Surface reaction of bis(tertbutylimido)bis(diethylamido)tungsten precursor on Si(100)-(2×1)

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 21, Issue 5, 2003, Pages 1620-1624

  Wu, Jin Bao ^a   Yang, Yaw Wen ^b   Lin, Yi Feng ^a   Chiu, Hsin Tien ^a  

^a NATIONAL CHIAO TUNG UNIVERSITY   (Taiwan)

^b NATIONAL SYNCHROTRON RADIATION RESEARCH CENTER   (Taiwan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ADSORPTION; METALLORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; PYROLYSIS; SILICON; THIN FILMS;

PRECURSORS;

TUNGSTEN COMPOUNDS;

EID: 0142122306     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.1593050     Document Type: Conference Paper

References (30)

1. W. S. Rees, CVD of Nonmetals (VCH, Weinheim, 1996).
2. T. Kodas and M. Hampden-Smith, The Chemistry of Metal CVD (VCH, Weinheim, 1994).
3. C. M. Truong, P. J. Chen, J. S. Corneille, W. S. Oh, and D. W. Goodman, J. Phys. Chem. 99, 8831 (1995).
4. G. Ruhl, R. Rehmet, M. Knizová, R. Merica, and S. Veprek, Chem. Mater. 8, 2712 (1996).
5. J. Cheon, L. H. Dubois, and G. S. Girolami, J. Am. Chem. Soc. 119, 6814 (1997).
6. M. Takeyama, A. Noya, T. Sase, A. Ohta, and K. Sasaki, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 674 (1996).
7. R. R. Ivanova, C. J. Galewski, C. A. Sans, T. E. Seidel, S. Grunow, K. Kumar, and A. E. Kaloyeros, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 564, 321 (1999).
8. M. Uekubo, T. Oku, K. Nii, M. Murakami, K. Takahiro, S. Yamaguchi, T. Nakano, and T. Ohta, Thin Solid Films 286, 170 (1996).
9. J. E. Kelsey, C. Goldberg, G. Nuesca, G. Peterson, A. E. Kaloyeros, and B. Arkles, J. Vac. Sci. Teehnol. B 17, 1101 (1999).
10. H.-T. Chiu, S.-H. Chuang, C.-E. Tsai, G.-H. Lee, and S.-M. Peng, Polyhedron 17, 2187 (1998).
11. M. H. Tsai, S. C. Sun, H. T. Chiu, and S. H. Chuang, Appl. Phys. Lett. 68, 1412 (1996).
12. H. T. Chiu and S. H. Chuang, J. Mater. Res. 8, 1353 (1993).
13. O. J. Bchir, S. W. Johnston, A. C. Cuadra, T. J. Anderson, C. G. Ortiz, B. C. Brooks, D. H. Powell, and L. McElwee-White, J. Cryst. Growth 249, 262 (2003).
14. Y. W. Yang and L. J. Fan, Langmuir 18, 1157 (2002).
15. E. Landemark, C. J. Karlsson, Y. C. Chao, and R. I. G. Uhrberg, Phys. Rev. Lett. 69, 1588 (1992).
16. H. Nishino, W. Yang, Z. Dohnálek, V. A. Ukranitsev, W. J. Choyke, and J. T. J. Yates, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 182 (1997).
17. K. Sinniah, M. G. Sherman, L. B. Lewis, W. H. Weinberg, J. T. J. Yates, and K. C. Janda, J. Chem. Phys. 92, 5700 (1990).
18. F. Zaera and S. Tjandra, J. Am. Chem. Soc. 118, 12738 (1996).
19. J. F. Moulder, W. F. Stickle, P. E. Sobol, and K. D. Bomben, in Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, edited by J. Chastain (Perkin-Elmer Corp., Eden Prairie, MN, 1992).
20. E. L. Crane, Y. You, R. G. Nuzzo, and G. S. Girolami, J. Am. Chem. Soc. 122, 3422 (2000).
21. W. Lin, R. G. Nuzzo, and G. S. Girolami, J. Am. Chem. Soc. 118, 5988 (1996).
22. J.-C. Hierso, R. Feurer, and P. Kalck, Chem. Mater. 12, 390 (2000).
23. K. L. Smith and K. M. Black, J. Vac. Sci. Technol. A 2, 744 (1984).
24. L. Muehlhoff, W. J. Choyke, M. J. Bozack, and J. T. J. Yates, J. Appl. Phys. 60, 2842 (1986).
25. S. F. Bent, J. Phys. Chem. B 106, 2830 (2002).
26. X. Cao and R. J. Hamers, J. Am. Chem. Soc. 123, 10988 (2001).
27. C. Mui, G. T. Wang, S. F. Bent, and C. B. Musgrave, J. Chem. Phys. 114, 10170 (2001).
28. J. A. Dean, Lange's Handbook of Chemistry (McGraw-Hlll, New York, 1992).
29. R. I. Masel, Principles of Adsorption and Reaction on Solid Surfaces (Wiley, New York, 1996), p. 769.
30. M. Foster, B. Darlington, J. Scharff, and A. Campion, Surf. Sci. 375, 35 (1997)