Deposition of HfO2 films by liquid injection MOCVD using a new monomeric alkoxide precursor, [Hf(dmop)4]

Chemical Vapor Deposition

Volumn 11, Issue 6-7, 2005, Pages 299-305

  Loo, Yim Fun ^a   O'Kane, Ruairi ^a   Jones, Anthony C ^a   Aspinall, Helen C ^a   Potter, Richard J ^a   Chalker, Paul R ^a   Bickley, Jamie F ^a   Taylor, Stephen ^a   Smith, Lesley M ^b  

^a UNIVERSITY OF LIVERPOOL   (United Kingdom)

^b Epichem Oxides and Nitrides   (United Kingdom)

Author keywords

Crystal structure; Donor functionalized alkoxide ligands; Hafnium alkoxide; Hafnium dioxide; Liquid injection MOCVD

Indexed keywords

AMORPHOUS MATERIALS; CRYSTAL STRUCTURE; ELECTRON SPECTROSCOPY; FILM GROWTH; FILM PREPARATION; HAFNIUM COMPOUNDS; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; MONOMERS; STOICHIOMETRY; TEXTURES; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS;

DONOR-FUNCTIONALIZED ALKOXIDE LIGANDS; HAFNIUM ALKOXIDE; HAFNIUM DIOXIDE; LIQUID INJECTION MOCVD;

THIN FILMS;

EID: 22944469733     PISSN: 09481907     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/cvde.200506384     Document Type: Article

References (32)

1. S. Capone, G. Leo, R. Rella, P. Siciliano, L. Vasenelli, M. Alvisi, J. Vac. Sci. Technol. A 1998, 16, 3564.
2. C. L. Platt, B. Dieny, A. E. Berkowitz, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 2291.
3. M. Alvisi, M. DiGiulio, S. G. Marrone, M. R. Perrone, M. L. Protopapa, A. Valentini, L. Vasanelli, Thin Solid Films 2000, 358, 250.
4. T. Kanniainen, H. Kattelus, J. Skarp, Electrochem. Soc. Proc. 1997, 9731, 36.
5. G. D. Wilk, R. M. Wallace, J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 2001, 89, 5243.
6. E. P. Gusev, E. Cartier, D. A. Buchanan, M. Gribelyuk, M. Copel, H. Okorn-Smith, C. D'Emic, Microelectron. Eng. 2001, 59, 341.
7. L. Peters, Semiconductor International 2001, 24, 61.
8. J. G. Bendoraitis, R. E. Saloman, J. Phys. Chem. 1965, 69, 3666.
9. A. C. Jones, P. R. Chalker, J. Phys. D: Appl. Phys. 2003, 36, R80.
10. C. F. Powell, in Chemically Deposited Nonmetals (Eds: C. F. Powell, J. H. Oxley, J. M. Blocher), John Wiley & Sons, Inc., New York 1966, pp. 343-420.
11. M. Ballog, M. Schieber, S. Patai, M. Michman, J. Cryst. Growth 1972, 17, 298.
12. R. C. Smith, T. Ma, N. Hoilien, L. Y. Tsung, M. J. Bevan, L. Colombo, J. Roberts, S. A. Campbell, W. Gladfelter, Adv. Mater. Opt. Electron. 2000, 10, 105.
13. S. Hino, M. Nakayama, K. Takahashi, H. Funakubo, E. Tokumiitsu, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 2003, 42, 6015.
14. P. A. Williams, A. C. Jones, N. L. Tobin, P. R. Chalker, S. Taylor, P. A. Marshall, J. F. Bickley, L. M. Smith, H. O. Davies, G. W. Critehlow, Chem. Vap. Deposition 2003, 9, 309.
15. J. J. Gallegos, T. L. Ward, T. J. Boyle, M. A. Rodriguez, L. P. Francisco, Chem. Vap. Deposition 2000, 6, 21.
16. D. C. Bradley, R. C. Mehrotra, D. P. Gaur, in Metal Alkoxides, Academic Press, New York 1978.
17. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, D. J. Williams, P. A. Lane, P. O'Brien, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 1998, 495, 11.
18. P. A. Williams, A. C. Jones, M. J. Crosbie, P. J. Wright, J. F. Bickley, A. Steiner, H. O. Davies, T. J. Leedham, G. W. Critchlow, Chem. Vap. Deposition 2001, 7, 205.
19. W. A. Herrmann, N. W. Huber, O. Runte, Angew. Chem. Int. Ed. Engl. 1995, 34, 2187.
20. P. A. Williams, J. L. Roberts, A. C. Jones, P. R. Chalker, J. F. Bickley, A. Steiner, H. O. Davies, T. J. Leedham, J. Mater. Chem. 2002, 12, 165.
21. P. A. Williams, J. L. Roberts, A. C. Jones, P. R. Chalker, N. L. Tobin, J. F. Bickley, H. O. Davies, L. M. Smith, T. J. Leedham, Chem. Vap. Deposition 2002, 8, 163.
22. Y. F. Loo, R. O'Kane, A. C. Jones, H. C. Aspinall, R. J. Potter, P. R. Chalker, J. F. Bickley, S. Taylor, L. M. Smith, J. Mater. Chem., in press.
23. K. W. Terry, C. G. Lugmair, T. D. Tilley, J. Am. Chem. Soc. 1997, 119, 9745.
24. J. L. Roberts, P. A. Marshall, A. C. Jones, P. R. Chalker, J. F. Bickley, P. A. Williams, S. Taylor, L. M. Smith, G. W. Critehlow, M. Schumacher, J. L. Lindner, J. Mater. Chem. 2004, 14, 391.
25. R. Matero, M. Ritala, M. Leskalä, A. C. Jones, P. A. Williams, J. F. Bickley, A. Steiner, T. J. Leedham, H. O. Davies, J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 24.
26. K. A. Fleeting, P. O'Brien, A. C. Jones, D. J. Otway, A.J. P. White, D. J. Williams, J. Chem. Soc., Dalton Trans. 1999, 2853.
27. T. Won, S. Yoon, H. Kim, J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3284.
28. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, K. A. Fleeting, D. J. Otway, P. O'Brien, M. E. Pemble, J. Mater. Chem. 1998, 8, 1773.
29. E. H. Nicollian, J. R. Brews, MOS Physics and Technology, Wiley, New York 1982, p.424.
30. L. N. Pridgen, G. Miller, J. Heterocyclic Chem. 1983, 20, 1223.
31. M. Sheldrick, SHELX97, Crystal structure determination program, Gottingen, Germany 1997.
32. A. C. Jones, T. J. Leedham, P. J. Wright, M. J. Crosbie, P. A. Lane, D. J. Williams, K. A. Fleeting, D. J. Otway, P. O'Brien, Chem. Vap. Deposition 1998, 4, 46.