-
4
-
-
84888316665
-
-
M. Thambidurai J. Y. Kim J. Song Y. Ko H. J. Song C. M. Kang N. Muthukumarasamy D. Velauthapillai C. Lee J. Mater. Chem. C 2013 1 8161
-
(2013)
J. Mater. Chem. C
, vol.1
, pp. 8161
-
-
Thambidurai, M.1
Kim, J.Y.2
Song, J.3
Ko, Y.4
Song, H.J.5
Kang, C.M.6
Muthukumarasamy, N.7
Velauthapillai, D.8
Lee, C.9
-
6
-
-
33745497359
-
-
Z. L. Wang C. K. Lin X. M. Liu G. Z. Li Y. Luo Z. W. Quan H. P. Xiang J. Lin J. Phys. Chem. B 2006 110 9469
-
(2006)
J. Phys. Chem. B
, vol.110
, pp. 9469
-
-
Wang, Z.L.1
Lin, C.K.2
Liu, X.M.3
Li, G.Z.4
Luo, Y.5
Quan, Z.W.6
Xiang, H.P.7
Lin, J.8
-
22
-
-
77955658058
-
-
J. Shao W. Dong D. Li R. Tao Z. Deng T. Wang G. Meng S. Zhou X. Fang Thin Solid Films 2010 518 5288
-
(2010)
Thin Solid Films
, vol.518
, pp. 5288
-
-
Shao, J.1
Dong, W.2
Li, D.3
Tao, R.4
Deng, Z.5
Wang, T.6
Meng, G.7
Zhou, S.8
Fang, X.9
-
27
-
-
67650529724
-
-
P. C. Wei S. Chattopadhyay F. S. Lin C. M. Hsu S. Jou J. T. Chen P. J. Huang H. C. Hsu H. C. Shih K. H. Chen L. C. Chen Opt. Express 2009 17 11690
-
(2009)
Opt. Express
, vol.17
, pp. 11690
-
-
Wei, P.C.1
Chattopadhyay, S.2
Lin, F.S.3
Hsu, C.M.4
Jou, S.5
Chen, J.T.6
Huang, P.J.7
Hsu, H.C.8
Shih, H.C.9
Chen, K.H.10
Chen, L.C.11
-
29
-
-
77954829898
-
-
P. C. Wei S. Chattopadhyay M. D. Yang S. C. Tong J. L. Shen C. Y. Lu H. C. Shih L. C. Chen K. H. Chen Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 2010 81 45306
-
(2010)
Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys.
, vol.81
, pp. 45306
-
-
Wei, P.C.1
Chattopadhyay, S.2
Yang, M.D.3
Tong, S.C.4
Shen, J.L.5
Lu, C.Y.6
Shih, H.C.7
Chen, L.C.8
Chen, K.H.9
-
41
-
-
79953647368
-
-
R. K. Singhal S. C. Sharma P. Kumari S. Kumar Y. T. Xing U. P. Deshpande T. Shripathi E. Saitovitch J. Appl. Phys. 2011 109 63907
-
(2011)
J. Appl. Phys.
, vol.109
, pp. 63907
-
-
Singhal, R.K.1
Sharma, S.C.2
Kumari, P.3
Kumar, S.4
Xing, Y.T.5
Deshpande, U.P.6
Shripathi, T.7
Saitovitch, E.8
-
51
-
-
33744789203
-
-
S. C. Liao H. F. Lin S. W. Hung C. T. Hu J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom. 2006 24 1322
-
(2006)
J. Vac. Sci. Technol., B: Microelectron. Nanometer Struct.-Process., Meas., Phenom.
, vol.24
, pp. 1322
-
-
Liao, S.C.1
Lin, H.F.2
Hung, S.W.3
Hu, C.T.4
-
54
-
-
84872704396
-
-
J. Y. Gan X. H. Lu J. H. Wu S. L. Xie T. Zhai M. H. Yu Z. S. Zhang Y. C. Mao S. Wang Y. Shen Y. X. Tong Sci. Rep. 2013 3 1021
-
(2013)
Sci. Rep.
, vol.3
, pp. 1021
-
-
Gan, J.Y.1
Lu, X.H.2
Wu, J.H.3
Xie, S.L.4
Zhai, T.5
Yu, M.H.6
Zhang, Z.S.7
Mao, Y.C.8
Wang, S.9
Shen, Y.10
Tong, Y.X.11
-
55
-
-
84865268485
-
-
J. P. Wang Z. Y. Wang B. B. Huang Y. D. Ma Y. Y. Liu X. Y. Qin X. Y. Zhang Y. Dai ACS Appl. Mater. Interfaces 2012 4 4024
-
(2012)
ACS Appl. Mater. Interfaces
, vol.4
, pp. 4024
-
-
Wang, J.P.1
Wang, Z.Y.2
Huang, B.B.3
Ma, Y.D.4
Liu, Y.Y.5
Qin, X.Y.6
Zhang, X.Y.7
Dai, Y.8
-
57
-
-
20944432122
-
-
M. Watanabe M. Sakai H. Shibata H. Tampo P. Fons K. Iwata A. Yamada K. Matsubara K. Sakurai S. Ishizuka S. Niki K. Nakahara H. Takasu Appl. Phys. Lett. 2005 86 221907
-
(2005)
Appl. Phys. Lett.
, vol.86
, pp. 221907
-
-
Watanabe, M.1
Sakai, M.2
Shibata, H.3
Tampo, H.4
Fons, P.5
Iwata, K.6
Yamada, A.7
Matsubara, K.8
Sakurai, K.9
Ishizuka, S.10
Niki, S.11
Nakahara, K.12
Takasu, H.13
-
58
-
-
47949118755
-
-
D. Lagarde A. Balocchi P. Renucci H. Carrere F. Zhao T. Amand X. Marie Z. X. Mei X. L. Du Q. K. Xue Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 2008 78 33203
-
(2008)
Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys.
, vol.78
, pp. 33203
-
-
Lagarde, D.1
Balocchi, A.2
Renucci, P.3
Carrere, H.4
Zhao, F.5
Amand, T.6
Marie, X.7
Mei, Z.X.8
Du, X.L.9
Xue, Q.K.10
|