Redox-active, organometallic surface-relief gratings from azobenzene-containing polyferrocenylsilane block copolymers

Advanced Materials

Volumn 24, Issue 7, 2012, Pages 926-931

  Ahmed, Rumman ^a   Priimagi, Arri ^b,c   Faul, Charl F J ^a   Manners, Ian ^a  

^a UNIVERSITY OF BRISTOL   (United Kingdom)

^b AALTO UNIVERSITY   (Finland)

^c Tokyo Institute of Technology ^*  (Japan)

Author keywords

azobenzene; ionic self assembly; polyferrocenylsilane block copolymer; redox activity; surface relief grating

Indexed keywords

AZOBENZENE CHROMOPHORE; EFFICIENT PRODUCTION; FEATURE SIZES; IONIC SELF-ASSEMBLY; PHOTO-INDUCED; PLASMA TREATMENT; POLYFERROCENYLSILANES; REDOX ACTIVITY; REDOX CHEMISTRY; REDOX-ACTIVE; SURFACE RELIEF GRATINGS;

AZOBENZENE; BLOCK COPOLYMERS; ORGANOMETALLICS; PLASMA APPLICATIONS; REDOX REACTIONS; SELF ASSEMBLY;

CHROMOPHORES;

AZO COMPOUND; AZOBENZENE; FERRIC ION; FERROUS ION; NANOMATERIAL; POLY(FERROCENYLSILANE); POLYMER; SILANE DERIVATIVE;

ARTICLE; CHEMISTRY; OXIDATION REDUCTION REACTION; SURFACE PROPERTY;

AZO COMPOUNDS; FERRIC COMPOUNDS; FERROUS COMPOUNDS; NANOSTRUCTURES; OXIDATION-REDUCTION; POLYMERS; SILANES; SURFACE PROPERTIES;

EID: 84856971008     PISSN: 09359648     EISSN: 15214095     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.201103793     Document Type: Article

References (76)

1. a) J. Z. Du, R. K. O'Reilly, Soft Matter 2009, 5, 3544
2. b) X. Zhang, S. Rehm, M. M. Safont-Sempere, F. Würthner, Nat. Chem. 2009, 1, 623
3. c) J. Kopecek, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2009, 47, 5929
4. d) G. ten Brinke, O. Ikkala, Chemical Record 2004, 4, 219
5. e) J. Rodriguez-Hernandez, F. Checot, Y. Gnanou, S. Lecommandoux, Prog. Polym. Sci. 2005, 30, 691.
6. a) D. P. Puzzo, A. C. Arsenault, I. Manners, G. A. Ozin, Angew. Chem. Int. Ed. 2009, 48, 943
7. b) D. P. Puzzo, L. D. Bonifacio, J. Oreopoulos, C. M. Yip, I. Manners, G. A. Ozin, J. Mater. Chem. 2009, 19, 3500.
8. Y. J. Ma, W. F. Dong, M. A. Hempenius, H. Mohwald, G. J. Vancso, Nat. Mater. 2006, 5, 724.
9. F. Ercole, T. P. Davis, R. A. Evans, Polym. Chem. 2010, 1, 37.
10. a) C. B. Gong, K. L. Wong, M. H. W. Lam, Chem. Mater. 2008, 20, 1353
11. b) G. D. Jaycox, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 2006, 44, 207
12. c) A. Khan, S. Hecht, Chem. Eur. J. 2006, 12, 4764
13. d) C. B. Gong, M. H. W. Lam, H. X. Yu, Adv. Funct. Mater. 2006, 16, 1759
14. e) K. G. Yager, C. J. Barrett, J. Photochem. Photobiol., A 2006, 182, 250.
15. a) C. J. Barrett, J. I. Mamiya, K. G. Yager, T. Ikeda, Soft Matter 2007, 3, 1249
16. b) A. Natansohn, P. Rochon, Chem. Rev. 2002, 102, 4139.
17. a) P. Rochon, E. Batalla, A. Natansohn, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 136
18. b) D. Y. Kim, S. K. Tripathy, L. Li, J. Kumar, Appl. Phys. Lett. 1995, 66, 1166.
19. a) N. K. Viswanathan, D. Y. Kim, S. Bian, W. Liu, L. Li, L. Samuelson, J. Kumar, S. K. Tripathy, J. Mater. Chem. 1999, 9, 1941
20. b) T. Alasaarela, D. Zheng, L. Huang, A. Priimagi, B. Bai, A. Tervonen, S. Honkanen, M. Kuittinen, J. Turunen, Opt. Lett. 2011, 36, 2411
21. c) S. Lee, H. S. Kang, J. Park, Adv. Funct. Mater. 2011, 21, 1770
22. d) A. Kravchenko, A. Shevchenko, V. Ovchinnikov, A. Priimagi, M. Kaivola, Adv. Mater. 2011, 23, 4174
23. e) Y. Gritsai, L. M. Goldenberg, O. Kulikovska, J. Stumpe, J. Opt. A: Pure Appl. Opt. 2008, 10, 125304.
24. T. Ubukata, T. Isoshima, M. Hara, Adv. Mater. 2005, 17, 1630.
25. Y. Morikawa, S. Nagano, K. Watanabe, K. Kamata, T. Iyoda, T. Seki, Adv. Mater. 2006, 18, 883.
26. F. S. Bates, G. H. Fredrickson, Annu. Rev. Phys. Chem. 1990, 41, 525.
27. a) H. Yu, T. Iyoda, T. Ikeda, J. Am. Chem. Soc. 2006, 128, 11010
28. b) Y. Zhao, J. He, Soft Matter 2009, 5, 2686
29. c) H. Yu, T. Kobayashi, Molecules 2010, 15, 570.
30. a) Y. Zakrevskyy, J. Stumpe, C. F. J. Faul, Adv. Mater. 2006, 18, 2133
31. b) Y. Zakrevskyy, J. Stumpe, B. Smarsly, C. F. J. Faul, Phys. Rev. E 2007, 75, 031703
32. c) T. Kato, N. Hirota, A. Fujishima, J. M. J. Frechet, J. Polym. Sci., Part A: Polym. Chem. 1996, 34, 57.
33. a) S. Yagai, A. Kitamura, Chem. Soc. Rev. 2008, 37, 1520
34. b) T. Kato, N. Mizoshita, K. Kishimoto, Angew. Chem. Int. Ed. 2006, 45, 38.
35. a) O. Kulikovska, L. M. Goldenberg, J. Stumpe, Chem. Mater. 2007, 19, 3343
36. b) Q. Zhang, X. Wang, C. J. Barrett, C. G. Bazuin, Chem. Mater. 2009, 21, 3216.
37. a) A. Priimagi, K. Lindfors, M. Kaivola, P. Rochon, ACS Appl. Mater. Interfaces 2009, 1, 1183
38. b) J. Gao, Y. N. He, F. Liu, X. Zhang, Z. Q. Wang, X. G. Wang, Chem. Mater. 2007, 19, 3877
39. c) J. Vapaavuori, A. Priimagi, M. Kaivola, J. Mater. Chem. 2010, 20, 5260.
40. N. Zettsu, T. Ogasawara, N. Mizoshita, S. Nagano, T. Seki, Adv. Mater. 2008, 20, 516.
41. L. M. Goldenberg, L. Kulikovsky, O. Kulikovska, J. Stumpe, J. Mater. Chem. 2009, 19, 8068.
42. a) I. Manners, Chem. Commun. 1999, 857
43. b) V. Bellas, M. Rehahn, Angew. Chem. Int. Ed. 2007, 46, 5082
44. c) G. R. Whittell, M. D. Hager, U. S. Schubert, I. Manners, Nat. Mater. 2011, 10, 176.
45. Y. Z. Ni, R. Rulkens, I. Manners, J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 4102.
46. a) M. Peter, M. A. Hempenius, E. S. Kooij, T. A. Jenkins, S. J. Roser, W. Knoll, G. J. Vancso, Langmuir 2004, 20, 891
47. b) H. B. Eitouni, N. P. Balsara, J. Am. Chem. Soc. 2004, 126, 7446
48. c) D. A. Rider, M. A. Winnik, I. Manners, Chem. Commun. 2007, 4483
49. d) J. C. Eloi, D. A. Rider, G. Cambridge, G. R. Whittell, M. A. Winnik, I. Manners, J. Am. Chem. Soc. 2011, 133, 8903
50. e) D. P. Puzzo, A. C. Arsenault, I. Manners, G. A. Ozin, Angew. Chem. Int. Ed. 2009, 48, 943.
51. a) V. P. Chuang, C. A. Ross, J. Gwyther, I. Manners, Adv. Mater. 2009, 21, 3789
52. b) J. Y. Cheng, C. A. Ross, V. Z. H. Chan, E. L. Thomas, R. G. H. Lammertink, G. J. Vancso, Adv. Mater. 2001, 13, 1174
53. c) C. Acikgoz, X. Y. Ling, I. Y. Phang, M. A. Hempenius, D. N. Reinhoudt, J. Huskens, G,. J. Vancso, Adv. Mater. 2009, 21, 2064
54. d) I. Korczagin, R. G. H. Lammertink, M. A. Hempenius, S. Golze, G. J. Vancso, Adv. Polym. Sci. 2006, 200, 91
55. e) J. Lu, D. Chamberlin, D. A. Rider, M. Liu, I. Manners, T. P. Russell, Nanotechnology 2006, 17, 5792.
56. C. Paquet, P. W. Cyr, E. Kumacheva, I. Manners, Chem. Mater. 2004, 16, 5205.
57. a) C. Hinderling, Y. Keles, T. Stockli, H. E. Knapp, T. de los Arcos, P. Oelhafen, I. Korczagin, M. A. Hempenius, G. J. Vancso, R. L. Pugin, H. Heinzelmann, Adv. Mater. 2004, 16, 876
58. b) S. Lastella, Y. J. Jung, H. C. Yang, R. Vajtai, P. M. Ajayan, C. Y. Ryu, D. A. Rider, I. Manners, J. Mater. Chem. 2004, 14, 1791
59. c) J. Q. Lu, T. E. Kopley, N. Moll, D. Roitman, D. Chamberlin, Q. Fu, J. Liu, T. P. Russell, D. A. Rider, I. Manners, M. A. Winnik, Chem. Mater. 2005, 17, 2227.
60. D. A. Rider, K. Liu, J. C. Eloi, L. Vanderark, L. Yang, J. Y. Wang, D. Grozea, Z. H. Lu, T. P. Russell, I. Manners, ACS Nano 2008, 2, 263.
61. W. Q. Shi, M. I. Giannotti, X. Zhang, M. A. Hempenius, H. Sconherr, G. J. Vancso, Angew. Chem. Int. Ed. 2007, 46, 8400.
62. a) C. F. J. Faul, M. Antonietti, Adv. Mater. 2003, 15, 673
63. b) B. H. Ozer, B. Smarsly, M. Antonietti, C. F. J. Faul, Soft Matter 2006, 2, 329
64. c) N. Houbenov, A. Nykanen, H. Iatrou, J. Ruokolainen, N. Hadjichristidis, C. F. J. Faul, I. Ikkala, Adv. Funct. Mater. 2008, 18, 2041
65. d) T. R. Zhang, J. Brown, R. J. Oakley, C. F. J. Faul, Curr. Opin. Coll. Interface Sci. 2009, 14, 62.
66. M. Tanabe, G. W. M. Vandermeulen, W. Y. Chan, P. W. Cyr, L. Vanderark, D. A. Rider, I. Manners, Nat. Mater. 2006, 5, 467.
67. a) L. G. Marino, R. Raschella, P. P. Lottici, D. Bersani, J. Non-Cryst. Solids 2008, 354, 688
68. b) A. Priimagi, S. Cattaneo, R. H. A. Ras, S. Valkama, O. Ikkala, M. Kauranen, Chem. Mater. 2005, 17, 5798.
69. a) Q. Zhang, C. G. Bazuin, C. J. Barrett, Chem. Mater. 2008, 20, 29
70. b) A. Priimagi, J. Vapaavuori, F. J. Rodriguez, C. F. J. Faul, M. T. Heino, O. Ikkala, M. Kauranen, M. Kaivola, Chem. Mater. 2008, 20, 6358
71. c) S. Wu, S. Y. Duan, Z. Y. Lei, W. Su, Z. S. Zhang, K. Y. Wang, Q. J. Zhang, J. Mater. Chem. 2010, 20, 5202
72. d) J. Vapaavuori, V. Valtavirta, T. Alasaarela, J. Mamiya, A. Priimagi, A. Shishido, M. Kaivola, J. Mater. Chem. 2011, 21, 15437.
73. H. F. Yu, K. Okano, A. Shishido, T. Ikeda, K. Kamata, M. Komura, T. Iyoda, Adv. Mater. 2005, 17, 2184.
74. Z. Wang, G. Masson, F. C. Peiris, G. A. Ozin, I. Manners, Chem. Eur. J. 2007, 13, 9372.
75. D. A. Rider, K. A. Cavicchi, K. N. Power-Billard, T. P. Russell, I. Manners, Macromolecules 2005, 38, 6931.
76. R. Ahmed, S. K. Patra, L. Chabanne, C. F. J. Faul, I. Manners, Macromolecules 2011, 44, 9324.