kyung Hwang ^a  

^a KYOTO UNIVERSITY   (Japan)

^b NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

^c UNIVERSITY OF NEW SOUTH WALES   (Australia)

Author keywords

Excimer lamp; Micropatterning; Organosilane self assembled monolayer; Photolithography; Vacuum ultraviolet

Indexed keywords

HYDROPHOBICITY; MICROSTRUCTURE; OXIDATION; OXYGEN; PHOTOLITHOGRAPHY; SELF ASSEMBLY;

EXCIMER LAMP; MICROPATTERNING; VACUUM ULTRAVIOLET;

MONOLAYERS;

EID: 31544477692     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.44.5185     Document Type: Article

References (28)

1. C. S. Dulcey, J. H. Georger, Jr., V. Krauthamer, D. A. Stenger, T. L. Fare and J. M. Calvert: Science 252 (1991) 551.
2. D. A. Stenger, J. H. Georger, C. S. Dulcey, J. J. Hickman, A. S. Rudolph, T. B. Nielsen, S. M. McCort and J. M. Calvert: J. Am. Chem. Soc. 114 (1992) 8435.
3. N. Ichinose, H. Sugimura, T. Uchida, N. Shimo and H. Masuhara: Chem. Lett. (1993) 1961.
4. W. J. Dressick and J. M. Calvert: Jpn. J. Appl. Phys. 32 (1993) 5829.
5. M. J. Lercel, R. C. Tiberio, P. F. Chapman, H. G. Craighead, C. W. Sheen, A. N. Parikh and D. L. Allara: J. Vac. Sci. Technol. B 11 (1993) 2823.
6. N. Mino, S. Ozaki, K. Ogawa and M. Hatada: Thin Solid Films 243 (1994) 374.
7. C. R. K. Marrian, F. K. Perkins, S. L. Brandow, T. S. Koloski, E. A. Dobisz and J. M. Calvert: Appl. Phys. Lett. 64 (1994) 390.
8. P. C. Rieke, B. J. Tarasevich, L. L. Wood, M. H. Engelhard, D. R. Baer, G. E. Fryxell, C. M. John, D. A. Laken and M. C. Jaehnig: Langmuir 10 (1994) 619.
9. H. Sugimura and N. Nakagiri: Langmuir 11 (1995) 3623.
10. H. Sugimura, K. Okiguchi, N. Nakagiri and M. Miyashita: J. Vac. Sci. Technol. B 14 (1996) 4140.
11. N. L. Jeon, P. G. Clem, D. A. Payne and R. G. Nuzzo: Langmuir 12 (1996) 5350.
12. M. J. Lercel, H. G. Craighead, A. N. Parikh, K. Seshadri and D. L. Allara: J. Vac. Sci. Technol. A 14 (1996) 1844.
13. D. W. Wang, S. G. Thomas, K. L. Wang, Y. Xia and G. M. Whitesides: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 1593.
14. R. Youkin, K. K. Berggren, K. S. Johnson, M. Prentiss, D. C. Ralph and G. M. Whitesides: Appl. Phys. Lett. 71 (1997) 1261.
15. B. Lee and N. A. Clark: Langmuir 14 (1998) 5495.
16. H. Sugimura, K. Ushiyama, A. Hozumi and O. Takai: Langmuir 16 (2000) 885.
17. A. E. Moser and C. J. Eckhardt: Thin Solid Films 382 (2001) 202.
18. H. Sugimura, T. Hanji, O. Takai, T. Masuda and H. Misawa: Electrochim. Acta 47 (2001) 103.
19. C. S. Dulcey, J. H. Georger Jr., M.-S. Chen, S. W. McElvany, C. E. O'Ferrall, V. I. Benezra and J. M. Calvert: Langmuir 12 (1996) 1638.
20. S. L. Brandow, M.-S. Chen, R. Aggarwal, C. S. Dulcey, J. M. Calvert and W. J. Dressick: Langmuir 15 (1999) 5429.
21. N. Saito, K. Hayashi, H. Sugimura and O. Takai: J. Mater. Chem. 12 (2002) 2684.
22. H. Sugimura, A. Hozumi, T. Kameyama and O. Takai: Surf. Interface Anal. 34 (2002) 550.
23. E. D. Palik: Handbook of Optical Constants of Solids (Academic Press, New York, 1997).
24. H. Sugimura, K. Hayashi, N. Saito, L. Hong, O. Takai, A. Hozumi, N. Nakagiri and M. Okada: Trans. Mater. Res. Soc. Jpn. 27 (2002) 545.
25. L. Hong, H. Sugimura, O. Takai, N. Nakagiri and M. Okada: Jpn. J. Appl. Phys. 42 (2003) L394.
26. R. P. Roland, M. Bolle and R. W. Anderson: Chem. Mater. 13 (2001) 2493.
27. N. Saito, Y. Wu, K. Hayashi, H. Sugimura and O. Takai: J. Phys. Chem. B 107 (2003) 664.
28. L. Hong, H. Sugimura, T. Furukawa and O. Takai: Langmuir 19 (2003) 1966.