Chemical vapor cleaning of 6H-SiC surfaces

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 146, Issue 9, 1999, Pages 3448-3454

  King, Sean W ^a   Kern, R Scott ^a   Benjamin, Mark C ^b   Barnak, John P ^a   Nemanich, Robert J ^b   Davis, Robert F ^a  

^a North Carolina State University   (United States)

^b NORTH CAROLINA STATE UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ACETYLENE; ANNEALING; AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY; CRYSTAL IMPURITIES; CRYSTAL ORIENTATION; HIGH TEMPERATURE EFFECTS; HYDROGEN; SILANES; SILICON CARBIDE; STOICHIOMETRY; SURFACE STRUCTURE; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

CHEMICAL VAPOR CLEANING; DETECTION LIMITS; THERMAL DESORPTION;

SURFACE CLEANING;

EID: 0033359775     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1392494     Document Type: Article

References (79)

1. W. Kern, RCA Rev., 39, 278 (1978).
2. W. Kern, J. Electrochem. Soc., 137, 1887 (1990).
3. T. Ohmi, J. Electrochem. Soc., 143, 1957 (1996).
4. B. A. Joyce, J. H. Neave, and B. E. Watts, Surf. Sci., 15, 1 (1969).
5. J. H. McFee, R. G. Swartz, V. D. Archer, S. N. Finegan, and L. C. Feldman, J. Electrochem. Soc., 130, 214 (1983).
6. S. Nagao, K. Higashitani, Y. Akasaka, and H. Nakata, J. Appl. Phys., 57, 4589 (1985).
7. B. S. Meyerson, E. Ganin, D. A. Smith, and T. N. Nguyen, J. Electrochem. Soc., 133, 1232 (1986).
8. A. J. Pidduck, D. J. Robbins, A. G. Cullis, D. B. Gasson, and J. L. Glasper, J. Electrochem. Soc., 136, 3083 (1989).
9. A. Miyauchi, Y. Inoue, M. Ohue, N. Momma, T. Suzuki, and M. Akiyama, J. Electrochem. Soc., 137, 3257 (1990).
10. A. Miyauchi, Y. Inoue, T. Suzuki, and M. Akiyama, Appl. Phys. Lett., 57, 676 (1990).
11. M. Racanelli, D. W. Greve, M. K. Hatalis, and L. J. van Yzendoorn, J. Electrochem. Soc., 138, 3783 (1991).
12. D. J. Eaglesham, G. S. Higashi, and M. Cerullo, Appl. Phys. Lett., 59, 685 (1991).
13. C. Galewski, J. Lou, and W. G. Goldham, IEEE Trans. Semicond. Monfact., 3, 93 1 (1990).
14. M. K. Sanganeria, M. C. Ozturk, G. Harris, K. E. Violette, I. Ban, C. A. Lee, and D. M. Maher, J. Electrochem. Soc., 142, 3961 (1995).
15. F. K. LeGoues, MRS Bulletin, 21, 38, (1996).
16. G. R. Srinivasan and B. S. Meyerson, J. Electrochem. Soc., 134, 1518 (1987).
17. G. R. Srinivasan, J. Cryst. Growth, 70, 201 (1984).
18. J. V. Dalton and J. Drobek, J. Electrochem. Soc., 115, 865 (1968).
19. J. Ruzyllo, A. M. Hoff, D. C. Frystak, and S. D. Hossain, J. Electrochem. Soc., 136, 1474 (1989).
20. S. R. Kasi, M. Liehr, P. A. Thiry, H. Dallaporta, and M. Offenberg, Appl. Phys. Lett., 59, 108 (1991).
21. L. J. Huang and W. M. Lau, Appl. Phys. Lett., 60, 1108 (1992).
22. T. Ohmi, T. Imaoka, T. Kezuka, J. Takano, and M. Kogure, J. Electrochem. Soc., 140, 811 (1993).
23. R. F. Devis, Adv. Ceram., 23, 477 (1987).
24. R. F. Davis, G. Kelner, M. Shur, J. Palmour, J. A. Edmond, Proc. IEEE, 79, 677 (1991).
25. S. Strite and H. Morkoc, J. Vac. Sci. Technol. B, 10, 1237 (1992).
26. J. A. Powell, J. B. Petit, J. H. Edgar, I. G. Jenkins, L. G. Matus, J. W. Yang, P. Pirouz, W. J. Choyke, L. Clemen, and M. Yoganathan, Appl. Phys. Lett., 59, 333 (1991).
27. A. A. Burk, Jr., and L. B. Rowland, Appl. Phys. Lett., 68, 382 (1996).
28. S. W. King, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, J. Electrochem. Soc., 146, 1910 (1999).
29. S. W. King, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, in J. Electrochem. Soc., 146, 2648 (1999).
30. A. J. van Bommel, J. E. Crombeen, and A. van Tooren, Surf. Sci., 48, 463 (1975).
31. F. Bozso, L. Muehlhoff, M. Trenary, W. J. Choyke, and J. T. Yates, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A, 2, 1271 (1984).
32. L. Muehlhoff, M. J. Bozack, W. J. Choyke, and J. T. Yates, Jr., J. Appl. Phys., 60, 2558 (1986).
33. S. Nakanishi, H. Tokutaka, K. Nishimori, S. Kishida, and N. Ishihara, Appl. Surf. Sci., 41/42, 44 (1989).
34. M. Dayan, J. Vac. Sci. Technol. A, 4, 38 (1986).
35. Y. Mizokawa, S. Nakanishi, O. Komoda, S. Miyase, H. S. Diang, C. Wang, N. Li, and C. Jiang, J. Appl. Phys., 67, 264 (1990).
36. U. Starke, Ch. Bram, P. R. Steiner, W. Hartner, L. Hammer, K. Heinz, and K. Muller, Appl. Surf. Sci., 89, 175 (1995).
37. L. M. Porter, R. F. Davis, J. S. Bow, M. J. Kim, R. W. Carpenter, and R. C. Glass, J. Mater. Res., 10, 668 (1995).
38. L. I. Johansson, F. Owman, and P. Martensson, Surf. Sci., 260, L483 (1996).
39. L. I. Johansson, F. Owman, and P. Martensson, Phys. Rev. B, 52, 13793 (1996).
40. T. Tsukamoto, M. Hirai, M. Kusaka, M. Iwami, T. Ozawa, T. Nagamura, and T. Nakata, Surf. Sci., 371, 316 (1997).
41. C. S. Chang, I. S. T. Tsong, Y. C. Wang, and R. F. Davis, Surf. Sci., 256, 354 (1991).
42. M. A. Kulakov, P. Heuell, V. F. Tsvetkov, and B. Bullemer, Surf. Sci., 315, 248 (1994).
43. Y. Marumoto, T. Tsukamoto, M. Hirai, M. Kusaka, M. Iwami, T. Ozawa, T. Nagamura, and T. Nakata, Jpn. J. Appl. Phys., 34, 3351 (1995).
44. F. Owman and P. Martensson, Surf. Sci., 330, L639 (1995).
45. F. Owman, P. Martensson, J. Vac. Sci. Technol., 14, 933 (1996).
46. L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, J. Mater. Res., 8, 2753 (1993).
47. R. Kaplan, J. Appl. Phys., 56, 1636 (1984).
48. M. Balooch and D. R. Olander, Surf. Sci., 261, 321 (1992).
49. S. V. Didziulis, J. R. Lince, P. D. Fleishauer, and J. A. Yarmoff, Inorg. Chem., 30, 672 (1991).
50. J. M. Powers and G. A. Somorjai, Surf. Sci., 244, 39 (1991).
51. M. E. Lin, S. Strite, A. Agarwal, A. Salvador, G. L. Zhou, M. Teraguchi, A. Rockett, and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett., 62, 702 (1993).
52. F. Owman, C. Hallin, P. Martensson, and E. Janzen, J. Cryst. Growth, 167, 391 (1996).
53. M. D. Allendorf and D. A. Outka, Surf. Sci., 258, 177 (1991).
54. Y. Kim and D. R. Olander, Surf. Sci., 313, 399 (1994).
55. R. Kaplan and T. M. Parrill, Surf. Sci. Lett., 165, L45 (1986).
56. R. Kaplan, Surf. Sci., 215, 111 (1989).
57. T. M. Parrill and Y. W. Chung, Surf. Sci., 243, 96 (1991).
58. R. S. Kern, Ph.D. Thesis, North Carolina State University, Raleigh, NC (1996).
59. M. A. Kulakov, G. Henn, and B. Bullemer, Surf. Sci., 346, 49 (1996).
60. L. Li and I. S. T. Tsong, Surf. Sci., 351, 141 (1996).
61. V. M. Bermudez, Appl. Surf. Sci., 84, 45, (1995).
62. A. Fissel, B. Schroter, and W. Richter, Appl. Phys. Lett., 66, 3182 (1995).
63. S. Wright and H. Kroemer, Appl. Phys. Lett., 36, 210 (1980).
64. J. F. Morar, B. S. Meyerson, U. O. Karlsson, F. J. Himpsel, F. R. McFeely, D. Rieger, A. Taleb-Ibrahimi, and J. A. Yarmoff, Appl. Phys. Lett., 50, 463 (1987).
65. M. Racanelli, D. W. Greve, M. K. Hatalis, and L. J. van Yzendoorn, J. Electrochem. Soc., 138, 3783 (1991).
66. H. Hirayama, R. Tatsumi, A. Ogura, and N. Aizaki, Appl. Phys. Lett., 51, 2213 (1987).
67. H. Hirayama and T. Tatsumi, J. Appl. Phys., 66, 629 (1989).
68. K. Saito, T. Amazawa, and Y. Arita, J. Electrochem. Soc., 140, 513 (1993).
69. Jacob van der Weide, Ph.D. Thesis, North Carolina State University, Raleigh, NC (1994).
70. S. W. King, R. S. Busby, C. Ronning, R. J. Nemanich, and R. F. Davis, J. Appl. Phys., 84, 6042 (1998).
71. S. W. King, J. P. Bamak, M. D. Bremser, K. M. Tracy, C. Ronning, R. F. Davis, R. J. Nemanich, J. Appl. Phys., 84, 5248 (1998).
72. V. S. Smentkowski and J. T. Yates, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A, 7, 3325 (1989).
73. M. J. Bozack, L. Muehlhoff, J. N. Russel Jr., W. J. Choyke, and J. T. Yates, Jr., J. Vac. Sci. Technol. A, 5, 1 (1987).
74. XPS Handbook, Perkin Elmer Eden Prairie, MN (1991).
75. U. Starke, J. Schardt, J. Bernhardt, M. Franke, K. Reuter, H. Wedler, K. Heinz, J. Furthmuller, P. Kackell, and F. Bechstedt, Phys. Rev. Lett., 80, 758 (1998).
76. J. M. Powers, A. Wander, P. J. Rous, M. A. Van Hove, and G. A. Somorjai, Phys. Rev. B, 44, 11159 (1991).
77. V. M. Bermudez and R. Kaplan, Phys. Rev. B, 44, 11149 (1991).
78. L. I. Johansson, P.-A. Glans, and N. Hellgren, Surf. Sci., 405, 288 (1998).
79. H. E. Hoster, M. A. Kulakov, and B. Bullemer, Surf. Sci., 382, L658 (1997).