Comparison of nitrogen incorporation in SiO2/SiC and SiO2/Si structures

Applied Physics Letters

Volumn 76, Issue 5, 2000, Pages 568-570

  McDonald, K ^a   Huang, M B ^a,c   Weller, R A ^a   Feldman, L C ^a   Williams, J R ^d   Stedile, F C ^b   Baumvol, I J R ^b   Radtke, C ^b  

^a VANDERBILT UNIVERSITY   (United States)

^b FEDERAL UNIVERSITY OF RIO GRANDE DO SUL   (Brazil)

^c STATE UNIVERSITY OF NEW YORK   (United States)

^d NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001587519     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.125819     Document Type: Review

References (19)

1. C. I. Harris and V. V. Afanas'ev, Microelectron. Eng. 36, 167 (1997).
2. J. A. Cooper, Jr., Phys. Status Solidi A 162, 305 (1997).
3. J. N. Shenoy, G. L. Chindalore, M. R. Melloch, J. A. Cooper, Jr., J. W. Palmour, and K. G. Irvine, J. Electron. Mater. 24, 303 (1995).
4. L. A. Lipkin and J. W. Palmour, J. Electron. Mater. 25, 909 (1996).
5. M. Bhat, L. K. Han, D. Wristers, J. Yan, D. L. Kwong, and J. Fulford, Appl. Phys. Lett. 66, 1225 (1995).
6. D. Wristers, L. K. Han, T. Chen, H. H. Wang, and D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett. 68, 2094 (1996).
7. P. J. Tobin, Y. Okada, S. A. Ajuria, V. Lakothia, W. A. Feil, and R. I. Hedge, J. Appl. Phys. 75, 1811 (1994).
8. H. T. Tang, W. N. Lennard, C. S. Zhang, K. Griffiths, B. Li, L. C. Feldman, and M. L. Green, J. Appl. Phys. 80, 1816 (1996).
9. H. C. Lu, E. P. Gusev, T. Gustafsson, E. Garfunkel, M. L. Green, D. Brasen, and L. C. Feldman, Appl. Phys. Lett. 69, 2713 (1996).
10. I. J. R. Baumvol, J.-J. Ganem, L. G. Gosset, I. Trimaille, and S. Rigo, Appl. Phys. Lett. 72, 2999 (1998).
11. H-F. Li, S. Dimitrijev, H. B. Harrison, and D. Sweatman, Appl. Phys. Lett. 70, 2028 (1997).
12. S. Dimitrijev, H-F. Li, H. B. Harrison, and D. Sweatman, IEEE Electron Device Lett. 18, 175 (1997).
13. P. Tanner, S. Dimitrijev, H-F. Li, D. Sweatman, K. E. Prince, and H. B. Harrison, J. Electron. Mater. 28, 109 (1999).
14. I. J. R. Baumvol, F. C. Stedile, J.-J. Ganem, S. Rigo, and I. Trimaille, J. Electrochem. Soc. 142, 1205 (1995).
15. I. Vickridge and G. Amsel, Nucl. Instrum. Methods. Phys. Res. B 45, 6 (1990).
16. R. J. Wu and C. T. Yeh, Int. J. Chem. Kinet. 28, 89 (1996).
17. A. Gupta, S. Toby, E. P. Gusev, H. C. Lu, Y. Li, M. L. Green, T. Gustafsson, and E. Garfunkel, Prog. Surf. Sci. 59, 103 (1998).
18. Z. H. Lu, S. P. Tay, R. Cao, and P. Pianetta, Appl. Phys. Lett. 67, 2836 (1995).
19. J. Ushio, T. Maruizumi, and M. Miyao, Appl. Phys. Lett. 75, 680 (1999).