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Volumn 247, Issue 6, 2010, Pages 1310-1321

Arbitrarily shaped Si nanostructures by glancing angle ion beam sputter deposition

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EID: 77954167971     PISSN: 03701972     EISSN: 15213951     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssb.200945525     Document Type: Article
Times cited : (27)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.