Biomedical applications of low temperature atmospheric pressure plasmas to cancerous cell treatment and tooth bleaching

Japanese Journal of Applied Physics

Volumn 50, Issue 8 PART 2, 2011, Pages

  Lee, Jae Koo ^a   Kim, Myoung Soo ^a   Byun, June Ho ^b,c   Kim, Kyong Tai ^a   Kim, Gyoo Cheon ^d   Park, Gan Young ^b  

^a Pohang University of Science and Technology (POSTECH)   (South Korea)

^b Gyeongsang National University   (South Korea)

^c Gyeongsang National University School of Medicine   (South Korea)

^d Pusan National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMAS; BIOMEDICAL APPLICATIONS; CANCEROUS CELLS; CELL APOPTOSIS; GOLD NANOPARTICLES; HELIUM PLASMAS; HYDROXYL RADICALS; LIVING TISSUES; LOW TEMPERATURES; NONTHERMAL; PLASMA EXPOSURE; TOOTH BLEACHING;

ATMOSPHERIC PRESSURE; ATMOSPHERICS; BLEACHING; CELL DEATH; CLEANING; HELIUM; HYDROGEN; HYDROGEN PEROXIDE; MEDICAL APPLICATIONS; OXIDATION; PLASMA SOURCES; THERMODYNAMIC PROPERTIES; TISSUE;

ATMOSPHERIC TEMPERATURE;

EID: 80051999911     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.50.08JF01     Document Type: Conference Paper

References (45)

1. M. Laroussi and T. Akan: Plasma Processes Polym. 4 (2007) 777.
2. F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, and M. G. Kong: Plasma Processes Polym. 5 (2008) 322.
3. K. D. Weltmann, E. Kindel, T. von Woedtke, M. Hahnel, M. Stieber, and R. Brandenburg: Pure Appl. Chem. 82 (2010) 1223.
4. G. Fridman, G. Friedman, A. Gutsol, A. B. Shekhter, V. N. Vasilets, and A. Fridman: Plasma Processes Polym. 5 (2008) 503.
5. M. Hähnel, A. Diener, Ü. Kolukisaoglu, K.-D. Weltmann, and K. Thurow: Plasma Processes Polym. 8 (2011) 70.
6. B. Haertel, K. Wende, T. von Woedtke, K. D. Weltmann, and U. Lindequist: Exp. Dermatol. 20 (2011) 282.
7. K. Landsberg, C. Scharf, K. Darm, K. Wende, G. Daeschlein, E. Kindel, K. D. Weltmann, and T. Von Woedtke: Plasma Med. 1 (2011) 55.
8. E. A. Sosnin, E. Stoffels, M. V. Erofeev, I. E. Kieft, and S. E. Kunts: IEEE Trans. Plasma Sci. 32 (2004) 1544.
9. M. Leduc, D. Guay, S. Coulombe, and R. L. Leask: Plasma Processes Polym. 7 (2010) 899.
10. H. Yasuda, T. Miura, H. Kurita, K. Takashima, and A. Mizuno: Plasma Processes Polym. 7 (2010) 301.
11. M. Laroussi and T. Akan: Plasma Processes Polym. 4 (2007) 777.
12. M. Laroussi: Plasma Processes Polym. 2 (2005) 391.
13. S. J. Park, J. Choi, G. Y. Park, S. K. Lee, Y. Cho, J. I. Yun, S. Jeon, K. T. Kim, J. K. Lee, and J. Y. Sim: IEEE Trans. Plasma Sci. 38 (2010) 1956.
14. G. Morfill, T. Shimizu, B. Steffes, and H. Schmidt: New J. Phys. 11 (2009) 115019.
15. K. D. Weltmann, E. Kindel, R. Brandenburg, C. Meyer, R. Bussiahn, C. Wilke, and T. von Woedtke: Contrib. Plasma Phys. 49 (2009) 631.
16. J. Ehlbeck, U. Schnabel, M. Polak, J. Winter, T. von Woedtke, R. Brandenburg, T. von dem Hagen, and K. Weltmann: J. Phys. D 44 (2011) 013002.
17. G. Fridman, A. Shereshevsky, M. M. Jost, A. D. Brooks, A. Fridman, A. Gutsol, V. Vasilets, and G. Friedman: Plasma Chem. Plasma Process. 27 (2007) 163.
18. G. Kim, G. Kim, S. Park, S. Jeon, H. Seo, F. Iza, and J. Lee: J. Phys. D 42 (2009) 032005.
19. G. Kim, W. Kim, K. Kim, and J. Lee: Appl. Phys. Lett. 96 (2010) 021502.
20. G. J. Kim, S. R. Park, G. C. Kim, and J. K. Lee: Plasma Med. 1 (2011) 45.
21. M. Vandamme, E. Robert, S. Pesnel, E. Barbosa, S. Dozias, J. Sobilo, S. Lerondel, A. Le Pape, and J. M. Pouvesle: Plasma Processes Polym. 7 (2010) 264.
22. M. Vandamme, E. Robert, S. Dozias, J. Sobilo, S. Lerondel, A. Le Pape, and J. M. Pouvesle: Plasma Med. 1 (2011) 27.
23. J. Y. Kim, S. O. Kim, Y. Wei, and J. Li: Appl. Phys. Lett. 96 (2010) 203701.
24. J. Y. Kim, Y. Wei, J. Li, and S.-O. Kim: Biosens. Bioelectron. 26 (2010) 555.
25. E. Stoffels, I. Kieft, and R. Sladek: J. Phys. D 36 (2003) 2908.
26. H. Lee, C. Shon, Y. Kim, S. Kim, G. Kim, and M. G. Kong: New J. Phys. 11 (2009) 115026.
27. H. W. Lee, G. J. Kim, J. M. Kim, J. K. Park, J. K. Lee, and G. C. Kim: J. Endod. 35 (2009) 587.
28. H. W. Lee, S. H. Nam, A. A. H. Mohamed, G. C. Kim, and J. K. Lee: Plasma Processes Polym. 7 (2010) 274.
29. J. Pan, P. Sun, Y. Tian, H. Zhou, H. Wu, N. Bai, F. Liu, W. Zhu, J. Zhang, and K. H. Becker: IEEE Trans. Plasma Sci. 38 (2010) 3143.
30. P. Sun, J. Pan, Y. Tian, N. Bai, H. Wu, L. Wang, C. Yu, J. Zhang, W. Zhu, and K. H. Becker: IEEE Trans. Plasma Sci. 38 (2010) 1892.
31. J. K. Park, S. H. Nam, H. C. Kwon, A. A. H. Mohamed, J. K. Lee, and G. C. Kim: Int. Endod. J. 44 (2011) 170.
32. G. Fridman, M. Peddinghaus, M. Balasubramanian, H. Ayan, A. Fridman, A. Gutsol, and A. Brooks: Plasma Chem. Plasma Process. 26 (2006) 425.
33. S. U. Kalghatgi, G. Fridman, M. Cooper, G. Nagaraj, M. Peddinghaus, M. Balasubramanian, V. N. Vasilets, A. F. Gutsol, A. Fridman, and G. Friedman: IEEE Trans. Plasma Sci. 35 (2007) 1559.
34. G. Y. Park, Y. J. Hong, H. W. Lee, J. Y. Sim, and J. K. Lee: Plasma Processes Polym. 7 (2010) 281.
35. G. Lloyd, G. Friedman, S. Jafri, G. Schultz, A. Fridman, and K. Harding: Plasma Processes Polym. 7 (2010) 194.
36. M. Laroussi and X. Lu: Appl. Phys. Lett. 87 (2005) 113902.
37. H. S. Uhm, J. P. Lim, and S. Z. Li: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 261501.
38. X. Deng, J. Shi, H. Chen, and M. G. Kong: Appl. Phys. Lett. 90 (2007) 013903.
39. U. Kogelschatz: Plasma Chem. Plasma Process. 23 (2003) 1.
40. B. Zhivotovsky and G. Kroemer: Nat. Rev. Mol. Cell Biol. 5 (2004) 752.
41. Canay and M. C. Cehreli: J. Prosthet. Dent. 89 (2003) 474.
42. A. R. Yazici, A. Khanbodaghi, and G. Kugel: J. Contemp. Dent. Pract. 8 (2007) 19.
43. K. Kawamoto and Y. Tsujimoto: J. Endod. 30 (2004) 45.
44. G. Plotino, L. Buono, N. M. Grande, C. H. Pameijer, and F. Somma: J. Endod. 34 (2008) 394.
45. A. Sulieman: Periodontology 48 (2008) 148.