Mechanism of self-catalytic atomic layer deposition of silicon dioxide using 3-aminopropyl triethoxysilane, water, and ozone

Chemistry of Materials

Volumn 23, Issue 9, 2011, Pages 2312-2316

  Rai, Vikrant R ^a   Agarwal, Sumit ^a  

^a Department of Metallurgical and Materials Engineering   (United States)

Author keywords

aluminum oxide; APTES; atomic layer deposition; ATR FTIR spectroscopy; ozone

Indexed keywords

ALUMINUM OXIDES; AMINOPROPYL; AMINOPROPYL GROUPS; APTES; ATR-FT-IR SPECTROSCOPY; ATTENUATED TOTAL REFLECTIONS; BASIC CATALYSTS; COMBUSTION PRODUCTS; IN-SITU; MONODENTATES; OH GROUP; REACTIVE SITE; SELF-CATALYTIC; SILICON DIOXIDE; SURFACE OH GROUP; SURFACE REACTION MECHANISM; TRIETHOXYSILANE;

ALUMINUM; ALUMINUM COATINGS; ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMIC SPECTROSCOPY; ATOMS; CHEMISORPTION; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; LIGANDS; OZONE; OZONE LAYER; SILICA; SILICON OXIDES;

SURFACE REACTIONS;

EID: 79955674801     PISSN: 08974756     EISSN: 15205002     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm103052t     Document Type: Article

References (43)

1. Robertson, J. Rep. Prog. Phys. 2006, 69, 327
2. Methaapanon, R.; Bent, S. F. J. Phys. Chem. C 2010, 114, 10498
3. Ho, M. T.; Wang, Y.; Brewer, R. T.; Wielunski, L. S.; Chabal, Y. J.; Moumen, N.; Boleslawski, M. Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 133103
4. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121
5. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 52
6. Zhong, L. J.; Chen, F.; Campbell, S. A.; Gladfelter, W. L. Chem. Mater. 2004, 16, 1098
7. Rowlette, P. C.; Wolden, C. A. ACS Appl. Mater. Interfaces 2009, 1, 2586
8. Lee, J. Y.; Glunz, S. W. Sol. Energy Mater. Sol. Cells 2006, 90, 82
9. Waggoner, P. S.; Tan, C. P.; Craighead, H. G. J. Appl. Phys. 2010, 107, 114505
10. Ferguson, J. D.; Weimer, A. W.; George, S. M. Chem. Mater. 2000, 12, 3472
11. Lee, J. H.; Kim, U. J.; Han, C. H.; Rha, S. K.; Lee, W. J.; Park, C. O. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, L328
12. Lim, J. W.; Yun, S. J.; Lee, J. H. ETRI J. 2005, 27, 118
13. Gasser, W.; Uchida, Y.; Matsumura, M. Thin Solid Films 1994, 250, 213
14. Ferguson, J. D.; Smith, E. R.; Weimer, A. W.; George, S. M. J. Electrochem. Soc. 2004, 151, G528
15. Miller, K. A.; John, C.; Zhang, K. Z.; Nicholson, K. T.; McFeely, F. R.; Holl, M. M. B. Thin Solid Films 2001, 397, 78
16. Burton, B. B.; Boleslawski, M. P.; Desombre, A. T.; George, S. M. Chem. Mater. 2008, 20, 7031
17. Bachmann, J.; Zierold, R.; Chong, Y. T.; Hauert, R.; Sturm, C.; Schmidt-Grund, R.; Rheinlander, B.; Grundmann, M.; Gosele, U.; Nielsch, K. Angew. Chem.-Int. Ed. 2008, 47, 6177
18. Rai, V. R.; Vandalon, V.; Agarwal, S. Langmuir 2010, 26, 13732
19. Rai, V. R.; Agarwal, S. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9552
20. Rai, V. R.; Agarwal, S. J. Phys. Chem. C 2009, 113, 12962
21. Agarwal, S.; Sriraman, S.; Takano, A.; van de Sanden, M. C. M.; Aydil, E. S.; Maroudas, D. Surf. Sci. 2002, 515, L469
22. Agarwal, S.; Valipa, M. S.; Hoex, B.; van de Sanden, M. C. M.; Maroudas, D.; Aydil, E. S. Surf. Sci. 2005, 598, 35
23. Chabal, Y. J. Surf. Sci. Rep. 1988, 8, 211
24. Agarwal, S.; Takano, A.; van de Sanden, M. C. M.; Maroudas, D.; Aydil, E. S. J. Chem. Phys. 2002, 117, 10805
25. Agarwal, S.; Hoex, B.; van de Sanden, M. C. M.; Maroudas, D.; Aydil, E. S. J. Vac. Sci. Technol. B 2004, 22, 2719
26. Buining, P. A.; Humbel, B. M.; Philipse, A. P.; Verkleij, A. J. Langmuir 1997, 13, 3921
27. White, L. D.; Tripp, C. P. J. Colloid Interface Sci. 2000, 232, 400
28. Deshmukh, S. C.; Aydil, E. S. J. Vac. Sci. Technol. A 1995, 13, 2355
29. Durig, J. R.; Beshir, W. B.; Godbey, S. E.; Hizer, T. J. J. Raman Spectrosc. 1989, 20, 311
30. Pena-Alonso, R.; Rubio, F.; Rubio, J.; Oteo, J. L. J. Mater. Sci. 2007, 42, 595
31. Pasternack, R. M.; Amy, S. R.; Chabal, Y. J. Langmuir 2008, 24, 12963
32. Tedder, L. L.; Lu, G. Q.; Crowell, J. E. J. Appl. Phys. 1991, 69, 7037
33. Sato, N.; Hamada, Y.; Tsuboi, M. Spectrochim. Acta, Part A 1987, 43, 943
34. Mikawa, Y.; Brasch, J. W.; Jakobsen, R. J. J. Mol. Spectrosc. 1967, 24, 314
35. Chen, M. T.; Lin, Y. S.; Lin, Y. F.; Lin, H. P.; Lin, J. L. J. Catal. 2004, 228, 259
36. Huang, J. Y.; Huang, H. G.; Lin, K. Y.; Liu, Q. P.; Sun, Y. M.; Xu, G. Q. Surf. Sci. 2004, 549, 255
37. Tanaka, S.; Onchi, M.; Nishijima, M. J. Chem. Phys. 1989, 91, 2712
38. Cabilla, G. C.; Bonivardi, A. L.; Baltanas, M. A. Appl. Catal., A 2003, 255, 181
39. Gupta, P.; Dillon, A. C.; Bracker, A. S.; George, S. M. Surf. Sci. 1991, 245, 360
40. Davis, K. M.; Tomozawa, M. J. Non-Cryst. Solids 1996, 201, 177
41. Li, G. X.; Ridd, M. J.; Larkins, F. P. Aust. J. Chem. 1991, 44, 623
42. Goldstein, D. N.; McCormick, J. A.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 19530
43. Busca, G.; Lorenzelli, V. Mater. Chem. 1982, 7, 89