Solid-phase crystallization of ultra high growth rate amorphous silicon films

Journal of Applied Physics

Volumn 111, Issue 10, 2012, Pages

  Sharma, K ^a   Ponomarev, M V ^a   Verheijen, M A ^a   Kunz, O ^b   Tichelaar, F D ^c   Van De Sanden, M C M ^a,d   Creatore, M ^a  

^a EINDHOVEN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^b CSG Solar Pty Ltd   (Australia)

^c DELFT UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (Netherlands)

^d FOM INSTITUTE FOR PLASMA PHYSICS RIJNHUIZEN   (Netherlands)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

A-SI:H; AMORPHOUS SILICON (A-SI:H); AMORPHOUS SILICON FILM; EXPANDING THERMAL PLASMAS; GRAIN SIZE; HIGH GROWTH RATE; LARGE-GRAIN; MICROSTRUCTURE PARAMETERS; SOLID-PHASE CRYSTALLIZATION; ULTRA-HIGH;

AMORPHOUS SILICON; METALLIC FILMS; POLYSILICON;

GROWTH RATE;

EID: 84862146386     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.4717951     Document Type: Conference Paper

References (34)

1. M. A. Green, P. A. Basore, N. Chang, D. Clugston, R. Egan, R. Evans, D. Hogg, S. Jarnason, M. Keevers, P. Lasswell, J. O'Sullivan, U. Schubert, A. Turner, S. R. Wenham, and T. Young, Sol. Energy 77, 857 (2004). 10.1016/j.solener.2004.06.023
2. M. A. Green, Appl. Phys. A 96, 153 (2009). 10.1007/s00339-009-5090-9
3. R. B. Bergmann, G. Oswald, M. Albrecht, and V. Gross, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 46, 147 (1997). 10.1016/S0927-0248(97)00006-8
4. A. Illiberi, K. Sharma, M. Creatore, and M. C. M. van de Sanden, Mater. Lett. 63, 1817 (2009). 10.1016/j.matlet.2009.05.044
5. K. Winer, G. B. Anderson, S. E. Ready, R. Z. Bachrach, R. I. Johnson, F. A. Ponce, and J. B. Boyce, Appl. Phys. Lett. 57, 2222 (1990). 10.1063/1.103897
6. A. T. Voutsas and M. K. Hatalis, J. Electron. Mater. 23, 319 (1994). 10.1007/BF02670642
7. A. H. Mahan, J. Carapella, B. P. Nelson, R. S. Crandall, and I. Balberg, J. Appl. Phys. 69, 6728 (1991). 10.1063/1.348897
8. A. H. Mahan, S. P. Ahrenkiel, R. E. I. Schropp, H. Li, and D. S. Ginley, Thin Solid Films 516, 529 (2008). 10.1016/j.tsf.2007.06.036
9. M. K. Hatalis and D. W. Greve, J. Appl. Phys. 63, 2260 (1988). 10.1063/1.341065
10. G. Morell, R. S. Katiyar, S. Z. Weisz, H. Jia, J. Shinar, and I. Balberg, J. Appl. Phys. 78, 5120 (1995). 10.1063/1.359743
11. H. Y. Kim, J. B. Choi, and J. Y. Lee, J. Vac. Sci. Technol. A 17, 3240 (1999). 10.1116/1.582049
12. K. Nakazawa and K. Tanaka, J. Appl. Phys. 68, 1029 (1990). 10.1063/1.346740
13. A. H. Mahan, T. N. Su, D. L. Williamson, L. M. Gedvilas, S. P. Ahrenkiel, P. A. Parilla, Y. Q. Xu, and D. A. Ginley, Adv. Funct. Mater. 19, 2338 (2009). 10.1002/adfm.200801709
14. R. B. Iverson and R. Reif, J. Appl. Phys. 62, 1675 (1987). 10.1063/1.339591
15. K. Sharma, A. Branca, A. Illiberi, F. D. Tichelaar, M. Creatore, and M. C. M. van de Sanden, Adv. Energy Mater. 1, 401 (2011). 10.1002/aenm.201000074
16. W. M. M. Kessels, R. J. Severens, A. H. M. Smets, B. A. Korevaar, G. J. Adriaenssens, D. C. Schram, and M. C. M. van de Sanden, J. Appl. Phys. 89, 2404 (2001). 10.1063/1.1338985
17. A. H. M. Smets, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Phys. Lett. 86, 0-7803 (2005). 10.1063/1.1853508
18. R. J. Severens, G. J. H. Brussaard, M. C. M. vandeSanden, and D. C. Schram, Appl. Phys. Lett. 67, 491 (1995). 10.1063/1.114546
19. A. H. M. Smets, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Phys. Lett. 82, 865 (2003). 10.1063/1.1543237
20. A. H. Mahan, B. Roy, R. C. Reedy, D. W. Readey, and D. S. Ginley, J. Appl. Phys. 99, (2006). 10.1063/1.2159550
21. B. Roy, A. H. Mahan, Q. Wang, R. Reed, D. W. Readey, and D. S. Ginley, Thin Solid Films 516, 6517 (2008). 10.1016/j.tsf.2008.03.003
22. A. H. M. Smets, W. M. M. Kessels, and M. C. M. van de Sanden, Appl. Phys. Lett. 82, 1547 (2003). 10.1063/1.1559657
23. S. Agarwal, M. S. Valipa, B. Hoex, M. C. M. van de Sanden, D. Maroudas, and E. S. Aydil, Surf. Sci. 598, 35 (2005). 10.1016/j.susc.2005.09.026
24. M. Daouahi, K. Zellama, H. Bouchriha, and P. Elkaim, Eur. Phys. J. Appl. Phys. 10, 185 (2000). 10.1051/epjap:2000131
25. M. Daouahi, A. Ben Othman, K. Zellama, L. Chahed, M. Essamet, and H. Bouchriha, Phys. Status Solidi (B) 231, 373 (2002). 10.1002/1521-3951(200206) 231:2<373::AID-PSSB373>3.0.CO;2-J
26. A. H. Mahan, Y. Xu, D. L. Williamson, W. Beyer, J. D. Perkins, M. Vanecek, L. M. Gedvilas, and B. P. Nelson, J. Appl. Phys. 90, 5038 (2001). 10.1063/1.1407317
27. L. Boufendi, M. C. Jouanny, E. Kovacevic, J. Berndt, and M. Mikikian, J. Phys. D: Appl. Phys. 44, 174035 (2011). 10.1088/0022-3727/44/17/174035
28. G. Faraci, S. Gibilisco, P. Russo, A. R. Pennisi, and S. La Rosa, Phys. Rev. B 73, (2006). 10.1103/PhysRevB.73.033307
29. G. Faraci, S. Gibilisco, A. R. Pennisi, and C. Faraci, J. Appl. Phys. 109, 074311 (2011). 10.1063/1.3567908
30. A. Gajovic, D. Gracin, I. Djerdj, N. Tomasic, K. Juraic, and D. S. Su, Appl. Surf. Sci. 254, 2748 (2008). 10.1016/j.apsusc.2007.10.014
31. R. Sinclair, J. Morgiel, A. S. Kirtikar, I. W. Wu, and A. Chiang, Ultramicroscopy 51, 41 (1993). 10.1016/0304-3991(93)90134-J
32. C. Spinella, S. Lombardo, and F. Priolo, J. Appl. Phys. 84, 5383 (1998). 10.1063/1.368873
33. M. S. Dabney, P. A. Parilla, L. M. Gedvilas, A. H. Mahan, and D. S. Ginley, Appl. Phys. Lett. 95, (2009). 10.1063/1.3259654
34. K. Sharma, M. A. Verheijen, M. C. M. van de Sanden, and M. Creatore, J. Appl. Phys. 111, 033508 (2012). 10.1063/1.3681185