Hot-Filament Chemical Vapor Deposition of Organosilicon Thin Films from Hexamethylcyclotrisiloxane and Octamethylcyclotetrasiloxane

Journal of the Electrochemical Society

Volumn 148, Issue 12, 2001, Pages

  Pryce Lewis, Hilton G ^a   Casserly, Thomas B ^a   Gleason, Karen K ^a  

^a USA   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001596080     PISSN: 00134651     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1149/1.1415723     Document Type: Article

References (74)

1. A. M. Wróbel and M. R. Wertheimer, in Plasma Deposition, Treatment, and Etching of Polymers, R. d'Agostino, Editor, p. 163, Academic Press, San Diego, CA (1990).
2. F. F. Shi, Surf. Coat. Technol., 82, 1 (1996).
3. H. G. Pryce Lewis, D. J. Edell, and K. K. Gleason, Chem. Mater., 12, 3488 (2000).
4. A. S. Chawla, Biomaterials, 2, 83 (1981).
5. Z. Ogumi, Y. Uchimoto, and Z. Takehara, J. Electrochem. Soc., 136, 625 (1989).
6. M. Kusabiraki, J. Appl. Polym. Sci., Appl. Polym. Symp., 46, 473 (1990).
7. P. K. Tien, G. Smolinsky, and R. J. Martin, Appl. Opt., 11, 637 (1972).
8. Y. Ishikawa, S. Sasakawa, M. Takase, V. Iriyama, and Y. Osada, Makromol. Chem., Rapid Commun., 6, 495 (1985).
9. H. Matsuyama, A. Kariya, and M. Teramoto, J. Appl. Polym. Sci., 51, 689 (1994).
10. L. Peters, Semicond. Int., 23, 108 (2000).
11. M. J. Loboda, Microelectron. Eng., 50, 15 (2000).
12. A. Grill and V. Patel, J. Appl. Phys., 85, 3314 (1999).
13. H. Yasuda and T. Hsu, J. Polym. Sci., Polym. Chem. Ed., 15, 81 (1977).
14. C. R. Savage, R. B. Timmons, and J. W. Lin, Adv. Chem. Ser., 236, 745 (1993).
15. N. M. Mackie, N. F. Dalleska, D. G. Castner, and E. R. Fisher. Chem. Mater., 9, 349 (1997).
16. C. B. Labelle, S. M. Karceki, L. R. Reif, and K. K. Gleason, J. Vac. Sci. Technol. A, 17, 3419 (1999).
17. K. K. S. Lau and K. K. Gleason, J. Fluorine Chem., 104, 119 (2000).
18. S. J. Limb, K. K. S. Lau, D. J. Edell, E. F. Gleason, and K. K. Gleason. Plasmas Polym., 4, 21 (1999).
19. M. C. Kwan and K. K. Gleason. Chem. Vap. Deposition. 3, 299 (1997).
20. W. K. Chang, M. Y. Liao, and K. K. Gleason, J. Phys. Chem., 100, 19653 (1996).
21. A. M. Wróbel, S. Wickramanayaka, Y. Nakanishi, Y. Fukuda, and Y. Hatanaka, Chem. Mater., 7, 1403 (1995).
22. V. N. Khabashesku, Z. A. Kerzina, A. K. Maltsev, and O. M. Nefedov, J. Organomet. 364, 301 (1989).
23. A. L. Smith, Spectrochim. Acta. 16, 87 (1960).
24. K. M. McNamara, B. E. Williams, K. K. Gleason, and B. E. Scruggs, J. Appl. Phys., 76, 2466 (1994).
25. C. Rau and W. Kulisch, Thin Solid Films, 249, 28 (1994).
26. N. Wright and M. J. Hunter, J. Am. Chem. Soc., 69, 803 (1947).
27. R. E. Richards and H. W. Thompson, J. Chem. Soc., 1949, 124.
28. T. Alvik and J. Dale, Acta Chem. Scand., 25, 2142 (1971).
29. G. G. Kirei and M. P. Lisitsa, Opt. Spectrosc., 12, 403 (1962).
30. L. J. Bellamy, The Infra red Spectra of Complex Molecules, 2nd ed., p. 334, John Wiley & Sons, Inc., New York (1958).
31. A. L. Smith and D. R. Anderson, Appl. Spectrosc., 38, 822 (1984).
32. I. Tajima and M. Yamamoto, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem., 25, 1737 (1987).
33. A. T. Kohl, R. Mimna, R. Shick, L. Rhodes, Z. L. Wang, and P. A. Kohl, Electrochem. Solid-State., Lett., 2, 77 (1999).
34. M. C. Kwan, Ph.D. Thesis, Massachusetts Institute of Technology, Cambridge, MA (1997).
35. M. Soutzidou, A. Panas, and K. Viras, J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys., 36, 2805 (1998).
36. H. Kriegsmann, in Advances in Molecular Spectroscopyy: Proceedings. A. Mangini, Editor, Vol. 3, p. 1000, Pergamon Press, New York (1962).
37. G. Fogarasi, H. Hacker, V. Hoffmann, and S. Dobos, Spectrochim. Acta, 30A, 629 (1974).
38. F. L. Galeener, J. Non-Cryt. Solids, 49, 53 (1982).
39. C. A. M. Mulder, R. K. Janssenm P. Bachmann, and D. Leers, J. Non-Cryst. Solids, 72, 243 (1985).
40. C. J. Brinker, D. R. Tallani, E. P. Roth, and C. S. Ashley, J. Non-Cryst. Solids, 82, 117 (1986).
41. B. Humbert, A. Burneau, J. P. Gallas, and J. C. Lavalley, J. Non-Cryst. Solids, 143, 75 (1992).
42. T. Nakano, N. Mura, and A. Tsuzzmitani, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2, 34, L1064 (1995).
43. C. A. M. Mulder and A. A. J. M. Damen, J. Non-Cryst. Solids, 93, 387 (1987).
44. U. G. Stolberg and H. P. Fritz, Z. Anorg. Allg. Chem., 330, 1 (1964).
45. M. Hayashi, Nippon Kagaku Kaishi, 78, 1472 (1957).
46. R. K. Harris, J. D. Kennedy, and W. McFarlane, in NMR and the Periodic Table, R. K. Harris and B. E. Mann, Editors, p. 309, Academic Press, New York (1978).
47. E. A. Williams, in Annual Reports on NMR Spectroscopy, G. A. Webb, Editor, p. 235, Academic Press, London (1983).
48. D. J. Burton, R. K. Harris, K. Dodgson, C. J. Pellow, and J. A. Semlyen. Polym. Commun., 24, 278 (1983).
49. R. A. Assink, A. K. Hays, R. W. Bild, and B. L. Hawkins, J. Vac. Sci. Technol. A, 3, 2629 (1985).
50. S. Roualdes, N. Hovnanian, A. van der Lee, J. Sanchez, and J. Durand, J. Phys IV, 9, 1147 (1999).
51. D. R. Anderson, in Analysis of Silicones, A. L. Smith, Editor, 41, p. 407, Wiley. New York (1974).
52. H. Marsmann, in NMR: Oxygen-17 and Silicon-29, P. Diehl, E. Fluck, and R. Kosfeld, Editors, Vol. 17, p. 65, Springer-Verlag, New York (1981).
53. C. B. Labelle and K. K. Gleason, J. Appl. Polym. Sci., 74, 2439 (1999).
54. K. K. S. Lau, J. A. Caullield, and K. K. Gleason, Chem. Mater., 12, 3032 (2000).
55. M. Sobolevskii, I. Skorokhodov, V. Ditsent. I. Sobolevskaya, and G. Moiseyeva, Vysokomol. Soedin., Ser. A, 12, 2714 (1970).
56. L. H. Gusel'nikov, N. S. Nametkin, T. K. Islamov, A. A. Sobtsov, and V. M. Vdovin, Izv. Akad. Nauk. SSR. Ser. Khi., 20, 84 (1971).
57. I. M. T. Davidson and J. F. Thompson, J. Chem. Soc., Chem. Commun., 1971, 251.
58. I. M. T. Davidson and J. F. Thompson, J. Chem. Soc., Faraday Trans. 1, 71, 2260 (1975).
59. G. Ruabe and J. Miehl, Chem. Rev., 85, 419 (1985).
60. M. G. Voronkov, J. Organomet. Chem., 557, 143 (1998).
61. T. Howard Thomas and T. C. Kendrick, J. Polym. Sci., Part A-2, 7, 537 (1969).
62. L. E. Gusel'nikov and N. S. Nametkin, Chem. Rev. 79, 529 (1979).
63. N. Grassie and I. G. MacFarlane, Eur. Polym. J. 14, 875 (1978).
64. D. J. Bannister and J. A. Semlyen, Polymer, 22, 377 (1981).
65. K. K. S. Lau, K. K. Gleason, and B. L. Trout, J. Chem. Phys., 113, 4103 (2000).
66. W. Noll, Chemistry und Technology of Silicones, 2nd ed., Academic Press, New York (1968).
67. A. M. Wróbel, M. Kryszewski, and M. Gazicki, J. Macromol. Sci., Chem., A20, 583 (1983).
68. P. Favia, R. d'Agostino, and F. Fracassi, Pure Appl. Chem., 66, 1373 (1994).
69. G. Smolinsky and M. J. Vasile, Int. J. Mass Spectrom. Ion Phys., 12, 147 (1973).
70. S. W. Kantor and R. C. Osthoff, US. Pat. 2,793.222 (1957).
71. R. A. Shaw, in International Symposium on Organosilicon Chemistry, p. 297, Butterworths, London (1966).
72. D. M. Adams and W. S. Fernando. J. Chem. Soc. Dalton Trans., 4, 410 (1973).
73. R. K. Harris and B. J. Kimber, J. Organomet. Chem., 70, 43 (1974).
74. H.-G. Horn and H. C. Marsmann, Makromol. Chem., 162, 255 (1972).