Flexible field emission from thermally welded chemically doped graphene thin films

Small

Volumn 8, Issue 2, 2012, Pages 272-280

  Jeong, Hee Jin ^a   Jeong, Hae Deuk ^a   Kim, Ho Young ^a   Kim, Sung Hun ^a   Kim, Jun Suk ^a   Jeong, Seung Yol ^a   Han, Joong Tark ^a   Lee, Geon Woong ^a  

^a Korea Electrotechnology Research Institute (KERI)   (South Korea)

Author keywords

doping; field emission; flexible devices; graphene; thin films

Indexed keywords

BENDING ANGLE; CHEMICAL DOPING; CHEMICALLY DOPED; COHESIVE FAILURES; ELECTRON EMISSION PROPERTIES; EMISSION PROPERTIES; FIELD-EMISSION CHARACTERISTICS; FIELD-EMISSION DEVICES; FLEXIBLE DEVICE; HIGH DENSITY; HIGH EMISSION CURRENT DENSITY; HIGH FIELD; INTERFACIAL STRENGTH; LONG TERM STABILITY; P-TYPE DOPANT; POLYMERIC SUBSTRATE; THERMAL WELDING; THRESHOLD FIELDS; UNIFORM DISTRIBUTION; VERTICALLY ALIGNED;

DOPING (ADDITIVES); FABRICATION; FIELD EMISSION; GRAPHENE; OXIDE FILMS; POLYMERIC FILMS; SEMICONDUCTOR DOPING; SUBSTRATES; THIN FILMS; WELDING;

FIELD EMISSION DISPLAYS;

EID: 84862908247     PISSN: 16136810     EISSN: 16136829     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/smll.201101696     Document Type: Article

References (62)

1. K. S. Kim, Y. Zhao, H. Jang, S. Y. Lee, J. M. Kim, K. S. Kim, J. Ahn, P. Kim, J. Choi, B. H. Hong, Nature 2009, 457, 706.
2. S. Y. Jeong, S. H. Kim, J. T. Han, H. J. Jeong, S. Yang, G.-W. Lee, ACS Nano 2011, 5, 870.
3. V. Lee, L. Whittaker, C. Jaye, K. M. Baroudi, D. A. Fischer, S. Banerjee, Chem. Mater. 2009, 21, 3905.
4. G. Eda, G. Fanchini, M. Chhowalla, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 270.
5. H. A. Becerril, J. Mao, Z. Liu, R. M. Stoltenberg, Z. Bao, Y. Chen, ACS Nano 2008, 2, 463.
6. S. Bae, H. Kim, Y. Lee, X. Xu, J. Park, Y. Zheng, H. Balakrishnan, T. Lei, H. R. Kim, Y. I. Song, Y. Kim, K. S. Kim, B. Ozyilmas, J. Ahn, B. H. Hong, S. Iigima, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 574.
7. B. J. Kim, H. Jang, S.-K. Lee, B. H. Hong, J.-H. Ahn, J. H. Cho, Nano Lett. 2010, 10, 3464.
8. W. J. Yu, S. Y. Lee, S. H. Chae, D. Perello, G. H. Han, M. Yun, Y. H. Lee, Nano Lett. 2011, 11, 1344.
9. Z. Yin, S. Sun, T. Salim, S. Wu, X. Huang, Q. He, Y. M. Lam, H. Zhang, ACS Nano 2010, 4, 5263.
10. K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, M. I. Katsnelson, I. V. Grigorieva, S. V. Dubonos, A. A. Firsov, Nature 2005, 438, 197.
11. C. Lee, X. Wei, J. W. Kysar, J. Hone, Science 2008, 321, 385.
12. A. A. Balandin, S. Ghosh, W. Bao, I. Calizo, D. Teweldebrhan, F. Mial, C. N. Lau, Nano Lett. 2008, 8, 902.
13. K. I. Bolotin, K. J. Sikes, Z. Jiang, M. Klima, G. Fudenberg, J. Hone, P. Kim, H. L. Stormer, Solid State Commun. 2008, 146, 351.
14. G. Eda, H. E. Unalan, N. Rupesinghe, G. A. J. Amaratunga, M. Chhowalla, Appl. Phys. Lett. 2008, 93, 233502.
15. Z.-S. Wu, S. Pei, W. Ren, D. Tang, L. Gao, B. Liu, F. Li, C. Liu, H.-M. Cheng, Adv. Mater. 2009, 21, 1756.
16. H. Yamaguchi, K. Murakami, G. Eda, T. Fujita, P. Guan, W. Wang, C. Gong, J. Boisse, S. Miller, M. Acik, K. Cho, Y. J. Chabal, M. Chen, M. Wakaya, M. Takai, M. Chhowalla, ACS Nano 2011, 5, 4945.
17. A. Wang, J. Wang, P. Miraldo, M. Zhu, R. Outlaw, K. Hou, X. Zhao, B. C. Holloway, D. Manos, T. Tyler, O. Shenderova, M. Ray, J. Dalton, G. McGuire, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 183103.
18. K. Hou, R. A. Outlaw, S. Wang, M. Zhu, R. A. Quinlan, D. M. Manos, M. E. Kordesch, U. Arp, B. C. Holloway, Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 133112.
19. S. H. Lee, H. W. Kim, J. O. Hwang, W. J. Lee, J. Kwon, C. W. Bielawski, R. S. Ruoff, S. O. Kim, Angew. Chem. Int. Ed. 2010, 49, 10084.
20. M. Lazzeri, F. Mauri, Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 266407.
21. G. Giovannetti, P. A. Khomyakov, G. Brocks, V. M. Karpan, J. van den Brink, P. J. Kelly, Phys. Rev. Lett. 2008, 101, 026803.
22. J.-H. Chen, C. Jang, S. Adam, M. S. Fuhrer, E. D. Williams, M. Ishigami, Nat. Phys. 2008, 4, 377.
23. Y.-J. Yu, Y. Zhao, S. Ryu, L. E. Brus, K. S. Kim, P. Kim, Nano Lett. 2009, 9, 3430.
24. X. Wang, X. Li, L. Zhang, Y. Yoon, P. K. Weber, H. Wang, J. Guo, H. Dai, Science 2009, 8, 768.
25. D. H. Lee, J. A. Lee, W. J. Lee, D. S. Choi, W. J. Lee, S. O. Kim, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 21184.
26. B. C. Brodie, Ann. Chim. Phys. 1860, 59, 466.
27. B.-S. Kong, J. Geng, H.-T. Jung, Chem. Commun. 2009, 2174.
28. S. Trasatti, Pure Appl. Chem. 1986, 58, 955.
29. H. Reiss, A. Heller, J. Phys. Chem. 1985, 89, 4207.
30. B. S. Hemingway, R. A. Robie, Geochim. Cosmochim. Acta 1977, 41, 1402.
31. S. M. Kim, J. H. Jang, K. K. Kim, H. K. Park, J. J. Bae, W. J. Yu, I. H. Lee, G. Kim, D. D. Loc, U. J. Kim, E.-H. Lee, H.-J. Shin, J.-Y. Choi, Y. H. Lee, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 327.
32. H. J. Jeong, H. D. Jeong, H. Y. Kim, J. S. Kim, S. Y. Jeong, J. T. Han, D. S. Bang, G.-W. Lee, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 1526.
33. D. H. Lee, J. E. Kim, T. H. Han, J. W. Hwang, S. Jeon, S.-Y. Choi, S. H. Hong, W. J. Lee, R. S. Ruoff, S. O. Kim, Adv. Mater. 2010, 22, 1.
34. C. Kim, A. Facchetti, T. J. Marks, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 9122.
35. J. A. Forrest, K. Dalnoki-Veress, Adv. Colloid Interface Sci. 2001, 94, 167.
36. C. J. Ellison, J. M. Torkelson, Nat. Mater. 2003, 2, 695.
37. J. T. Han, J. S. Kim, S. H. Kim, H. S. Lim, H. J. Jeong, S. Y. Jeong, G.-W. Lee, ACS Appl. Mater. Interfaces 2010, 2, 3378.
38. A. B. Ponter, A. P. Boyes, Nature 1971, 231, 354.
39. W. Gao, L. B. Alemany, L. Ci, P. M. Ajayan, Nat. Chem. 2009, 1, 403.
40. S. J. Park, R. S. Ruoff, Nat. Nanotechnol. 2009, 4, 217.
41. H. Wang, J. T. Robinson, X. Li, H. Dai, J. Am. Chem. Soc. 2009, 131, 9910.
42. X. Gao, J. Jang, S. Nagase, J. Phys. Chem. C 2010, 114, 832.
43. A. Reina, X. Jia, J. Ho, D. Nezich, H. Son, V. Bulovic, M. S. Dresselhaus, J. Kong, Nano Lett. 2009, 9, 30.
44. A. Das, S. Pisana, B. Chakraborty, S. Piscanec, S. K. Saha, U. V. Waghmare, K. S. Novoselov, H. R. Krishnamurthy, A. K. Geim, A. C. Ferrari, A. K. Sood, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 210.
45. M. Lazzeri, F. Mauri, Phys. Rev. Lett. 2006, 97, 266407.
46. A. C. Ferrari, Solid State Commun. 2007, 143, 47.
47. H.-J. Shin, W. M. Choi, D. Choi, G. H. Han, S.-M. Yoon, H.-K. Park, S.-W. Kim, Y. W. Jin, S. Y. Lee, J. M. Kim, J.-Y. Choi, Y. H. Lee, J. Am. Chem. Soc. 2010, 132, 15603.
48. U. Dettlaff-Weglikowska, V. Skákalová, R. Graupner, S. H. Jhang, B. H. Kim, H. J. Lee, L. Ley, Y. W. Park, S. Berber, D. Tománek, S. Roth, J. Am. Chem. Soc. 2005, 127, 5125.
49. H.-J. Shin,., S. M. Kim, S.-M. Yoon, A. Benayad, K. K. Kim, S. J. Kim, H. K. Park, J.-Y. Choi, Y. H. Lee, J. Am. Chem. Soc. 2008, 130, 2062.
50. H.-Z. Geng, K. K. Kim, C. Song, N. T. Xuyen, S. M. Kim, K. A. Park, D. S. Lee, K. H. An, Y. S. Lee, Y. Chang, Y. J. Lee, J. Y. Choi, A. Benayad, Y. H. Lee, J. Mater. Chem. 2008, 18, 1261.
51. Z. Huo, C. K. Tsung, W. Huang, X. Zhang, P. Yang, Nano Lett. 2008, 8, 2041.
52. J. O. Hwang, D. H. Lee, J. Y. Kim, T. H. Han, B. H. Kim, M. Park, K. No, S. O. Kim, J. Mater. Chem. 2011, 21, 3432.
53. M. Qian, T. Feng, H. Ding, L. Lin, H. Li, Y. Chen, Z. Sun, Nanotechnology 2009, 20, 425702.
54. J. Wang, M. Zhu, X. Zhao, R. A. Outlaw, D. M. Manos, B. C. Holloway, C. Park, T. Anderson, V. P. Mammana, J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 1269.
55. R. H. Fowler, L. Nordheim, Proc. R. Soc. Lond. Ser. A 1928, 119, 173.
56. L. Nilsson, O. Groening, C. Emmenegger, O. Kuettel, E. Schaller, L. Schlapbach, H. Kind, J.-M. Bonard, K. Kern, Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 2071.
57. J. S. Suh, K. S. Jeong, J. S. Lee, I. Han, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2392.
58. D. H. Lee, J. A. Lee, W. J. Lee, S. O. Kim, Small 2011, 7, 95.
59. Y. Shi, K. K. Kim, A. Reina, M. Hofmann, L.-J. Li, J. Kong, ACS Nano 2010, 4, 2689.
60. F. GüneÅ, H.-J. Shin, C. Biswas, G. H. Han, E. S. Kim, S. J. Chae, J.-Y. Choi, Y. H. Lee, ACS Nano 2010, 4, 4595.
61. I. Gierz, C. Riedl, U. Starke, C. R. Ast, C. Kern, Nano Lett. 2008, 8, 4603.
62. N. Saran, K. Parikh, D.-S. Suh, E. Muñoz, H. Kolla, S. K. Manohar, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 4462.