Al2O3/ZrO2 Nanolaminates as ultrahigh gas-diffusion barriersa strategy for reliable encapsulation of organic electronics

Advanced Materials

Volumn 21, Issue 18, 2009, Pages 1845-1849

  Meyer, Jens ^a   Görrn, Patrick ^a   Bertram, Franz ^a   Hamwi, Sami ^a   Winkler, Thomas ^a   Johannes, Hans Hermann ^a   Weimann, Thomas ^b   Hinze, Peter ^b   Riedl, Thomas ^a   Kowalsky, Wolfgang ^a  

^a TECHNICAL UNIVERSITY OF BRAUNSCHWEIG   (Germany)

^b PHYSIKALISCH TECHNISCHE BUNDESANSTALT   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ALTERNATING LAYERS; ALTERNATING MULTILAYERS; CLIMATIC CHAMBER; CONTROLLED ENVIRONMENT; CROSS-SECTIONAL TEM; ENCAPSULATION LAYER; GAS DIFFUSION; NANO-LAMINATES; NANO-METER SCALE; NANOLAMINATE; ORGANIC ELECTRONICS; PERMEATION TEST; ULTRA-THIN; VOID FORMATION;

ALUMINUM; CALCIUM; COMPOSITE FILMS; CRYSTAL STRUCTURE; GAS PERMEABLE MEMBRANES; ZIRCONIUM ALLOYS;

HIGH RESOLUTION TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

EID: 66749120161     PISSN: 09359648     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adma.200803440     Document Type: Article

References (38)

1. P. E. Burrows, V. Bulovic, S. R. Forrest, L. S. Sapochack, D. M. McCarty, M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2922.
2. P. E. Burrows, G. L. Graff, M. E. Gross, P. M. Martin, M. Hall, E. Mast, C. Bonham, W. Bennet, L. Michalski, M. S. Weaver, J. J. Brown, D. Fogarty, L. S. Sapochack, Proc. SPIE 2000, 4105, 75.
3. G. Nisato, M. Kuilder, P. Bouten, L. Moro, O. Philips, N. Rutherford, SID Symp. Dig. Tech. Papers 2003, 34, 550.
4. J.-H. Lee, C.-I. Wu, S.-W. Liu, C.-A. Huang, Y. Chang, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 103506.
5. E. Guenther, R. S. Kumar, F. Zhu, H. Y. Low, K. S. Ong, M. D. J. Auch, K. Zhang, S.-J. Chua, Proc. SPIE 2002, 4464, 23.
6. A. S. da Silva Sobrinho, M. Latrèche, G. Czeremuszkin, J. E. Klemberg-Sapieha, M. R. Wertheimer, J. Vac. Sci. Technol. A 1998, 16, 3190.
7. G. L. Graff, R. E. Williford, P. E. Burrows, J. Appl. Phys. 2004, 96, 1840.
8. C. Charton, N. Schiller, M. Fahland, A. Holländer, A. Wedel, K. Noller, Thin Solid Films 2006, 502, 99.
9. S. Suntola, Appl. Surf. Sci. 1996, 391, 100.
10. O. Sneh, R. B. Clark-Phelps, A. R. Londergan, J. Winkler, T. E. Seidel, Thin Solid Films 2002, 402, 248.
11. S. J. Yun, Y.-W. Ko, J. W. Lim, Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 4896.
12. A. P. Ghosh, L. J. Gerenser, C. M. Jarman, J. E. Fornalik, Appl. Phys. Lett. 2005, 86, 223503.
13. P. F. Carcia, R. S. McLean, M. H. Reilly, M. D. Groner, S. M. George, Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 031915.
14. Y. Shirota, H. Kageyama, Chem. Rev. 2007, 107, 953.
15. R. Paetzold, A. Winnacker, D. Henseler, V. Cesari, K. Heuser, Rev. Sci. Instrum. 2003, 74, 5147.
16. J. H. Choi, Y. M. Kim, Y. W. Park, J. W. Huh, B. W. Ju, I. S. Kim, H. N. Hwang, Rev. Sci. Instrum. 2007, 78, 064701.
17. R. Paetzold, D. Henseler, K. Heuser, V. Cesari, W. Sarfert, G. Wittmann, A. Winnacker, Proc. SPIE 2004, 5214, 73.
18. Y. G. Tropsha, N. G. Harvey, J. Phys. Chem. B 1997, 101, 2259.
19. R. H. Doremus, J. Appl. Phys. 2004, 95, 3217.
20. A. S. da Silva Sobrinho, G. Czeremuszkin,M. Latrèche, M. R. Wertheimer, J. Vac. Sci. Technol. A 2000, 18, 149.
21. M. Ritala, M. Leskelä, J.-P. Dekker, C. Mutsaers, P. J. Soininen, J. Skarp, Chem. Vap. Deposition 1999, 5, 7.
22. H. Chatham, Surf. Coat. Technol. 1996, 78, 1.
23. Y. Kim, S. M. Lee, C. S. Park, S. I. Lee, M. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 1997, 71, 3604.
24. M. D. Groner, F. H. Fabreguette, J. W. Elam, S. M. George, Chem. Mater. 2004, 16, 639.
25. K. Shimizu, G. E. Thompson, G. C. Wood, Thin Solid Films 1981, 77, 313.
26. S. D. Elliott, G. Scarel, C. Wiemer,M. Fanciulli, G. Pavia, Chem.Mater. 2006, 18, 3764.
27. A. C. Dillon, A. W. Ott, J. D. Way, S. M. George, Surf. Sci. 1995, 322, 230.
28. A. W. Ott, J. W. Klaus, J. M. Johnson, S.M. George, Thin Solid Films 1997, 292, 135.
29. H. Kattelus, M. Ylilammi, J. Saarilahti, J. Antson, S. Lindfors, Thin Solid Films 1993, 225, 296.
30. K. Kukli, J. Ihanus, M. Ritala, M. Leskela, Appl. Phys. Lett. 1996, 68, 3737.
31. J. W. Elam, Z. A. Sechrist, S. M. George, Thin Solid Films 2002, 414, 43.
32. C. R. Aita, M. D. Wiggins, R. Whig, C. M. Scanlan, M. Gajdardziska- Josifovska, J. Appl. Phys. 1996, 79, 1176.
33. A. A. Dameron, S. D. Davidson, B. B. Burton, P. F. Carcia, R. S. McLean, S. M. George, J. Phys. Chem. C 2008, 112, 4573.
34. C. M. Scanlan,M. Gajdardziska-Josifovska, C. R. Aita, Appl. Phys. Lett. 1994, 64, 3548.
35. D. M. Hausmann, E. Kim, J. Becker, R. G. Gordon, Chem. Mater. 2002, 14, 4350.
36. U. Brossmann, R. Würschum, U. Södervall, H.-E. Schaefer, J. Appl. Phys. 1999, 85, 7646.
37. C. Zhao, O. Richard, H. Bender, M. Caymax, S. De Gendt, M. Heyns, E. Young, G. Roebben, O. Van Der Biest, S. Haukka, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 2374.
38. W. F. A. Besling, E. Young, T. Conard, C. Zhao, R. Carter, W. Vandervorst, M. Caymax, S. De Gendt, M. Heyns, J. Maes, M. Tuominen, S. Haukka, J. Non-Cryst. Solids 2002, 303, 123.