Defect-related emissions and magnetization properties of ZnO Nanorods

Advanced Functional Materials

Volumn 20, Issue 7, 2010, Pages 1161-1165

  Panigrahy, Bharati ^a   Aslam, Mohammed ^a   Misra, Devi Shanker ^a   Ghosh, Manoranjan ^a   Bahadur, Dhirendra ^a  

^a INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY BOMBAY   (India)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING CONDITION; ANNEALING TEMPERATURES; CHARGED OXYGEN VACANCIES; CHEMICAL METHOD; DEFECT-RELATED BANDS; DEFECT-RELATED EMISSION; DIRECT LINKS; ELECTRON PARAMAGNETIC RESONANCE; EMISSION BANDS; MAGNETIC BEHAVIOR; MAGNETIZATION PROPERTY; PURE ZNO; RELATIVE CONTRIBUTION; ZNO NANOROD;

ANNEALING; DEFECTS; MAGNETIZATION; OXYGEN; OXYGEN VACANCIES; PARAMAGNETIC RESONANCE; ZINC OXIDE;

NANORODS;

EID: 77950201364     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200902018     Document Type: Article

References (39)

1. M. H. Huang, S. Mao, H. N. Feick, H. Q. Yan, Y. Y. Wu, H. Kind, E. Weber, R. Russo, P. D. Yang, Science 2001, 292, 1897.
2. J. Zhou, N. S. Xu, Z. L. Wang, Adv. Mater. 2006, 18, 2432.
3. M. Law, L. E. Greene. J. C. Johnson, R. Saykally, P.Yang, Nat. Mater. 2005, 4, 455.
4. X. Zhang, Y. Zhang, J. Xu, Z. Wang, X. Chen, D. Yu, P. Zhang, H. Qi, Y. Tian, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 123111.
5. H. Faber, M. Burkhardt, A. Jedaa, D. Kalblein, H. Klauk, M. Halik, Adv. Mater. 2009, 21, 3099.
6. B. Panigrahy, M. Aslam, D. S. Misra, D. Bahadur, CrstEngComm 2009, 11, 1920.
7. A. Sundaresan, R. Bhargavi, N. Rangarajan, U. Siddesh, C. N. R. Rao, Phys. Rev. B 2006, 74, 161306.
8. K. C. Barick, M. Aslam, V. P. Dravid, D. Bahadur J. Phys. Chem. C 2008, 112, 15163.
9. J. B. Yi, H. Pan, J. Y. Lin, J. Ding, Y. P. Feng, S. Thongmee, T. Liu, H. Gong, L. Wang, Adv. Mater. 2008, 20, 1170.
10. A. Janotti, C. G. Van de Walle, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 122102.
11. Y. Ohno, D. K. Young, B. Beschoten, F. Matsukura, H. Ohno, D. D. Awsxhalom, Nature 1999, 402, 790.
12. |12] M. Venkatesan, C. B. Fitzgerald, J. M. D. Coey, Nature 2004, 430, 630.
13. N. H. Hong, J. Sakai, N. Poirot, V. Briz, Phys. Rev. B 2006, 73, 132404.
14. S. R. Shinde, S. B. Ogale, J. S. Higgins, H. Zheng, A. J. Millis, V. N. Kulkarni, R. Ramesh, R. L. Greene, T. Venkatesan, Phys. Rev. Lett. 2004, 92, 166601.
15. J. O. Guillen, S. Lany, S. V. Barabash, A. Zunger, Phys. Rev. Lett. 2006, 96, 107231.
16. J. M. D. Coey, M. Venkatesan, C. B. Fitzgerald, Nat. Mater. 2005, 4, 173.
17. B. B. Straumal, A. A. Mazilkin, S. G. Protasova, A. A. Myatiev, P. B. Straumal, G. Schütz, P. A. van Aken, E. Goering, B. Baretzky, Phys. Rev. B 2009, 79, 205206.
18. K. Potzger, Shengqiang Zhou, J. Grenzer, M. Helm, J. Fassbender, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 182504.
19. J. Cui, U. J. Gibson J. Phys. Chem. B 2005, 109, 22074.
20. L. E. Greene, M. Law, D. H. Tan, M. Montano, J. Goldberger, G. Somorjai, P. Yang, Nono Lett. 2005, 5, 1231.
21. S. Kar, B. N. Pal. S. Chaudhuri, D. Chakravorty J. Phys. Chem. B 2006, 110, 4605.
22. Z. L. Wang J. Phys.: Condens. Motter 2004, 16, R829.
23. J. J. Wu, S. C. Liu, Adv. Mater. 2002, 14, 215.
24. Y. Sun, G. M. Fuge, N. A. Fox, D. J. Riley, M. N. R. Ashfold, Adv. Mater. 2005, 17, 2477.
25. I. Salish, H. Temkin, V. Narayanamurti, Phys. Rev. B 2004, 69, 245401.
26. K. Vanheusden, W. L. Warren, C. H. Seager, D. R. Tallant, J. A. Voigt, B. E. Gnade J. Appl. Phys. 1996, 79, 7983.
27. R. Viswanatha, S. Chakraborty, S. Basu, D. D. Sarma J. Phys. Chem. C 2006, 110, 22310.
28. A. B. Djurisic, Y. H. Leung, K. H. Tam, Y. F. Hsu, L. Ding, W. K. Ge, Y. C. Zhong, K. S. Wong, W. K. Chan, H. L. Tam, K. W. Cheah, W. M. Kwok, D. L. Phillips, Nanotechnology 2007, 18, 095702.
29. K. C. Barick, D. Bahadur J. Nanosci. Nanotechnol. 2007, 7, 1935.
30. K. H. Tarn, C. K. Cheung, Y. H. Leung, A. B. Djurisic, C. C. Ling, C. D. Beling, S. Fung, W. M. Kwok, W. K. Chan, D. L. Phillips, L. Ding, W. K. Ge J. Phys. Chem. B 2006, 110, 20865.
31. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, A. Meijerink, J. Lumin. 2000, 454, 87.
32. K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant, J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 403.
33. J. D. Ye, S. L. Gu, F. Qin, S. M. Zhu, S. M. Liu, X. Zhou, W. Liu, L. Q. Hu, R. Zhang, Y. Shi, Y. D. Zheng, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 2005, 81, 759.
34. M. Ghosh, A. K. Raychaudhuri, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 123113.
35. T. Chen, C. Z. Xing, Z. Zhang, H. Y. Chen, T. Wu, Nanotechnology 2008, 19, 435711.
36. Y. Zuo, S. Ge, Z. Chen, L. Zhang, X. Zhou, S. Yan J. Alloys Compd. 2009, 470, 47.
37. Q. Xu, H. Schmidt, S. Zhou, K. Potzger, M. Helm, H. Hochmuth, M. Lorenz, A. Setzer, P. Esquinazi, C. Meinecke, M. Grundmann, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 082508.
38. C. D. Pemmaraju, R. Hanafin, T. Archer, H. B. Braun, S. Sanvito, Phys. Rev. B 2008, 78, 054428.
39. N. Y. Garces, N. C. Giles, L. E. Halliburton, G. Cantwell, D. B. Eason, D. C. Reynolds, D. C. Look. Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 1334.