Surface reaction mechanisms during plasma-assisted atomic layer deposition of titanium dioxide

Journal of Physical Chemistry C

Volumn 113, Issue 30, 2009, Pages 12962-12965

  Rai, Vikrant R ^a   Agarwal, Sumit ^a  

^a Department of Geology and Geological Engineering   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANATASE CRYSTALS; GROWTH PER CYCLE; IN-SITU; METAL CARBONATES; METAL PRECURSOR; REACTION MECHANISM; REACTIVE SITE; SURFACE HYDROXYL GROUPS; SURFACE REACTION MECHANISM; TIO; TITANIUM TETRAISOPROPOXIDE;

ATOMIC LAYER DEPOSITION; ATOMS; CHEMISORPTION; CRYSTAL STRUCTURE; FOURIER TRANSFORM INFRARED SPECTROSCOPY; GROWTH (MATERIALS); PLASMA DEPOSITION; PLASMAS; PULSED LASER DEPOSITION; SPECTROSCOPIC ANALYSIS; SPECTROSCOPY; SURFACE REACTIONS; TITANIUM; TITANIUM DIOXIDE; TITANIUM OXIDES;

AMORPHOUS FILMS;

EID: 68349106863     PISSN: 19327447     EISSN: 19327455     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp903669c     Document Type: Article

References (39)

1. Diebold, U. Surf. Sci. Rep. 2003, 48, 53.
2. George, S. M.; Ott, A. W.; Klaus, J. W. J. Phys. Chem. 1996, 100, 13121.
3. Aarik, J.; Aidla, A.; Uustare, T.; Ritala, M.; Leskela, M. Appl. Surf. Sci. 2000, 161, 385.
4. Ritala, M.; Leskela, M.; Niinisto, L.; Haussalo, P. Chem. Mater. 1993, 5, 1174.
5. Ritala, M.; Leskela, M.; Nykanen, E.; Soininen, P.; Niinisto, L. Thin Solid Films 1993, 225, 288.
6. Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M.; Leskela, M.; Sajavaara, T. Thin Solid Films 2000, 368, 1.
7. Lim, J. W.; Yun, S. J.; Lee, J. H. Electrochem. Solid State Lett. 2004, 7, F73.
8. Kim, S. K.; Kim, W. D.; Kim, K. M.; Hwang, C. S.; Jeong, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4112.
9. Rai, V. R.; Agarwal, S. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 9552.
10. Goldstein, D. N.; McCormick, J. A.; George, S. M. J. Phys. Chem. C 2008, 112, 19530.
11. Matero, R.; Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Mater. 2001, 13, 4506.
12. Rahtu, A.; Ritala, M. Chem. Vapor Depos. 2002, 8, 21.
13. Heil, S. B. S.; Kudlacek, P.; Langereis, E.; Engeln, R.; Van De Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 3.
14. Puurunen, R. L. J. Appl. Phys. 2005, 97, 52.
15. Harrick, N. J. Internal Reflection Spectroscopy; John Wiley: New York, 1967.
16. Van Hemmen, J. L.; Heil, S. B. S.; Klootwijk, J. H.; Roozeboom, F.; Hodson, C. J.; Van De Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Electrochem. Soc. 2007, 154, G165.
17. Szymanski, S. F.; Seman, M. T.; Wolden, C. A. Surf. Coat. Technol. 2007, 201, 8991.
18. Langereis, E.; Heil, S. B. S.; Knoops, H. C. M.; Keuning, W.; Van De Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. J. Phys. D-Appl. Phys. 2009, 42, 19.
19. Lynch, C. T.; Mazdiyasni, K. S.; Crawford, W. J.; Smith, J. S. Anal. Chem. 1964, 36, 2332.
20. Moran, P. D.; Bowmaker, G. A.; Cooney, R. P.; Finnie, K. S.; Bartlett, J. R.; Woolfrey, J. L. Inorg. Chem. 1998, 37, 2741.
21. Ferguson, J. D.; Yoder, A. R.; Weimer, A. W.; George, S. M. Appl. Surf. Sci. 2004, 226, 393.
22. Primet, M.; Pichat, P.; Mathieu, M. V. J. Phys. Chem. 1971, 75, 1216.
23. Baltrusaitis, J.; Jensen, J. H.; Grassian, V. H. J. Phys. Chem. B 2006, 110, 12005.
24. Busca, G.; Lorenzelli, V. Mater. Chem. 1982, 7, 89.
25. Pokrovski, K.; Jung, K. T.; Bell, A. T. Langmuir 2001, 17, 4297.
26. Primet, M.; Pichat, P.; Mathieu, M. V. J. Phys. Chem. 1971, 75, 1221.
27. Yates, D. J. C. J. Phys. Chem. 1961, 65, 746.
28. Henderson, M. A. Surf. Sci. 1998, 400, 203.
29. Tanaka, K.; White, J. M. J. Phys. Chem. 1982, 86, 4708.
30. Dutta, P. K.; Ginwalla, A.; Hogg, B.; Patton, B. R.; Chwieroth, B.; Liang, Z.; Gouma, P.; Mills, M.; Akbar, S. J. Phys. Chem. B 1999, 103, 4412.
31. Busca, G.; Saussey, H.; Saur, O.; Lavalley, J. C.; Lorenzelli, V. App. Catal. 1985, 14, 245.
32. Wong, J. C. S.; Linsebigler, A.; Lu, G. Q.; Fan, J. F.; Yates, J. T. J. Phys. Chem. 1995, 99, 335.
33. Langereis, E.; Keijmel, J.; Van De Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. Appl. Phys. Lett. 2008, 92, 3.
34. Pecharroman, C.; Gracia, F.; Holgado, J. P.; Ocana, M.; Gonzalez-Elipe, A. R.; Bassas, J.; Santiso, J.; Figueras, A. J. Appl. Phys. 2003, 93, 4634.
35. Busani, T.; Devine, R. A. B. Semicond. Sci. Technol. 2005, 20, 870.
36. Scarel, G.; Hirschmugl, C. J.; Yakovlev, V. V.; Sorbello, R. S.; Aita, C. R.; Tanaka, H.; Hisano, K. J. Appl. Phys. 2002, 91, 1118.
37. Niskanen, A.; Arstila, K.; Leskela, M.; Ritala, M. Chem. Vapor Depos. 2007, 13, 152.
38. Keuning, W.; Langereis, E.; Van Hemmen, J. L.; Muraza, O.; Rebrov, E.; Van De Sanden, M. C. M.; Kessels, W. M. M. Remote plasma ALD of amorphous and anatase TiO2 studied by in-situ spectroscopic ellipsometry, 8th International Conferece on Atomic Layer Deposition, Bruges, Belgium, The Netherlands, June 29-July 2, 2008; American Vacuum Society: New York, 2008.
39. Pore, V.; Rahtu, A.; Leskela, M.; Ritala, M.; Sajavaara, D.; Keinonen, J. Chem. Vapor Depos. 2004, 10, 143.