Study of reactive oxygen or/and nitrogen species binding processes on E. coli bacteria with mass spectrometry isotopic nanoimaging

Plasma Processes and Polymers

Volumn 10, Issue 10, 2013, Pages 864-879

  Duday, David ^a   Clément, Franck ^b   Lecoq, Elodie ^a   Penny, Christian ^a   Audinot, Jean Nicolas ^a   Belmonte, Thierry ^c   Kutasi, Kinga ^d   Cauchie, Henry Michel ^a   Choquet, Patrick ^a  

^a LUXEMBOURG INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY   (Luxembourg)

^b UNIVERSITÉ DE PAU ET DES PAYS DE L'ADOUR   (France)

^c UNIVERSITÉ DE LORRAINE   (France)

^d INSTITUTE OF EXPERIMENTAL MEDICINE   (Hungary)

Author keywords

biomedical applications of plasmas; isotopic imaging; mass spectrometry; microwave discharges; plasma treatment

Indexed keywords

ESCHERICHIA COLI; ISOTOPES; MASS SPECTROMETERS; MASS SPECTROMETRY; MEDICAL APPLICATIONS; NITROGEN; OXYGEN; PLASMA APPLICATIONS;

BACTERIAL MEMBRANES; BIOLOGICAL OBJECTS; BIOMEDICAL APPLICATIONS; CONTROLLED ENVIRONMENT; ESCHERICHIA COLI BACTERIA; INTRACELLULAR MATERIALS; MICROWAVE DISCHARGE; PLASMA TREATMENT;

ELECTRIC DISCHARGES;

EID: 84885915669     PISSN: 16128850     EISSN: 16128869     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/ppap.201200173     Document Type: Article

References (97)

1. R. E. Sladek, E Stofels, J. Phys. D: Appl. Phys. 2005, 38, 1716.
2. M. Laroussi, IEEE Trans. Plasma Sci. 2002, 30, 1409.
3. J. C. Joaquin, C. Kwan, N. Abramzon, K. Vandervoort, G. Brelles-Marino, Microbiology 2009, 155, 724.
4. M. Moisan, J. Barbeau, S. Moreau, J. Pelletier, M. Tabrizian, L. H. Yahia, Int. J. Pharm. 2001, 226, 1.
5. Z. Machala, L. Chládeková, M. Pelach, J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 222 001.
6. S. Lerouge, M. R. Wertheimer, R. Marchand, M. Tabrizian, L'. H. Yahia, J. Biomed. Mater. Res. 2000, 51, 128.
7. E. Wagenaars, M. van der Woude, R. Vann, IEEE Trans. Plasma Sci. 2011, 39, 2346.
8. S. Moreau, M. Moisan, M. Tabrizian, J. Barbeau, J. Pelletier, A. Ricard, L'. H. Yahia, J. Appl. Phys. 2000, 88, 1166.
9. N. Philip, B. Saoudi, M. C. Crevier, M. Moisan, J. Barbeau, J. Pelletier, IEEE Trans. Plasma Sci. 2002, 30, 1429.
10. M. Moisan, J. Barbeau, M. C. Crevier, J. Pelletier, N. Philip, B. Saoudi, Pure Appl. Chem. 2002, 74, 349.
11. V. Kumar, J. Pulpytel, G. Giudetti, H. Rauscher, F. Rossi, F. Arefi-Khonsari, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 373.
12. F. Rossi, O. Kylián, H. Rauscher, M. Hasiwa, D. Gilliland, New J. Phys. 2009, 11, 115017.
13. F. Fumagalli, O. Kylián, L. Amato, J. Hanus, F. Rossi, J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 135203.
14. V. Scholtz, L. Kommova, J. Julak, Acta Phys. Pol. A 2011, 119, 803.
15. S. Rupf, A. Lehmann, M. Hannig, B. Schäfer, A. Schubert, U. Feldmann, A. Schindler, J. Med. Microbiol. 2010, 59, 206.
16. J. Ehlbeck, U. Schnabel, M. Polak, J. Winter, T. von Woedtke, R. Brandenburg, T. von dem Hagen, K. D. Weltmann, J. Phys. D: Appl. Phys. 2011, 44, 013002.
17. M. Leduc, D. Guay, S. Coulombe, R. L. Leask, Plasma Process. Polym. 2010, 7, 899.
18. M. Cooper, G. Fridman, A. Fridman, S. G. Joshi, J. Appl. Microbiol. 2010, 109, 2039.
19. N. Georgescu, C. P. Lungu, A. R. Lupu, M. Osiac, IEEE Trans. Plasma Sci. 2010, 38, 3156.
20. S. Kalghatgi, G. Fridman, M. Cooper, G. Nagaraj, M. Peddinghaus, M. Balasubramanian, V. N. Vasilets, A. Gutsol, A. Fridman, G. Friedman, IEEE Trans. Plasma Sci. 2007, 35, 1559.
21. G. Fridman, M. Peddinghaus, H. Ayan, A. Fridman, M. Balasubramanian, A. Gutsol, A. Brooks, G. Friedman, Plasma Chem. Plasma Process. 2006, 26, 425.
22. G. Kampf, A. Kramer, Clin. Microbiol. Rev. 2004, 17, 863.
23. G. Fridman, G. Friedman, A. Gutsol, A. B. Shekhter, V. N. Vasilets, A. Fridman, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 503.
24. F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, M. G. Kong, Plasma Process. Polym. 2008, 5, 322.
25. G. Fridman, A. D. Brooks, M. Balasubramanian, A. Fridman, A. Gutsol, V. N. Vasilets, H. Ayan, G. Friedman, Plasma Process. Polym. 2007, 4, 370.
26. V. A. Gostev, V. S. Ignakhin, E. K. Popova, O. A. Ostashkov, in Plasma Assisted Decontamination of Biological and Chemical Agents, S. Güceri, A. Fridman, Eds., Springer Science + Business Media B. V., Dordrecht 2008, p. 65 ff.
27. E. Stoffels, I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, L. J. M. van den Bedem, E. P. van der Laan, M. Steinbuch, Plasma Sources Sci. Technol. 2006, 15, 169.
28. G. Daeschlein, T. von Woedtke, E. Kindel, R. Brandenburg, K. D. Weltmann, M. Jünger, Plasma Process. Polym. 2009, 6, 224.
29. J. Heinlin, G. Isbary, W. Stolz, G. Morfill, M. Landthaler, T. Shimizu, B. Steffes, T. Nosenko, J. L. Zimmermann, S. Karrer, J. Eur. Acad. Dermatol. Venereol. 2011, 25, 1.
30. J. C. Volin, F. S. Denes, R. A. Young, S. M. T. Park, Crop. Sci. 2000, 40, 1706.
31. M. Henselova, L. Slovakova, M. Martinka, A. Zahoranova, Biologia 2012, 67, 490.
32. S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi, Jpn. J. Appl. Phys. 2012, 51, 01AE01.
33. B. Sera, P. Spatenka, M. Sery, N. Vrchotova, I. Hruskova, IEEE Trans. Plasma Sci. 2010, 38, 2963.
34. M. Q. Yin, M. J. Huang, B. Z. Ma, T. C. Ma, Plasma Sci. Techno. 2005, 7, 3143.
35. M. Yusupov, E. C. Neyts, U. Khalilov, R. Snoeckx, A. C. T. van Duin, A. Bogaerts, New J. Phys. 2012, 14, 093043.
36. S. P. Kuo, C. Y. Chen, C. S. Lin, SH Chiang, IEEE Trans. Plasma Sci. 2012, 40, 1117.
37. N. Y. Babaeva, N. Ning, D. B. Graves, MJ Kushner, J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 115203.
38. K. P. Arjunan, G. Friedman, A. Fridman, A. Morss Clyne, J. R. Soc. Interface 2012, 9, 147.
39. A. Nastuta, I. Topala, C. Grigoras, V. Pohoata, G. Popa, J. Phys. D: Appl. Phys. 2011, 44, 105204.
40. G. Daeschlein, S. Scholz, R. Ahmed, A. Majumdar, T. von Woedtke, H. Haase, M. Niggemeier, E. Kindel, R. Brandenburg, K. D. Weltmann, M. Jünger, J. Deutschen Dermatologischen Gesellschaft 2012, 10, 509.
41. G. Daeschlein, S. Scholz, A. Arnold, A. S. von Podewils, H. Haase, S. Emmert, T. von Woedtke, K. D. Weltmann, M. Jünger, Plasma Process. Polym. 2012, 9, 380.
42. P. Sun, Y. Sun, H. Wu, J. L. Lopez, W. Liu, J. Zhang, R. Li, J. Fang, Source: Appl. Phys. Lett. 2011, 98, 021501.
43. P. Rajasekaran, P. Mertmann, N. Bibinov, D. Wandke, W. Viöl, P. Awakowicz, J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 225201.
44. S. Duarte, S. P. Kuo, R. M. Murata, C. Y. Chen, D. Saxena, K. J. Huang, S. Popovic, Phys. Plasmas 2011, 18, 073503.
45. H. Ohkawa, M. Tsuji, K. Ohtsuki, M. Ohnishi, T. Akitsu, Plasma Process. Polym. 2005, 2, 112.
46. M. Vandamme, E. Robert, S. Lerondel, V. Sarron, D. Ries, S. Dozias, J. Sobilo, D. Gosset, C. Kieda, B. Legrain, J. M. Pouvesle, A. L. Pape, Int. J. Cancer 2012, 130, 2185.
47. N. K. Kaushik, Y. H. Kim, Y. G. Han, E. H. Choi, Curr. Appl. Phys. 2013, 13, 176.
48. J. Huang, H. Li, W. Chen, G.-H. Lu, X.-Q. Wang, G.-P. Zhang, K. Ostrikov, P.-Y. Wang, S.-Z. Yang, Appl. Phys. Lett. 2011, 99, 253701.
49. M. Vandamme, E. Robert, S. Pesnel, E. Barbosa, S. Dozias, J. Sobilo, S. Lerondel, A. L. Pape, J. M. Pouvesle, Plasma Process. Polym. 2010, 7, 264.
50. J. Y. Kim, Y. Wei, J. Li, P. Foy, T. Hawkins, J. Ballato, S.-O. Kim, Small 2011, 7, 2291.
51. J. K. Lee, M. S. Kim, J. H. Byun, K. T. Kim, G. C. Kim, G. Y. Park, Jpn. J. Appl. Phys. 2011, 50, 08JF01.
52. Z. Xiong, E. Robert, V. Sarron, J. M. Pouvesle, M. J. Kushner, J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 275201.
53. M. G. Kong, B. N. Ganguly, R. F. Hicks, Plasma Sources Sci. Technol. 2012, 21, 030201.
54. J.-S. Oh, O. T. Olabanji, C. Hale, R. Mariani, K. Kontis, J. W. Bradley, J. Phys. D: Appl. Phys. 2011, 44, 206.
55. D. Tsyganov, S. Pancheshnyi, Plasma Sources Sci. Technol. 2012, 21, 065010.
56. J. P. Boeuf, B. Bernecker, T. Callegari, S. Blanco, R. Fournier, Appl. Phys. Lett. 2012, 100, 244108.
57. C. Douat, G. Bauville, M. Fleury, M. Laroussi, V. Puech, Plasma Sources Sci. Technol. 2012, 21, 034010.
58. G. Dilecce, P. F. Ambrico, M. Simek, S. De Benedictis, J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 125203.
59. R. M. van der Horst, T. Verreycken, E. M. van Veldhuizen, P. J. Bruggeman, J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 345201.
60. K. Kutasi, P. A. Sa, V. Guerra, J. Phys. D: Appl. Phys. 2012, 45, 195205.
61. M. Abdeladim, A. Ricard, N. Mekkakia Maaza, Contrib. Plasma Phys. 2012, 52, 726.
62. C. Monge-Daugé, F. Clément, P. Svarnas, J.-F. Loiseau, A. Ricard, B. Held, IEEE Trans. Plasma Sci. 2012, 40, 2254.
63. O. Boudreault, S. Mattei, L. Stafford, J. Margot, M. Moisan, R. Khare, V. M. Donnelly, Phys. Rev. E 2012, 86, 015402.
64. S. Reuter, J. Winter, A. Schmidt-Bleker, H. Tresp, M. U. Hammer, K.-D. Weltmann, IEEE Trans. Plasma Sci. 2012, 40, 2788.
65. P. Bruggemann, C. Leys, J. Phys. D: Appl. Phys. 2009, 42, 053 001.
66. S. Ikawa, K. Kitano, S. Hamaguchi, Plasma Process. Polym. 2010, 7, 33.
67. F. Liu, P. Sun, N. Bai, Y. Tian, H. Zhou, S. Wei, Y. Zhou, J. Zhang, W. Zhu, K. Becker, J. Fang, Plasma Process. Polym. 2010, 7, 231.
68. K. Oehmigen, J. Winter, C. Wilke, R. Brandenburg, M. Hähnel, K.-D. Weltmann, T. von Woedtke, Plasma Process. Polym. 2011, 8, 904.
69. C. Golkowski, J. Leszczynski, S. R. Plimpton, P. Maslowski, A. Foltynowicz, Y. Jun, B. McCollister, IEEE Trans. Plasma Sci. 2012, 40, 1984.
70. N. Musat, R. Foster, T. Vagner, B. Adam, M. M. M. Kuypers, FEMS Microbiol. Rev. 2012, 36, 486.
71. S. Behrens, A. Kappler, M. Obst, Environ. Microbiol. 2012, 14, 2851.
72. L. Polerecky, B. Adam, J. Milucka, N. Musat, T. Vagner, M. M. M. Kuypers, Environ. Microbiol. 2012, 14, 1009.
73. N. Musat, B. Adam, M. M. M. Kuypers, in Stable Isotope F Probing Related Technologies, J. Murrell, A. Whiteley, Eds., American Society for Microbiology, Washington, DC, USA 2011, p. 295.
74. F. Clément, E. Lecoq, D. Duday, T. Belmonte, J.-N. Audinot, E. Lentzen, C. Penny, H.-M. Cauchie, P. Choquet, New J. Phys. 2011, 13, 113040.
75. M. Senoner, W. E. S. Unger, J. Anal. At. Spectrom. 2012, 27, 1050.
76. J. N. Audinot, C. Guignard, H.-N. Migeon, L. Hoffmann, Appl. Surf. Sci. 2006, 252, 6813.
77. C. Lechene, F. Hillion, G. Mc. Mahon, D. Benson, A. M. Kleinfeld, J. P. Kampf, D. Distel, Y. Luyten, J. Bonventre, D. Hentschel, K. M. Park, S. Ito, M. Schwartz, G. Benichou, G. Slodzian, J. Biol. 2006, 5, 20.
78. L. Lai, C. Lin, C.-Q. Xiao, Z.-Q. Xu, X.-L. Han, L. Fu, D.-W. Li, P. Mei, F.-L. Jiang, Q.-L. Guo, Y. Liu, J. Colloid Interface Sci. 2013, 389, 61.
79. B. Boulbene, J. Morchain, M. Mercier Bonin, S. Janel, F. Lafont, P. Schmitz, AIChE J. 2012, 58, 3614.
80. M. Senou, C. Khalifa, M. Thimmesch, F. Jouret, O. Devuyst, V. Col, J.-N. Audinot, P. Lipnik, J. C. Moreno, J. Van Sande, J. E. Dumont, M.-C. Many, I. M. Colin, A.-C. Gerard, J. Clin. Endocrinol. Metab. 2010, 95, 4021.
81. T. Belmonte, T. Czerwiec, H. Michel, Surf. Coat. Technol. 2001, 142, 306.
82. A. Ricard, T. Czerwiec, T. Belmonte, S. Bockel, H Michel, Thin Solid Films 1999, 341, 1.
83. A. Ricard, A. Besner, J. Hubert, M. Moisan, J. Phys. B: At. Mol. Opt. Phys. 1988, 21, L579.
84. K. Kutasi, V. Guerra, P. A. Sa, Plasma Sources Sci. Technol. 2011, 20, 035006.
85. K. Kutasi, V. Guerra, P. A. Sa, J. Phys. D: Appl. Phys. 2010, 43, 175201.
86. M. K. Boudam, B. Saoudi, M. Moisan, A. Ricard, J. Phys. D: Appl. Phys. 2007, 40, 1694.
87. V. Guerra, K. Kutasi, P. A. Sá, Appl. Phys. Lett. 2010, 96, 071503.
88. M. Mafra, T. Belmonte, F. Poncin-Epaillard, A. Maliska, U. Cvelbar, Plasma Process. Polym. 2009, 6, S198.
89. E. Bernardelli, T. Belmonte, D. Duday, G. Frache, F. Poncin-Epaillard, A. Maliska, Plasma Chem. Plasma Process. 2011, 31, 205.
90. P. A. Sá, J. Loureiro, J. Phys. D: Appl. Phys. 1997, 30, 2320.
91. J. Henriques, E. Tatarova, V. Guerra, C. M. Ferreira, J. Appl. Phys. 2002, 91, 5622.
92. A. Ricard, J. E. Oseguera-Pena, L. Falk, H. Michel, M. Gantois, IEEE Trans. Plasma Sci. 1990, 18, 940.
93. L. Lefèvre, T. Belmonte, H. Michel, J. Appl. Phys. 2000, 87, 7497.
94. V. Guerra, K. Kutasi, P. A. Sa, M. Lino da Silva, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 2011, 56, 24004.
95. B. Diaz, D. Schulze-Makuch, Astrobiology 2006, 6, 332.
96. Y. Fleming, T. Wirtz, U. Gysin, T. Glatzel, U. Wegmann, E. Meyer, U. Maier, J. Rychen, Appl. Surf. Sci. 2011, 258, 1322.
97. A. H. Rogers, Molecular Oral Microbiology, Horizon Scientific Press, Poole, UK 2008.