In situ single wavelength ellipsometry studies of high rate hydrogenated amorphous silicon growth using a remote expanding thermal plasma

Journal of Applied Physics

Volumn 88, Issue 11, 2000, Pages 6388-6394

  Smets, A H M ^a   Schram, D C ^a   Van De Sanden, M C M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001005153     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1321793     Document Type: Article

References (41)

1. R. W. Collins and B. Y. Yang, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1155 (1989).
2. T. Shirafuji, Y. Hayashi, and K. Tachibana, Mater. Res. Soc. Symp. Proc., Amorphous Silicon Technology 1994, p. 73.
3. A. Canillas, E. Bertran, J. L. Andújar, and B. Drévillon, J. Appl. Phys. 68, 2752 (1990).
4. H. N. Wanka, A. Kierzenberger, and M. B. Schubert, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 377, 263 (1995).
5. S. Bauer, R. O. Dusane, R. Biehl, B. Schröder, and H. Oechsner, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 420, 425 (1996).
6. D. M. Tanenbaum, A. L. Laracuente, and A. Gallagher, Phys. Rev. B 56, 4243 (1997).
7. R. J. Stevens, G. J. H. Brussaard, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 67, 491 (1995).
8. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, J. W. A. M. Gielen, R. M. J. Paffen, and D. C. Schram, Plasma Sources Sci. Technol. 5, 268 (1996).
9. R. J. Severens, G. J. H. Brussaard, H. J. M. Verhoeven, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 377, 33 (1995).
10. R. J. Severens, M. C. M. van de Sanden, H. J. M. Verhoeven, J. Bastiaanssen, and D. C. Schram, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 420, 341 (1996).
11. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, R. F. G. Meulenbroeks, and D. C. Schram, J. Appl. Phys. 84, 2426 (1998).
12. W. M. M. Kessels, A. H. M. Smets, J. Hoefnagels, M. G. H. Boogaarts, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, Mater. Res. Soc. Symp. 609, A4.Z.1 (2000).
13. R. M. A. Azzam and N. M. Bashara. Ellipsometry and Polarized Light (North-Holland, Amsterdam, 1977).
14. G. E. Jellison, Jr. and H. H. Burke, J. Appl. Phys. 60, 841 (1986).
15. G. M. W. Kroesen, G. S. Oehrlein, and T. C. Bestwick, J. Appl. Phys. 69, 3390 (1991).
16. G. E. Jellison, Jr. and F. A. Modine, J. Appl. Phys. 76, 3758 (1994).
17. Y. J. van der Meulen and N. C. Hien, J. Opt. Soc. Am. 64, 804 (1974).
18. G. E. Jellison, Jr. and F. A. Modine, Phys. Rev. B 27, 7466 (1983).
19. G. Vuye, S. Fisson, V. Nguyen Van, Y. Wang, J. Rivory, and F. Abelés, Thin Solid Films 233, 166 (1993).
20. P. Patel and I. W. Boyd, Appl. Surf. Sci. 46, 352 (1990).
21. N. Koyama, T. Endoh, H. Fukuda, and S. Nomura, J. Appl. Phys. 79, 1464 (1996).
22. R. W. Collins, J. Vac. Sci. Technol. A 4, 514 (1986).
23. D. E. Aspnes, J. B. Theeten, and F. Hottier, Phys. Rev. B 20, 3292 (1979).
24. A. M. Antoine, B. Drévillon, and P. R. I. Cabarrocas, J. Appl. Phys. 61, 2501 (1987).
25. D. A. G. Bruggemann, Phys. Ann. (Leipzig) 24, 636 (1935).
26. -1), in which the same initial jump for a longer time scale was observed, because a plasma induced surface charge should be present within 1 ms of starting the deposition.
27. M. C. M. van de Sanden, R. J. Severens, W. M. M. Kessels, F. van de Pas, L. van IJzendoorn, and D. C. Schram, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 467, 621 (1997).
28. J. W. A. M. Gielen, P. R. M. Kleuskens, M. C. M. van de Sanden, L. J. van IJrendoorn, D. C. Schram, E. H. A. Dekempeneer, and J. Meneve, J. Appl. Phys. 80, 5986 (1996).
29. W. M. M. Kessels, R. J. Severens, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 133 (1998).
30. P. I. Rovira, A. S. Ferlauto, I. An, H. Fujiwara, J. Koh, R. J. Koval, C. R. Wronski, and R. W. Collins, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 557, 719 (1999).
31. A. S. Ferlauto, J. Koh, P. I. Rovira, C. R. Wronski, R. W. Collins, and G. Ganguly, J. Non-Cryst. Solids 266-269, 269 (2000).
32. O. Yavas, N. Do, A. C. Tam, P. T. Leung, W. P. Leung, H. K. Park, C. P. Grigoropoulos, J. Boneborg, and P. Leiderer, Opt. Lett. 18, 540 (1993).
33. F. Family and T. Viscek, J. Phys. A 18. L75 (1985).
34. A. H. M. Smets, M. C. M. van de Sanden, and D. C. Schram, Thin Solid Films 343-344, 281 (1999).
35. A. J. Flewitt, J. Robertson, and W. I. Milne, J. Appl. Phys. 85, 8032 (1999).
36. K. Ikuta, Y. Toyoshima, S. Yamasaki, A. Matsuda, and K. Tanaka, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 420, 413 (1996).
37. M. Kondo, T. Ohe, K. Saito, T. Nishimiya, and A. Matsuda, J. Non-Cryst. Solids 227-230, 890 (1998).
38. D. M. Tanenbaum, A. Laracuente, and A. C. Gallagher, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 377, 143 (1995).
39. A. H. M. Smets, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden (unpublished).
40. A. H. M. Smets, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden (unpublished).
41. A. H. M. Smets, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 609, A7.6.1 (2000).