Band alignment and interfacial structure of ZnO/Si heterojunction with Al2O3 and HfO2 as interlayers

Applied Physics Letters

Volumn 104, Issue 16, 2014, Pages

  Lu, Hong Liang ^a   Yang, Ming ^a   Xie, Zhang Yi ^a   Geng, Yang ^a   Zhang, Yuan ^a   Wang, Peng Fei ^a   Sun, Qing Qing ^a   Ding, Shi Jin ^a   Zhang, David Wei ^a  

^a FUDAN UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALIGNMENT; ATOMIC LAYER DEPOSITION; BAND STRUCTURE; COMPOSITE FILMS; HAFNIUM OXIDES; OPTOELECTRONIC DEVICES; PHOTOELECTRONS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

BAND ALIGNMENTS; ENERGY-BAND ALIGNMENT; INTERFACIAL STRUCTURES; THIN INTERLAYERS; VALENCE BAND OFFSETS; ZNO;

HETEROJUNCTIONS;

EID: 84900324976     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4872175     Document Type: Article

References (29)

1. B. Ryu and K. J. Chang, Physica B 404, 4823 (2009).
2. Q. Chen, M. Yang, Y. P. Feng, J. W. Chai, Z. Zhang, J. S. Pan, and S. J. Wang, Appl. Phys. Lett. 95, 162104 (2009).
3. E. Fortunato, P. Barquinha, A. Pimentel, A. Goncalves, A. Marques, L. Pereira, and R. Martins, Thin Solid Films 487, 205 (2005).
4. S. D. Singh, R. S. Ajimsha, V. Sahu, R. Kumar, P. Misra, D. M. Phase, S. M. Oak, L. M. Kukreja, T. Ganguli, and S. K. Deb, Appl. Phys. Lett. 101, 212109 (2012).
5. P. C. Wu, H. Y. Lee, and C. T. Lee, Appl. Phys. Lett. 100, 131116 (2012).
6. X. W. Fu, Z. M. Liao, Y. B. Zhou, H. C. Wu, Y. Q. Bie, J. Xu, and D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 100, 223114 (2012).
7. K. Wang and Y. Vygranenko, J. Appl. Phys. 101, 114508 (2007).
8. J. J. Hassan, M. A. Mahdi, S. J. Kasim, N. M. Ahmed, H. Abu Hassan, and Z. Hassan, Appl. Phys. Lett. 101, 261108 (2012).
9. P. F. Zhang, X. L. Liu, R. Q. Zhang, H. B. Fan, A. L. Yang, H. Y. Wei, P. Jin, S. Y. Yang, Q. S. Zhu, and Z. G. Wang, Appl. Phys. Lett. 92, 012104 (2008).
10. Y. I. Alivov, Ü. Özgür, S. Doǧan, D. Johnstone, V. Avrutin, N. Onojima, C. Liu, J. Xie, Q. Fan, and H. Morkoç, Appl. Phys. Lett. 86, 241108 (2005).
11. Y. Y. Xi, Y. F. Hsu, A. B. Djurišić, A. M. C. Ng, W. K. Chan, H. L. Tam, and K. W. Cheah, Appl. Phys. Lett. 92, 113505 (2008).
12. S. Mridha and D. Basak, J. Appl. Phys. 101, 083102 (2007).
13. S. T. Tan, X. W. Sun, J. L. Zhao, S. Iwan, Z. H. Cen, T. P. Chen, J. D. Ye, G. Q. Lo, D. L. Kwong, and L. L. Teo, Appl. Phys. Lett. 93, 013506 (2008).
14. D. C. Kim, W. S. Han, H. K. Cho, B. H. Kong, and H. S. Kim, Appl. Phys. Lett. 91, 231901 (2007).
15. B. O. Jung, J. H. Lee, J. Y. Lee, J. H. Kim, and H. K. Cho, J. Electrochem. Soc. 159(2), H102 (2012).
16. M. Perego, G. Seguini, G. Scarel, M. Fanciulli, and F. Wallrapp, J. Appl. Phys. 103, 043509 (2008).
17. Z. Y. Xie, H. L. Lu, S. S. Xu, Y. Geng, Q. Q. Sun, S. J. Ding, and D. W. Zhang, Appl. Phys. Lett. 101, 252111 (2012).
18. E. A. Kraut, R. W. Grant, J. R. Waldrop, and S. P. Eowalczyk, Phys. Rev. Lett. 44, 1620 (1980).
19. F. Zhang, G. S. Sun, L. Zheng, S. B. Liu, B. Liu, L. Dong, L. Wang, W. S. Zhao, X. F. Liu, G. G. Yan, L. X. Tian, and Y. P. Zeng, J. Appl. Phys. 113, 044112 (2013).
20. M. K. Hudait, Y. Zhu, D. Maurya, S. Priya, P. K. Patra, A. W. K. Ma, A. Aphale, and I. Macwan, J. Appl. Phys. 113, 134311 (2013).
21. J. W. Liu, M. Y. Liao, M. Imura, and Y. Koide, Appl. Phys. Lett. 101, 252108 (2012).
22. Z. G. Yang, L. P. Zhu, Y. M. Guo, W. Tian, Z. Z. Ye, and B. H. Zhao, Phys. Lett. A 375, 1760 (2011).
23. C. H. Jia, Y. H. Chen, X. L. Zhou, A. L. Yang, G. L. Zheng, X. L. Liu, S. Y. Yang, and Z. G. Wang, Appl. Phys. A 99, 511 (2010).
24. X. L. Wang, K. Han, W. W. Wang, J. J. Xiang, H. Yang, J. Zhang, X. L. Ma, C. Zhao, D. P. Chen, and T. C. Ye, Appl. Phys. Lett. 100, 122907 (2012).
25. V. V. Afanas'ev, H. Y. Chou, M. Houssa, A. Stesmans, L. Lamagna, A. Lamperti, A. Molle, B. Vincent, and G. Brammertz, Appl. Phys. Lett. 99, 172101 (2011).
26. J. L. Yang, B. S. Eller, C. Y. Zhu, C. England, and R. J. Nemanich, J. Appl. Phys. 112, 053710 (2012).
27. C. Y. Zhu, D. J. Smith, and R. J. Nemanich, J. Vac. Sci. Technol., B 30, 051807 (2012).
28. J. Robertson and B. Falabretti, J. Appl. Phys. 100, 014111 (2006).
29. J. B. You, X. W. Zhang, S. G. Zhang, H. R. Tan, J. Ying, Z. G. Yin, Q. S. Zhu, and P. K. Chu, J. Appl. Phys. 107, 083701 (2010).