Hf O 2 and Al 2 O 3 gate dielectrics on GaAs grown by atomic layer deposition

Applied Physics Letters

Volumn 86, Issue 15, 2005, Pages 1-3

  Frank, Martin M ^a   Wilk, Glen D ^b   Starodub, Dmitri ^c   Gustafsson, Torgny ^c   Garfunkel, Eric ^c   Chabal, Yves J ^c   Grazul, John ^d   Muller, David A ^d  

^a IBM T J WATSON RESEARCH CENTER   (United States)

^b ASM AMERICA   (United States)

^c RUTGERS UNIVERSITY   (United States)

^d Department of Obstetrics Gynecology   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATOMIC LAYER DEPOSITION (ALD); GAP STATES; GATE DIELECTRICS; NANOWIRES;

ALUMINA; CAPACITANCE; DIELECTRIC DEVICES; ETCHING; HEAT TREATMENT; MOSFET DEVICES; OXYGEN; PULSED LASER DEPOSITION; SEMICONDUCTING GALLIUM ARSENIDE; THICKNESS MEASUREMENT; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

HAFNIUM COMPOUNDS;

EID: 20844440321     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1899745     Document Type: Article

References (30)

1. M. Hong, C. T. Liu, H. Reese, and J. Kwo, in Wiley Encyclopedia of Electrical and Electronics Engineering, edited by, J. G. Webster, (Wiley, New York, 1999), Vol. 19, p. 87.
2. M. J. Hale, S. I. Yi, J. Z. Sexton, A. C. Kummel, and M. Passlack, J. Chem. Phys. 119, 6719 (2003).
3. W. E. Spicer, Z. Liliental-Weber, E. Weber, N. Newman, T. Kendelewicz, R. Cao, C. McCants, P. Mahowald, K. Miyano, and I. Lindau, J. Vac. Sci. Technol. B 6, 1245 (1988).
4. K. Eguchi and T. Katoda, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 24, 1043 (1985).
5. M. Passlack, N. Medendorp, S. Zollner, R. Gregory, and D. Braddock, Appl. Phys. Lett. 84, 2521 (2004).
6. J. S. Hwang, C. C. Chang, M. F. Chen, C. C. Chen, K. I. Lin, F. C. Tang, M. Hong, and J. Kwo, J. Appl. Phys. 94, 348 (2003).
7. G. D. Wilk, R. M. Wallace, and J. M. Anthony, J. Appl. Phys. 89, 5243 (2001).
8. P. D. Ye, G. D. Wilk, J. Kwo, B. Yang, H.-J. L. Gossmann, M. Frei, S. N. G. Chu, J. P. Mannaerts, M. Sergent, M. Hong, K. K. Ng, and J. Bude, IEEE Electron Device Lett. 24, 209 (2003).
9. P. D. Ye, G. D. Wilk, B. Yang, J. Kwo, S. N. G. Chu, S. Nakahara, H.-J. L. Gossmann, J. P. Mannaerts, M. Hong, K. K. Ng, and J. Bude, Appl. Phys. Lett. 83, 180 (2003).
10. P. D. Ye, G. D. Wilk, B. Yang, J. Kwo, H. J. L. Gossmann, M. Frei, J. P. Mannaerts, M. Sergent, M. Hong, K. K. Ng, and J. Bude, J. Electron. Mater. 33, 912 (2004).
11. P. D. Ye, G. D. Wilk, B. Yang, J. Kwo, H. J. L. Gossmann, M. Hong, K. K. Ng, and J. Bude, Appl. Phys. Lett. 84, 434 (2004).
12. P. D. Ye, B. Yang, K. K. Ng, J. Bude, G. D. Wilk, S. Halder, and J. C. M. Hwang, Appl. Phys. Lett. 86, 063501 (2005).
13. B. Min, J. S. Lee, K. Cho, J. W. Hwang, H. Kim, M. Y. Sung, S. Kim, J. Park, H. W. Seo, S. Y. Bae, M.-S. Lee, S. O. Park, and J.-T. Moon, J. Electron. Mater. 32, 1344 (2003).
14. M. Kusaka, M. Hirai, and S. Okazaki, Rep. R. L. Surf. Sci., Okayama U. 4, 245 (1978).
15. M. Fanciulli, S. Spiga, G. Scarel, G. Tallarida, C. Wiemer, and G. Seguini, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 786, E6.14.1 (2004).
16. S. Adachi and D. Kikuchi, J. Electrochem. Soc. 147, 4618 (2000).
17. K. Tone, M. Yamada, Y. Ide, and Y. Katayama, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 31, L721 (1992).
18. F. Schröder, W. Storm, M. Altebockwinkel, L. Wiedmann, and A. Bennighoven, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 1291 (1992).
19. M. M. Frank, Y. J. Chabal, and G. D. Wilk, Appl. Phys. Lett. 82, 4758 (2003).
20. M. M. Frank, S. Sayan, S. Dörmann, T. J. Emge, L. S. Wielunski, E. Garfunkel, and Y. J. Chabal, Mater. Sci. Eng., B 109, 6 (2004).
21. A. Delabie, R. L. Puurunen, B. Brijs, M. Caymax, T. Conard, B. Onsia, O. Richard, W. Vandervorst, C. Zhao, M. M. Heyns, M. Meuris, M. M. Viitanen, H. H. Brongersma, M. de Ridder, L. V. Goncharova, E. Garfunkel, T. Gustafsson, and W. Tsai, J. Appl. Phys. 97, 064104 (2005).
22. D. R. Lide, CRC Handbook of Chemistry and Physics, 85th ed. (CRC, Boca Raton, FL, 2004).
23. I. Barin and O. Knacke, Thermochemical Properties of Inorganic Substances (Springer, Berlin, 1973).
24. Y. Widjaja and C. B. Musgrave, J. Chem. Phys. 117, 1931 (2002).
25. Y. Widjaja and C. B. Musgrave, Appl. Phys. Lett. 80, 3304 (2002).
26. L. Jeloaica, A. Est̀ve, M. D. Rouhani, and D. Est̀ve, Appl. Phys. Lett. 83, 542 (2003).
27. C. C. Surdu-Bob, S. O. Saied, and J. L. Sullivan, Appl. Surf. Sci. 183, 126 (2001).
28. T. Van Buuren, M. K. Weilmeier, I. Athwal, K. M. Colbow, J. A. Mackenzie, T. Tiedje, P. C. Wong, and K. A. R. Mitchell, Appl. Phys. Lett. 91, 424 (1991).
29. C. E. C. Wood, K. Singer, T. Ohashi, L. R. Dawson, and A. J. Noreika, J. Appl. Phys. 54, 2732 (1983).
30. G. D. Wilk and P. D. Ye (unpublished).