Initial growth studies of silicon oxynitrides in a N2O environment

Journal of Applied Physics

Volumn 80, Issue 3, 1996, Pages 1816-1822

  Tang, H T ^a   Lennard, W N ^a   Zhang, C S ^a   Griffiths, K ^a   Li, B ^a   Feldman, L C ^b,c   Green, M L ^b  

^a UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO   (Canada)

^b LUCENT TECHNOLOGIES   (United States)

^c VANDERBILT UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0037553990     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.362993     Document Type: Article

References (34)

1. W. Ting, H. Hwang, J. Lee, and D. L. Kwong, Appl. Phys. Lett. 57, 2808 (1990).
2. H. Hwang, W. Ting, B. Maiti, D. L. Kwong, and J. Lee, Appl. Phys. Lett. 57, 1010 (1990).
3. Z. H. Liu, J. T. Krick, H. J. Wann, P. K. Ko, C. Hu, and Y. C. Cheng, IEDM Tech. Dig. 625 (1992).
4. H. Fukuda, A. Uchiyama, T. Hayashi, T. Twabuchi, T. Ono, and T. Takayashiki, IEDM Tech. Dig. 465 (1992).
5. G. Q. Lo, A. B. Joshi, and D. L. Kwong, IEEE Trans. Electron Devices 40, 1565 (1993).
6. Z. Liu, H. Wam, P. Ko, C. Hu, and Y. C. Cheng, IEEE Electron Device Lett. 13, 519 (1992).
7. W. Ting, G. Q. Lo, J. Ann, T. Y. Chu, and D. L. Kwong, IEEE Electron Device Lett. 12, 416 (1991).
8. C. G. Sodini and K. S. Krisch, IEDM Tech. Dig. 617 (1992).
9. H. Hwang, W. Ting, D. L. Kwang, and J. Lee, Appl. Phys. Lett. 59, 1581 (1991).
10. H. Fang, K. S. Krisch, C. G. Sodini, J. E. Chung, and D. A. Antoniadis, IEDM Tech. Dig. 621 (1992).
11. E. C. Carr and R. A. Buhrman, Appl. Phys. Lett. 63, 53 (1993).
12. M. Hao and J. Lee, Appl. Phys. Lett. 60, 445 (1992).
13. M. Weidner, A. Röøseler, and M. Eichler, Thin Solid Films 234, 337 (1993).
14. G. Weidner and D. Krüger, Appl. Phys. Lett. 62, 294 (1993).
15. Y. Okada, P. J. Tobin, R. I. Hedge, J. Liao, and P. Rushbrook, Appl. Phys. Lett. 61, 3163 (1992).
16. D. G. J. Sutherland, H. Akatsu, M. Copel, F. J. Himpsel, T. A. Callcott, J. A. Carlisle, D. L. Ederer, J. J. Jia, I. Jimenez, R. Perera, D. K. Shuh, L. J. Terminello, and W. M. Tong, J. Appl. Phys. 78, 6761 (1995).
17. H. T. Tang, W. N. Lennard, M. Zinke-Allmang, I. V. Mitchell, L. C. Feldman, M. L. Green, and D. Brasen, Appl. Phys. Lett. 64, 3473 (1994).
18. "Thermocouple Reference Tables," The Temperature Handbook (Omega Engineering Inc., Stamford, CT, 1993).
19. H. T. Tang, W. N. Lennard, L. C. Feldman, M. L. Green, and D. Brasen, Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B 108, 347 (1996).
20. E. G. Keim, L. Wolterbeek, and A. Van Silfhout, Surf. Sci. 180, 565 (1987).
21. E. G. Keim and H. Wormeester, Surf. Sci. 260, 23 (1992).
22. T. S. Chao, W. H. Chen, and T. F. Lei, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 2370 (1995).
23. Y. Taguchi, M. Fujisawa, Y. Kuwahara, M. Onchi, and M. Nishijima, Surf. Sci. 217, L413 (1989).
24. P. Avouris, F. Bozso, and R. J. Hamers, J. Vac. Sci. Technol. B 5, 1387 (1987).
25. F. W. Smith and G. Ghidini, J. Electrochem. Soc. 129, 1300 (1982).
26. F. Lutz, J. L. Bischoff, L. Kubler, and D. Bolmont, Appl. Surf. Sci. 72, 427 (1993)
27. E. Briner, Ch. Meiner, and A. Rothen, J. Chem. Phys. 23, 609 (1926).
28. P. J. Tobin, Y. Okada, S. A. Ajuria, V. Lakhobita, W. A. Feil, and R. I. Hedge, J. Appl. Phys. 75, 1811 (1994).
29. M. Bhat, A. Kamath, D. L. Kwong, Y. M. Sun, and J. M. White, Appl. Phys. Lett. 65, 134 (1994).
30. J. L. Bischoff, L. Kubler, and D. Bolmont, Phys. Rev. B 39, 3653 (1989).
31. D.-R. He and F. W. Smith, Surf. Sci. 154, 347 (1985).
32. G. Rangelov, J. Stober, B. Eisenhut, and Th. Fauster, Phys. Rev. B 44, 1954 (1991).
33. M. L. Green, D. Brasen, L. C. Feldman, W. N. Lennard, and H. T. Tang, Appl. Phys. Lett. 67, 1600 (1995).
34. B. E. Deal and A. S. Grove, J. Appl. Phys. 36, 3770 (1965).